模拟电子技术清华大学PPT学习教案.pptx
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1、会计学1模拟电子技术模拟电子技术(jsh)清华大学清华大学第一页,共431页。绪论返回电子技术发展简史电子技术的应用电子技术课程安排前进退出第1页/共431页第二页,共431页。I.电子电子(dinz)技术发展史技术发展史 电子技术的出现和应用,使人类进入了高新技术时代。电子技术诞生的历史虽短,但深入的领域却是最深最广,它不仅是现代化社会的重要标志,而且成为人类探索宇宙宏观世界和微观世界的物质技术基础。电子技术是在通信技术发展的基础上诞生的。随着新型电子材料的发现(fxin),电子器件发生了深刻变革。自1906年第一支电子器件发明以来,世界电子技术经历了电子管、晶体管和集成电路等重要发展阶段。
2、返回前进第2页/共431页第三页,共431页。I.电子电子(dinz)技术发展史技术发展史 电子技术的出现和应用,使人类进入(jnr)了高新技术时代。电子技术诞生的历史虽短,但深入的领域却是最深最广,它不仅是现代化社会的重要标志,而且成为人类探索宇宙宏观世界和微观世界的物质技术基础。电子技术是在通信技术发展的基础上诞生的。随着新型电子材料的发现,电子器件发生了深刻变革。1906年第一支电子器件发明以来,世界电子技术经历了电子管、晶体管和集成电路等重要发展阶段。第3页/共431页第四页,共431页。1.原始通信(tngxn)方式人力、烽火台等2.横木(hnm)通信机1791年(法)C.Chapp
3、e3.有线电报1837年(美)S.B.Morse4.有线电话(yuxindinhu)1875年(苏)A.G.Bell5.无线电收发报机1895年(意)G.Marconi通信业务蓬勃发展电子器件产生之后。一.通信技术的发展第4页/共431页第五页,共431页。n n 电子器件是按照电子器件是按照“电子电子管管晶体管晶体管集成电路集成电路”的顺序的顺序(shnx),逐步发,逐步发展起来的。展起来的。二.电子器件(din z q jin)的产生电子管晶体管集成电路第5页/共431页第六页,共431页。1.真空(zhnkng)电子管的发明:真空(zhnkng)二极管1904年(美)Fleming真空(
4、zhnkng)三极管1906年(美)LeedeForest2.晶体管的产生晶体管Transistor1947(美)Shockley、Bardeen、Brattain集成电路IC(integratecircuit)1959(美)Kilby、Noyis二.电子器件的产生3.集成电路的出现集成电路的出现,标志着人类进入了微电子时代。第6页/共431页第七页,共431页。n n 自电子自电子(dinz(dinz)器件出现器件出现至今,电子至今,电子(dinz(dinz)技术已经技术已经应用到了社会的各个领域。应用到了社会的各个领域。II.电子技术电子技术(jsh)的应用的应用返回前进第7页/共431页
5、第八页,共431页。II.电子电子(dinz)技术的应用技术的应用1875年(苏)1906年(美)1925年(美、英)1946年(美)1923年(瑞)1902年(美)1901年(美)1934年(俄)Internet互联网1990年(美)1992年(中)VCD1983年(美)1961年(美)第8页/共431页第九页,共431页。III.课程课程(kchng)安安排排一.内容(nirng)划分模拟部分器件:二极管、三极管、场效应管放大器:基本放大器、反馈放大器差动放大器、功率放大器集成电路:集成运算放大器电源:交流电源(振荡器)、直流电源(稳压电源)无线电:无线电知识、收音机数字部分逻辑代数无线电
6、:无线电知识、收音机逻辑门电路:基本门、复合门组合逻辑电路:编码器、译码器、选择器比较器、加法器脉冲:脉冲变换、脉冲产生返回前进第9页/共431页第十页,共431页。二.时间(shjin)安排学习时间(shjin)1学年上半年:模拟(mn)部分下半年:数字部分三.学习注意事项课程特点电路图多、内容分散、误差较大计算简单、实用性强学习方法掌握电路的构成原则、记住几个典型电路及时总结及练习、掌握近似原则、与实验有机结合第10页/共431页第十一页,共431页。第一(dy)编 模拟部分 返回第一章 半导体器件 第二章 基本放大电路 第三章 放大电路的频率特性 第四章 集成运算放大器 第五章 负反馈放
