现代分析测试技术SIMS学习教案.pptx
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1、现代现代(xindi)分析测试技术分析测试技术 SIMS第一页,共11页。q离子溅射过程:一定能量的离子打到固体表面离子溅射过程:一定能量的离子打到固体表面引起表面原子、分子或原子团的二次发引起表面原子、分子或原子团的二次发射射溅射离子;溅射的粒子一般以中性为主,有溅射离子;溅射的粒子一般以中性为主,有1%1%的带有正、负电荷的带有正、负电荷二次离子;二次离子;q二次离子质谱:利用质量二次离子质谱:利用质量(zhling)(zhling)分析器接收分析二次离子质量分析器接收分析二次离子质量(zhling)(zhling)电荷比电荷比值(值(m/Zm/Z)获得二次离子质谱,判断试样表面的元素组成
2、和化学状态;)获得二次离子质谱,判断试样表面的元素组成和化学状态;q溅射产额:影响二次离子产额因素溅射产额:影响二次离子产额因素与入射离子能量、入射角度、原子序数均有一定关与入射离子能量、入射角度、原子序数均有一定关系,并与靶原子的原子序数、晶格取向有关;系,并与靶原子的原子序数、晶格取向有关;离子离子离子离子(lz)(lz)溅射与二次离子溅射与二次离子溅射与二次离子溅射与二次离子(lz)(lz)质谱质谱质谱质谱第1页/共11页第二页,共11页。聚苯乙烯的二次离子聚苯乙烯的二次离子(lz)(lz)质谱质谱 第2页/共11页第三页,共11页。离子源离子源质量质量(zhling)分析器分析器检测器
3、检测器二次离子二次离子(lz)质谱质谱二次离子二次离子(lz)深度分深度分析析二次离子分布图像二次离子分布图像二次离子质谱系统结构示意图二次离子质谱系统结构示意图1 12 23 34 45 5第3页/共11页第四页,共11页。q初级离子枪:热阴极电离型离子源,双等离子体离子源,液态金属场离子源;离初级离子枪:热阴极电离型离子源,双等离子体离子源,液态金属场离子源;离子束的纯度、电流密度直接影响分析结果;子束的纯度、电流密度直接影响分析结果;q二次离子分析器:分析质荷比二次离子分析器:分析质荷比磁偏式、四极式(静态磁偏式、四极式(静态SIMS SIMS)、飞行时间式(流)、飞行时间式(流通率高,
4、测量通率高,测量(cling)(cling)高质量数离子)质量分析器;分析能力取决于分析器的穿高质量数离子)质量分析器;分析能力取决于分析器的穿透率及质量解析能力;透率及质量解析能力;q离子探测器:离子流计数离子探测器:离子流计数高离子电流采用法拉第杯;低离子电流采用电子倍增高离子电流采用法拉第杯;低离子电流采用电子倍增管;管;q数据采集和处理系统:控制分析工作的进行与数据处理;数据采集和处理系统:控制分析工作的进行与数据处理;q主真空室:主真空室:10-7 Pa10-7 Pa保持清洁表面;保持清洁表面;q辅助装置:电子中和枪辅助装置:电子中和枪分析绝缘样品时,表面局部带电会改变二次离子发射的
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