模电场效应管及其基本电路PPT学习教案.pptx

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1、会计学1模电场效应管及其基本模电场效应管及其基本(jbn)电路电路第一页，共90页。27 二月 20232场效应晶体管（场效应管）利用多数载流子的漂移(pio y)运动形成电流。场效应管FET(Field Effect Transistor)结型场效应管JFET绝缘(juyun)栅场效应管 IGFET双极型晶体管主要是利用基区非平衡少数载流子的扩散运动形成电流。第1页/共90页第二页，共90页。27 二月 20233JFET：利用栅源电压（输入电压）对耗尽层厚度的控制来改变导电(dodin)沟道的宽度，从而实现对漏极电流（输出电流）的控制。IGFET：利用栅源电压（输入电压）对半导体表面(bi

2、omin)感生电荷量的控制来改变导电沟道的宽度，从而实现对漏极电流（输出电流）的控制。FET输入电压输出电流第2页/共90页第三页，共90页。27 二月 20234N沟道(u do)P沟道(u do)增强型耗尽型N沟道P沟道N沟道P沟道（耗尽型）FET场效应管JFET结型MOSFET绝缘栅型(IGFET)分类：第3页/共90页第四页，共90页。27 二月 2023531 结型场效应管 311 结型场效应管的结构(jigu)及工作原理N型沟道PPDGSDSG(a)N沟道(u do)JFET图31结型场效应管的结构示意图及其表示符号Gate栅极Source源极Drain 漏极箭头方向表示栅源间PN

3、结若加正向偏置电压时栅极电流的实际流动方向ID实际流向结型场效应三极管的结构.avi第4页/共90页第五页，共90页。27 二月 20236P型沟道NNDGSDSG(b)P沟道(u do)JFET图31结型场效应管的结构(jigu)示意图及其表示符号ID实际流向第5页/共90页第六页，共90页。27 二月 20237图31 结型场效应管的结构(jigu)示意图和符号 第6页/共90页第七页，共90页。27 二月 20238工作(gngzu)原理 图 42 当UDS=0时UGS对导电沟道的影响(yngxing)示意1.UGS对导电沟道的影响 第7页/共90页第八页，共90页。27 二月 2023

4、9NDGSPP(a)UGS=0，沟道(u do)最宽图32栅源电压UGS对沟道(u do)的控制作用示意图第8页/共90页第九页，共90页。27 二月 202310(b)UGS负压(f y)增大，沟道变窄DSPPUGS图32栅源电压UGS对沟道的控制(kngzh)作用示意图横向电场作用：UGS PN结耗尽层宽度 沟道宽度第9页/共90页第十页，共90页。27 二月 202311(c)UGS负压(f y)进一步增大，沟道夹断图32栅源电压UGS对沟道的控制(kngzh)作用示意图DSPPUGSUGSoff夹断电压第10页/共90页第十一页，共90页。27 二月 202312图33JFET的转移(

5、zhuny)特性曲线和输出特性曲线(a)转移(zhuny)特性曲线；(b)输出特性曲线 第11页/共90页第十二页，共90页。27 二月 2023132.ID与UDS、UGS之间的关系(gun x)图 33 UDS对导电沟道(u do)和ID的影响 第12页/共90页第十三页，共90页。27 二月 202314312 结型场效应管的特性(txng)曲线一、转移特性(txng)曲线式中：IDSS饱和电流，表示uGS=0时的iD值；UGSoff夹断电压，表示uGS=UGSoff时iD为零。恒流区中：uGS0，iD0第13页/共90页第十四页，共90页。27 二月 2023152.转移特性(txng

6、)曲线 图4 5 N沟道结型场效应管的转移(zhuny)特性曲线 第14页/共90页第十五页，共90页。27 二月 202316 根据(gnj)工作情况,输出特性可划分为4个区域,即:可变电阻区、恒流区、击穿区和截止区。第15页/共90页第十六页，共90页。27 二月 202317二、输出特性曲线(qxin)1.可变电阻区iD的大小同时(tngsh)受uGS 和uDS的控制。栅、漏间电压uGDUGSoff（或uDSUGSoff预夹断前所对应的区域。uGS0，uDS0第16页/共90页第十七页，共90页。27 二月 202318图33JFET的转移特性(txng)曲线和输出特性(txng)曲线(