7、大器 第六章 信号运算电路 第七章 波形发生电路 第八章 功率放大电路 第九章 直流电源 前进退出第11页/共431页第十二页,共431页。第一章 半导体器件 半导体材料(cilio)、由半导体构成的PN结、二极管结构特性、三极管结构特性及场效应管结构特性。本章主要(zhyo)内容:返回前进第12页/共431页第十三页,共431页。1.1半导体(Semiconductor)导电(dodin)特性 根据导电性质把物质分为(fn wi)导体、绝缘体、半导体三大类。而半导体又分为本征半导体、杂质(zzh)(掺杂)半导体两种。第13页/共431页第十四页,共431页。1.1.1本征半导体 纯净的、不含
8、杂质(zzh)的半导体。常用的半导体材料有两种:硅(Si)、锗(Ge)。硅Si(锗Ge)的原子结构如下(rxi):这种结构的原子利用(lyng)共价键构成了本征半导体结构。第14页/共431页第十五页,共431页。但在外界激励下,产生电子空穴对(本征激发),呈现(chngxin)导体的性质。这种稳定(wndng)的结构使得本征半导体常温下不能导电,呈现绝缘体性质。第15页/共431页第十六页,共431页。但在外界激励下,产生(chnshng)电子空穴对(本征激发),呈现导体的性质。这种稳定的结构使得本征半导体常温下不能导电,呈现(chngxin)绝缘体性质。第16页/共431页第十七页,共43
9、1页。在外界(wiji)激励下,产生电子空穴对(本征激发)。空穴也可移动(邻近(lnjn)电子的依次填充)。第17页/共431页第十八页,共431页。在外界激励下,产生电子空穴(knxu)对(本征激发)。空穴也可移动(ydng)(邻近电子的依次填充)。第18页/共431页第十九页,共431页。在外界激励下,产生(chnshng)电子空穴对(本征激发)。空穴也可移动(ydng)(邻近电子的依次填充)。第19页/共431页第二十页,共431页。半导体内部存在(cnzi)两种载流子(可导电的自由电荷):电子(负电荷)、空穴(正电荷)。在本征半导体中,本征激发产生了电子空穴对,同时存在电子空穴对的复合
10、(fh)。电子浓度=空穴浓度ni=pi第20页/共431页第二十一页,共431页。1.1.2杂质(zzh)半导体 在本征半导体中掺入少量的其他特定元素(yun s)(称为杂质)而形成的半导体。根据掺入杂质(zzh)的不同,杂质(zzh)半导体又分为N型半导体和P型半导体。常用的杂质材料有5价元素磷P和3价元素硼B。第21页/共431页第二十二页,共431页。N型半导体内部存在(cnzi)大量的电子和少量的空穴,电子属于多数载流子(简称多子),空穴属于少数载流子(简称少子)。npN型半导体主要靠电子导电。一.N型半导体(电子型半导体)掺如非金属杂质磷P的半导体。每掺入一个磷原子就相当于向半导体内
11、部注入一个自由电子。第22页/共431页第二十三页,共431页。P型半导体内部存在大量的空穴(knxu)和少量的电子,空穴(knxu)属于多数载流子(简称多子),电子属于少数载流子(简称少子)。pnP型半导体主要靠空穴(knxu)导电。二.P型半导体(空穴(knxu)型半导体)掺如非金属杂质硼B的半导体。每掺入一个硼原子就相当于向半导体内部注入一个空穴。第23页/共431页第二十四页,共431页。杂质半导体导电性能主要由多数载流子决定,总体是电中性的,通常只画出其中的杂质离子(lz)和等量的多数载流子。杂质(zzh)半导体的简化表示法 第24页/共431页第二十五页,共431页。1.2半导体二
12、极管(Diode)二极管的主要(zhyo)结构是PN结。第25页/共431页第二十六页,共431页。1.2.1PN结(PNJunction)将一块P型半导体和一块N型半导体有机结合在一起,其结合部就叫PN结(该区域具有特殊性质)。第26页/共431页第二十七页,共431页。一.PN结的形成(xngchng)多子(du z)扩散(在PN结合部形成内电场EI)。内电场阻碍(z i)多子扩散、利于少子漂移。当扩散与漂移相对平衡,形成PN结。PN结别名:耗尽层、势垒区、电位壁垒、阻挡层、内电场、空间电荷区等。第27页/共431页第二十八页,共431页。二.PN结性质(xngzh)单向导电性第28页/共
13、431页第二十九页,共431页。1.正向(zhnxin)导通PN结外加正向(zhnxin)电压(正向(zhnxin)偏置)P接+、N接-,形成较大正向(zhnxin)电流(正向(zhnxin)电阻较小)。如 3mA。2.反向截止PN结外加反向电压(反向偏置(pinzh))P接-、N接+,形成较小反向电流(反向电阻较大)。如10A。二.PN结性质(xngzh)单向导电性正偏电压U=0.7V(Si管)0.2V(Ge管 当电压超过某个值(约零点几伏),全部少子参与导电,形成“反向饱和电流IS”。反偏电压最高可达几千伏。第29页/共431页第三十页,共431页。1.2.2二极管用外壳将PN结封闭(fn
14、gb),引出2根极线,就构成了二极管。一二极管伏安(fn)特性正向电流较大(正向电阻(dinz)较小),反向电流较小(反向电阻(dinz)较大)。门限电压(死区电压)V(Si管约为0.5V、Ge管约为0.1V),反向击穿电压 VBR(可高达几千伏)二极管电压电流方程:第30页/共431页第三十一页,共431页。二二极管主要参数1.最大整流(zhngli)电流IF2.最高反向(fnxin)工作电压UR3.反向(fnxin)电流IR4.最高工作频率fM第31页/共431页第三十二页,共431页。由三块半导体构成,分为NPN型和PNP型两种。三极管含有3极、2结、3区。其中发 射 区 高 掺 杂(c
15、hn z),基区较 薄 且 低 掺 杂(chn z),集电区一般掺杂(chn z)。1.3三极管(Transistor)1.3.1 三极管结构(jigu)及符号 第32页/共431页第三十三页,共431页。1.3三极管(Transistor)1.3.2 三极管的三种(sn zhn)接法(三种(sn zhn)组态)三极管在放大(fngd)电路中有三种接法:共发射极、共基极、共集电极。第33页/共431页第三十四页,共431页。1.3三极管(Transistor)1.3.3 三极管内部(nib)载流子传输 下面以共发射极NPN管为例分析三极管内部载流子的运动(yndng)规律,从而得到三极管的放大
16、作用。为保证三极管具有放大作用(zuyng)(直流能量转换为交流能量),三极管电路中必须要有直流电源,并且直流电源的接法必须保证三极管的发射结正偏、集电结反偏。第34页/共431页第三十五页,共431页。1.3.3 三极管内部(nib)载流子传输 一.发射(fsh)区向基区 发射(fsh)载流子(电子)第35页/共431页第三十六页,共431页。IENIBN 1.3.3 三极管内部(nib)载流子传输 一.发射(fsh)区向基区 发射(fsh)载流子(电子)二.电子在基区的 疏运输(ynsh)运和复合 第36页/共431页第三十七页,共431页。IBIEICBOICICNIBN 1.3.3 三
17、极管内部(nib)载流子传输 一.发射(fsh)区向基区 发射(fsh)载流子(电子)二.电子(dinz)在基区的 疏运输运和复合 三.集电区收集电子 第37页/共431页第三十八页,共431页。1.3.4 三极管各极电流(dinli)关系 一.各极电流(dinli)关系IE=IEN+IBNIENIB=IBNICBOIC=ICN+ICBOIE=IC+IB二.电流控制(kngzh)作用=ICN/IBNIC/IBIC=IB+(1+)ICBO=IB+ICEOIC=ICN/IENIC/IEIC=IE+ICBOIE第38页/共431页第三十九页,共431页。1.3.5 共射NPN三极管伏安特性(txng
18、)曲线 一.输入(shr)特性曲线IB=f(UBE,UCE)实际测试时如下(rxi)进行:IB=f(UBE)|UCEUCE 5V的特性曲线基本重合为一条,手册可给出该条曲线。第39页/共431页第四十页,共431页。1.3.5 共射NPN三极管伏安特性(txng)曲线 二.输 出 特 性 曲 线(qxin)IC=f(IB,UCE)实际(shj)测试时如此进行:IC=f(UCE)|IB第40页/共431页第四十一页,共431页。1.3.5 共射NPN三极管伏安(f n)特性曲线 二.输 出 特 性 曲 线(qxin)IC=f(IB,UCE)实际测试时如下(rxi)进行:IC=f(UCE)|IB
19、发射结正偏、集电结反偏时,三极管工作在放大区(处于放大状态),有放大作用:IC=IB+ICEO 两结均反偏时,三极管工作在截至区(处于截止状态),无放大作用。IE=IC=ICEO0 发射结正偏、集电结正偏时,三极管工作在饱和区(处于饱和状态),无放大作用。IE=IC(较大)第41页/共431页第四十二页,共431页。1.3.6 三极管主要参数 一.电流(dinli)放大系数 1.共发射极电流放大系数直流IC/IB 交流(jioli)IC/IB 均用表示。2.共基极电流(dinli)放大系数直流IC/IE 交流IC/IE 均用表示。二.反向饱和电流 1.集电极基极间反向饱和电流 ICBO 2.集