7、a)转移特性(txng)曲线；(b)输出特性(txng)曲线 第17页/共90页第十八页，共90页。27 二月 202319 当uDS很小时，uDS对沟道的影响(yngxing)可以忽略，沟道的宽度及相应的电阻值仅受uGS的控制。输出特性可近似为一组直线，此时，JFET可看成一个受uGS控制的可变线性电阻器（称为JFET的输出电阻）；当uDS较大时，uDS对沟道的影响就不能忽略，致使(zhsh)输出特性曲线呈弯曲状。第18页/共90页第十九页，共90页。27 二月 2023202.恒流区iD的大小(dxio)几乎不受uDS的控制。预夹断(ji dun)后所对应的区域。栅、漏间电压uGDuGSU

8、GSoff）栅、源间电压uGSUGSoff第19页/共90页第二十页，共90页。27 二月 202321(1)当UGSoffuGS0 时，uGS变化，曲线平移，iD与uGS符合(fh)平方律关系，uGS对iD的控制能力很强。(2)uGS固定(gdng)，uDS增大，iD增大极小。第20页/共90页第二十一页，共90页。27 二月 2023224.击穿(j chun)区随着uDS增大(zn d)，靠近漏区的 PN结反偏电压 uDG(=uDSuGS)也随之增大(zn d)。当UGSUGSoff时，沟道被全部夹断，iD=0，故此区为截止区。3.截止区第21页/共90页第二十二页，共90页。27 二月

9、 202323 图34 uDS对导电沟道(u do)的影响GD(2V)S(0V)4567.5设第22页/共90页第二十三页，共90页。27 二月 202324综上分析(fnx)可知 沟道中只有一种类型的多数载流子参与导电(dodin)，所以场效应管也称为单极型三极管。JFET是电压控制电流器件，iD受vGS控制预夹断前iD与vDS呈近似线性关系；预夹断后，iD趋于饱和。#为什么为什么JFETJFET的输入电阻比的输入电阻比BJTBJT高得多？高得多？JFET栅极与沟道间的PN结是反向偏置的，因 此iG0，输入电阻很高。第23页/共90页第二十四页，共90页。27 二月 20232532 绝缘(

10、juyun)栅场效应管(IGFET)栅极(shn j)与沟道之间隔了一层很薄的绝缘体，其阻抗比JFET的反偏PN结的阻抗更大。功耗低，集成度高。绝缘体一般为二氧化硅（SiO2），这种IGFET称为金属氧化物半导体场效应管，用符号MOSFET表示（Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor）。此外，还有以氮化硅为绝缘体的MNSFET等。一、简介第24页/共90页第二十五页，共90页。27 二月 202326图35绝缘(juyun)栅(金属氧化物半导体)场效应管结构示意图 (a)立体图；(b)剖面图 第25页/共90页第二十六页，共90页。2

11、7 二月 202327MOSFETN沟道(u do)P沟道(u do)增强型NEMOSFET耗尽型增强型耗尽型NDMOSFETPEMOSFETPDMOSFET二、分类第26页/共90页第二十七页，共90页。27 二月 202328321 绝缘(juyun)栅场效应管的结构322 N沟道(u do)增强型MOSFET (Enhancement NMOSFET)一、导电沟道的形成及工作原理第27页/共90页第二十八页，共90页。27 二月 202329图 36N沟 道 增 强 型 MOS场 效 应 管 的 沟 道 形 成(xngchng)及符号第28页/共90页第二十九页，共90页。27 二月 2

12、02330二、转 移(zhuny)特性(1)当uGSUGSth 时，iD 0，二者符合(fh)平方律关系。iD0第29页/共90页第三十页，共90页。27 二月 202331n n 式中：UGSth开启电压(或阈值电压)；n n n沟道(u do)电子运动的迁移率；n n Cox单位面积栅极电容；n n W沟道(u do)宽度；n n L沟道(u do)长度(见图35(a)；n n W/LMOS管的宽长比。n n 在MOS集成电路设计中，宽长比是一个极为重要的参数。第30页/共90页第三十一页，共90页。27 二月 202332iD0(a).转移特征(tzhng)曲线:第31页/共90页第三十

13、二页，共90页。27 二月 202333三、输出特性(1)截止(jizh)区uDS0uGSUGSthuGDUGSth（或uDSUGSthuGDuGSUGSth）第34页/共90页第三十五页，共90页。27 二月 202336GD(1V)S(0V)432.51.5设第35页/共90页第三十六页，共90页。27 二月 202337323 N沟道(u do)耗尽型 MOSFET(Depletion NMOSFET)式中：ID0表示(biosh)uGS=0时所对应的漏极电流。第36页/共90页第三十七页，共90页。27 二月 202338图310N沟道耗尽型MOS管的特性(txng)及符号(a)转移特