20、电极发射极间穿透电流 ICEO ICEO=(1+)ICBO =/(1)=/(1+)第42页/共431页第四十三页,共431页。1.3.6 三极管主要参数 一.电流(dinli)放大系数 IC/IB IC/IE =/(1)=/(1+)二.反向(fn xin)饱和电流 ICBO ICEO ICEO=(1+)ICBO三.极限(jxin)参数 1.集电极最大允许电流 ICM 2.集电极最大允许功耗 PCM 3.反向击穿电压 U(BR)CEO、U(BR)CBO 第43页/共431页第四十四页,共431页。三极管的安全(nqun)工作区 第44页/共431页第四十五页,共431页。1.4场效应管(Fiel
21、dEffectTransistor)场效应管是单极性管子,其输入PN结处于反偏或绝缘状态,具有很高的输入电阻(这一点与三极管相反),同时(tngsh),还具有噪声低、热稳定性好、抗辐射性强、便于集成等优点。场效应管是电压控制器件,既利用栅源电压控制漏极电流(iD=gmuGS)这一点与三级管(电流控制器件,基极电流控制集电极电流,iC=iB)不同(b tn),而栅极电流iD为0(因为输入电阻很大)。场效应管分为(fn wi)两大类:结型场效应管(JFETJunction Field Effect Transistor)、绝缘栅型场效应管(IGFETInsulated Gate Field Eff
22、ect Transistor)。第45页/共431页第四十六页,共431页。1.4.1结型场效应管一.结构(jigu)及符号 N沟道管靠(单一载流子)电子导电(dodin),P沟道管靠(单一载流子)空穴导电(dodin)。场效应管的栅极G、源极S和漏极D与三级管的基极b、发射极e和集电极c相对应。第46页/共431页第四十七页,共431页。1.4.1结型场效应管二.工作原理(栅源电压(diny)UGS对漏极电流ID的控制作用)以N沟道(u do)管为例。漏源之间的PN结必须反偏。N沟道结型场效应管加上反偏的栅源电压UGS(UGS0),在漏源之间加上漏源电压UDS(UDS0),便形成(xngch
23、ng)漏极电流ID。而且UGS可控制ID。第47页/共431页第四十八页,共431页。1.4.1结型场效应管二.工作原理(栅源电压UGS对漏极电流(dinli)ID的控制作用)1.当VGS=0时,沟道(u do)最宽,沟道(u do)电阻最小,加上VDS可形成最大的ID;2.当VGS0时,沟道逐渐(zhjin)变窄,沟道电阻逐渐(zhjin)变大,ID逐渐(zhjin)减小;3.当VGS=VP(夹断电压)时,沟道夹断,沟道电阻为无限大,ID=0。所以,栅源电压VGS对漏极电流ID有控制作用。第48页/共431页第四十九页,共431页。1.4.1结型场效应管三.JFET特性(txng)曲线 VG
24、S=0时,随着(su zhe)VDS的增大,沟道变化情况如下:加上VGS,沟道(u do)会进一步变窄。第49页/共431页第五十页,共431页。1.4.2结型场效应管三.JFET特性(txng)曲线 1.转移特性(txng)曲线 ID=f(UGS)|UDS 第50页/共431页第五十一页,共431页。1.4.1结型场效应管三.JFET特性(txng)曲线 2.漏极特性(txng)曲线 变化(binhu)VGS,得到一族特性曲线。分为可变电阻区、恒流区、击穿区三部分。JFET管处于恒流状态时,有 ID=gmVGS ID=f(UDS)|UGS 第51页/共431页第五十二页,共431页。1.4.
25、1结型场效应管四.JFET管工作过程(guchng)小结 N沟道JFET 栅源电压VGS为负值,漏源电压VDS为正值(P沟道JFET与之相反)。在栅源电压VGS控制下,漏极电流ID随栅源电压而发生变化。并且,VGS=0时,ID最大;VGS=VP 时,ID=0。二者之间关系(gun x)为:ID=gmVGS (栅源间必须反偏)第52页/共431页第五十三页,共431页。1.4.2结型场效应管三.JFET特性(txng)曲线 3.转移(zhuny)输出特性关系 由输出特性曲线可得到(d do)转移特性曲线第53页/共431页第五十四页,共431页。1.4.1结型场效应管四.JFET管工作过程(gu
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