14、性(txng)；(b)输出特性(txng)；(c)表示符号第37页/共90页第三十八页，共90页。27 二月 202339图310N沟道耗尽型MOS管的特性及符号(a)转移(zhuny)特性；(b)输出特性；(c)表示符号第38页/共90页第三十九页，共90页。27 二月 202340图310N沟道耗尽型MOS管的特性及符号(fho)(a)转移特性；(b)输出特性；(c)表示符号(fho)(c)DGSB第39页/共90页第四十页，共90页。27 二月 202341324各种类型MOS管的符号及特性(txng)对比DGSDGSN沟道P沟道结型FET图311各种场效应管的符号对比第40页/共90页

15、第四十一页，共90页。27 二月 202342图 311各 种 场 效 应 管 的 符 号(fho)对比第41页/共90页第四十二页，共90页。27 二月 202343iDuGSUG Soff0IDSSID0UGS th结型P沟耗尽(ho jn)型P沟增强型P沟MOS耗尽(ho jn)型N沟增强型N沟MOS结型N沟图312各种场效应管的转移特性和输出特性对比(a)转移特性N沟道：P沟道：第42页/共90页第四十三页，共90页。27 二月 202344图312各种场效应管的转移(zhuny)特性和输出特性对比uDSiD0线性可变电阻区012345601231233456789结型P沟耗尽(ho

16、jn)型MOSP沟345601201231233456789结型N沟耗尽型增强型MOSN沟UGS/VUGS/V增强型(b)输出特性N沟道：P沟道：第43页/共90页第四十四页，共90页。27 二月 20234533 场效应管的参数和小信号(xnho)模型 331 场效应管的主要参数一、直 流 参 数(cnsh)1.结型场效应管和耗尽型MOSFET的主要参数(1)饱和漏极电流IDSS(ID0)：(2)夹断电压UGSoff：当栅源电压uGS=UGSoff时，iD=0。IDSS指的是对应uGS=0时的漏极电流。2.增强型MOSFET的主要参数对增强型MOSFET来说，主要参数有开启电压UGSth。第

17、44页/共90页第四十五页，共90页。27 二月 2023463.输入电阻RGS对结型场效应管，RGS在1081012之间。对MOS管，RGS在10101015之间。通常(tngchng)认为RGS。二、极限(jxin)参数(1)栅源击穿电压U(BR)GSO。(2)漏源击穿电压U(BR)DSO。(3)最大功耗PDM：PDM=IDUDS第45页/共90页第四十六页，共90页。27 二月 202347DGSDGSN沟道P沟道结型FET图311各种场效应管的符号(fho)对比第46页/共90页第四十七页，共90页。27 二月 202348三、交流(jioli)参数1跨导gm对JFET和耗尽(ho j

18、n)型MOS管，电流方程为那么，对应工作点Q的gm为式中，IDQ为直流工作点电流。直流工作点电流IDQ，gm 。第47页/共90页第四十八页，共90页。27 二月 202349而对增强型MOSFET，其电流(dinli)方程为那么(n me)，对应工作点 Q的gm为直流工作点电流IDQ，gm 。第48页/共90页第四十九页，共90页。27 二月 2023502.输出电阻rds 恒流区的rds可以(ky)用下式计算：其中(qzhng)，UA为厄尔利电压。DSGB第49页/共90页第五十页，共90页。27 二月 202351DGSDGSN沟道P沟道结型FET图311各种场效应管的符号(fho)对比

19、第50页/共90页第五十一页，共90页。27 二月 202352 图38输出特性uDSiD0UGSUA(厄尔利电压(diny)(b)厄尔利电压(diny)第51页/共90页第五十二页，共90页。27 二月 202353 若输入(shr)为正弦量，上式可改写为通常rds较大(jio d)，Uds对Id的影响可以忽略，则332 场效应管的低频小信号模型第52页/共90页第五十三页，共90页。27 二月 202354rds(a)gmUgsUdsIdDS(b)gmUgsUoIdDS图313 场效应管低频小信号简化(jinhu)模型第53页/共90页第五十四页，共90页。27 二月 20235534 场

20、效应管放大器341 场 效 应 管 偏 置(pin zh)电路偏置(pin zh)方式自偏压方式混合偏置方式 确定直流工作点方法图解法解析法 适宜 JFET、DMOSFET适宜 JFET、DMOSFET、EMOSFET第54页/共90页第五十五页，共90页。27 二月 202356 图314场效应管偏置方式(a)自偏压(pin y)方式；(b)混合偏置方式 RDUDDRS(自偏压电阻)uiRGV(a)RDUDDRS(自偏压电阻)uiRG2(b)RG1(分压式偏置)RDUDDRS(自偏压电阻)uiRGV(a)第55页/共90页第五十六页，共90页。27 二月 202357一、图解法 栅源回路(h

21、ul)直流负载线方程1.对于(duy)自偏压方式2.对于混合偏置方式 栅源回路直流负载线方程RDUDDRS(自偏压电阻)uiRGV(a)RDUDDRS(自偏压电阻)uiRG2(b)RG1(分压式偏置)第56页/共90页第五十七页，共90页。27 二月 202358RDUDDRS(自偏压电阻)uiRGV(a)栅源回路直流负载线方程1.对于自偏压方式图解法iDuGS0(a)Q1Q2RS1第57页/共90页第五十八页，共90页。27 二月 2023592.对于混合偏置(pin zh)方式图解法iDuGS0(b)Q1Q2Q2Q3Q3RS1RG1+RG2RG2UDDRDUDDRS(自偏压电阻)uiRG2

22、RG1(分压式偏置)栅源回路(hul)直流负载线方程第58页/共90页第五十九页，共90页。27 二月 202360解析(ji x)法已知电流方程及栅源直流负载线方程，联立求解即可求得工作点.例如(lr)对于自偏压方式如：第59页/共90页第六十页，共90页。27 二月 202361图316共源放大器电路(dinl)及其低频小信号等效电路(dinl)(a)电路(dinl)；(b)低频小信号等效电路(dinl)342场效应管放大器分析(fnx)一、共源放大器第60页/共90页第六十一页，共90页。27 二月 202362图316共源放大器电路及其低频(dpn)小信号等效电路 (a)电路；(b)低

23、频(dpn)小信号等效电路第61页/共90页第六十二页，共90页。27 二月 202363式中，且一般满足(mnz)RDRLrds。所以，共源放大器的放大倍数Au为若gm=5mA/V，则Au=50。第62页/共90页第六十三页，共90页。27 二月 202364输入电阻：输出电阻：第63页/共90页第六十四页，共90页。27 二月 202365例 场效应管放大器电路如图318(a)所示，已知工作点的gm=5mA/V，试画出低频小信号(xnho)等效电路，并计算增益Au。uiC2C1C3RDuoRG1RG3RS2UDDRG2RS1150k50k2k10k1k1MRL1Mgm2mA/V第64页/共

24、90页第六十五页，共90页。27 二月 202366uiC2C1C3RDuoRG1RG3RS2UDDRG2RS1150k50k2k10k1k1MRL1Mgm2mA/V 图318带电流负反馈的放大(fngd)电路(a)电路；(b)等效电路；(c)简化等效电路(a)第65页/共90页第六十六页，共90页。27 二月 202367RS1rdsDSUo.RDRL+Ui.GRG3RG2RG1gmUgs.输出电压 故 第66页/共90页第六十七页，共90页。27 二月 2023681.放大(fngd)倍数Au 式中：故 所以(suy)第67页/共90页第六十八页，共90页。27 二月 202369 图 3

25、18带 电 流 负 反 馈 的 放 大 电 路(dinl)(a)电路(dinl)；(b)等效电路(dinl)；(c)简化等效电路(dinl)第68页/共90页第六十九页，共90页。27 二月 202370C2C1RG1RSUDDRG2150k50k2kRL10kUo.RG31MUi.gm2mA/V图319共漏电(lu din)路及其等效电路 (a)电路；(b)等效电路二、共漏放大器第69页/共90页第七十页，共90页。27 二月 202371图319共漏电(lu din)路及其等效电路 (a)电路；(b)等效电路(b)Uo.RLRSSDId.gmUgs.gmUi Id(RSRL).第70页/共

26、90页第七十一页，共90页。27 二月 2023721.放大(fngd)倍数Au 式中：故 所以(suy)C2C1RG1RSUDDRG2150k50k2kRL10kUo.RG31MUi.gm 2mA/V第71页/共90页第七十二页，共90页。27 二月 202373图320计算(j sun)共漏电路输出电阻Ro的等效电路 2.输出电阻RoC2C1RG1RSUDDRG2150k50k2kRL10kUo.RG31MUi.gm 2mA/V第72页/共90页第七十三页，共90页。27 二月 202374图320计算(j sun)共漏电路输出电阻Ro的等效电路第73页/共90页第七十四页，共90页。27

27、 二月 202375由图可见(kjin)式中：所以(suy)，输出电阻为 第74页/共90页第七十五页，共90页。27 二月 202376 3.输入电阻 C2C1RG1RSUDDRG2150k50k2kRL10kUo.RG31MUi.gm 2mA/V第75页/共90页第七十六页，共90页。27 二月 202377第76页/共90页第七十七页，共90页。27 二月 202378新型半导体MOS器件(qjin)研究 第77页/共90页第七十八页，共90页。27 二月 2023791958年集成电路发明以来,为了提高电子集成系统的性能，降低成本(1)集成电路的特征尺寸不断缩小，制作工艺的加工精度不断

28、提高(2)同时硅片的面积不断增大(3)40多年来，集成电路芯片的发展基本上遵循(zn xn)了摩尔定律，即每隔三年集成度增加4倍，晶体管尺寸按0.7的因子减小。(4)集成电路芯片的特征尺寸已经从1978年的10m发展到现在的0.130.08m；硅片的直径尺寸也逐渐由2英寸、3英寸、4英寸、6英寸、8英寸发展到12英寸。更新的预测表明,到2016年,MOS的沟道长度将缩小到20nm以下.第78页/共90页第七十九页，共90页。27 二月 202380MOS器件缩小到亚100nm面临许多挑战,有很多问题需要解决:(1)SCE(短沟道效应);(2)DIBL(漏场感应势垒降低)效应;(3)氧化层的可靠

29、性;(对器件的静态功耗产生影响);(4)量子效应;(使栅电容减小);(5)杂质数涨落;(杂质数统计(tngj)起伏对器件性能影响).第79页/共90页第八十页，共90页。27 二月 202381SourceDrainTunnelingThermionic emission图7 电子传输方向能带示意图Fig.7 Potential diagram in the direction of electron transport第80页/共90页第八十一页，共90页。27 二月 202382高K栅介质MOS器件(1)随着半导体器件特征尺寸的缩小，SiO2栅氧化层厚度也相应地减薄。这时电子的隧穿电流更趋

30、明显,传统的二氧化硅栅介质已经无法(wf)满足半导体器件的要求;(2)寻找高性能的、与半导体制备工艺兼容的高介电常数的绝缘栅介质替代传统的二氧化硅介质，已成为新型MOS器件研究领域的前沿研究课题.第81页/共90页第八十二页，共90页。27 二月 202383第82页/共90页第八十三页，共90页。27 二月 202384平面(pngmin)双栅MOSFET第83页/共90页第八十四页，共90页。27 二月 202385其结构上的特点是:(1)均匀且薄(10 25 nm)的硅沟道;(2)厚的源漏扇出结构,以减少串联电阻;(3)顶栅和底栅之间能很好地对准,这一点对于双栅MO SFET 来说很重要

31、,因为如果顶栅和底栅之间不能很好地对准,就会产生附加的源漏区覆盖电容,并减小器件的电流驱动能力(nngl)。平面双栅器件的优点是:可以更有效地抑制短沟道效应;两个栅可以和沟道相互耦合,以增加互导。一般来说,双栅MO SFET 器件有两倍于单栅MOSFET 的驱动能力(nngl)。第84页/共90页第八十五页，共90页。27 二月 202386第85页/共90页第八十六页，共90页。27 二月 202387Fin FET F in FET 是一种高效的自对准双栅器件(qjin),Si沟道呈现竖直的“鳍”状,故称为“FinFET”。器件(qjin)的栅在沟道竖直方向的两侧控制沟道。第86页/共90

32、页第八十七页，共90页。27 二月 202388环绕栅MOSFET环绕栅MOSFET 的栅环绕着一个柱形硅条,硅条截面的形状(xngzhun)可以是长方形,也可以是圆形等。第87页/共90页第八十八页，共90页。27 二月 202389环绕栅FET 的优点是:1)沟道是很细的柱形硅条,环绕栅可以从各个方向来对沟道进行静电控制。研究表明,这种静电控制可以使环绕栅FET 比双栅MO SFET 有更好的亚阈值特性和短沟道特性;2)硅膜厚度比较薄的情况下,在栅上施加电压可以使器件的整个沟道区(表面和内部(nib)达到全耗尽,这可以大大提高器件的跨导特性。第88页/共90页第八十九页，共90页。27 二

33、月 202390(1)前面介绍的几种新结构器件,突破了传统(chuntng)平面MOSFET 的结构,从平面单栅结构变为立体的双栅或多栅结构,这样可以提高芯片上器件的集成密度;(2)这些器件一般都有两面栅或多个栅,因此可以提高栅对沟道的控制,并提高器件的电流驱动能力,减少SCE,DIBL 效应。这些器件很好地克服了传统(chuntng)平面结构MOSFET 的弱点;(3)在未来的几年内,传统(chuntng)的平面结构MOSFET还会有很强的生命力,其地位也很难被多栅晶体管所取代。但是,随着集成电路产业的不断发展,这些新结构器件会显示出越来越强的竞争力。总结(zngji)第89页/共90页第九十页，共90页。