微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析(范文).docx
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1、泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析微米级薄膜沉积设备项目微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析工程进度管理分析目录目录一、公司基本情况.3二、产业环境分析.5三、薄膜沉积技术概况.6四、必要性分析.9五、项目简介.10六、进度管理过程.14七、工作顺序安排.15八、项目进度控制方法.28九、项目进度控制的工作成果.38十、工作时间估算.40十一、工作资源估算.46十二、投资估算及资金筹措.52建设投资估算表.54建设期利息估算表.55流动资金估算表.57总投资及构成一览表.58项目投资计划与资金筹措一览表.59十三、经济效益及财务分析.60营业收入、税金及附加和增值税估算表.61泓域
2、/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析综合总成本费用估算表.62利润及利润分配表.64项目投资现金流量表.66借款还本付息计划表.68十四、建设进度分析.69项目实施进度计划一览表.70泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析一、公司基本情况公司基本情况(一)公司简介经过多年的发展,公司拥有雄厚的技术实力,丰富的生产经营管理经验和可靠的产品质量保证体系,综合实力进一步增强。公司将继续提升供应链构建与管理、新技术新工艺新材料应用研发。集团成立至今,始终坚持以人为本、质量第一、自主创新、持续改进,以技术领先求发展的方针。当前,国内外经济发展形势依然错综复杂。从国际看,世界经济深度调整、复苏乏
3、力,外部环境的不稳定不确定因素增加,中小企业外贸形势依然严峻,出口增长放缓。从国内看,发展阶段的转变使经济发展进入新常态,经济增速从高速增长转向中高速增长,经济增长方式从规模速度型粗放增长转向质量效率型集约增长,经济增长动力从物质要素投入为主转向创新驱动为主。新常态对经济发展带来新挑战,企业遇到的困难和问题尤为突出。面对国际国内经济发展新环境,公司依然面临着较大的经营压力,资本、土地等要素成本持续维持高位。公司发展面临挑战的同时,也面临着重大机遇。随着改革的深化,新型工业化、城镇化、信息化、农业现代化的推进,以及“大众创业、万众创新”、中国制造 2025、“互联网+”、“一带一路”等重大战略举
4、措的加速实施,企业发展基本面向好的势头更加巩泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析固。公司将把握国内外发展形势,利用好国际国内两个市场、两种资源,抓住发展机遇,转变发展方式,提高发展质量,依靠创业创新开辟发展新路径,赢得发展主动权,实现发展新突破。(二)核心人员介绍1、韦 xx,中国国籍,无永久境外居留权,1961 年出生,本科学历,高级工程师。2002 年 11 月至今任 xxx 总经理。2017 年 8 月至今任公司独立董事。2、万 xx,中国国籍,1976 年出生,本科学历。2003 年 5 月至2011 年 9 月任 xxx 有限责任公司执行董事、总经理;2003 年 11 月至
5、2011 年 3 月任 xxx 有限责任公司执行董事、总经理;2004 年 4 月至2011 年 9 月任 xxx 有限责任公司执行董事、总经理。2018 年 3 月起至今任公司董事长、总经理。3、苏 xx,中国国籍,无永久境外居留权,1959 年出生,大专学历,高级工程师职称。2003 年 2 月至 2004 年 7 月在 xxx 股份有限公司兼任技术顾问;2004 年 8 月至 2011 年 3 月任 xxx 有限责任公司总工程师。2018 年 3 月至今任公司董事、副总经理、总工程师。4、任 xx,中国国籍,无永久境外居留权,1970 年出生,硕士研究生学历。2012 年 4 月至今任
6、xxx 有限公司监事。2018 年 8 月至今任公司独立董事。泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析5、贾 xx,中国国籍,无永久境外居留权,1971 年出生,本科学历,中级会计师职称。2002 年 6 月至 2011 年 4 月任 xxx 有限责任公司董事。2003 年 11 月至 2011 年 3 月任 xxx 有限责任公司财务经理。2017 年 3 月至今任公司董事、副总经理、财务总监。二、产业环境分析产业环境分析到 2020 年,力争实现以下发展目标:工业增加值年均增长 8%左右,工业经济效益实现平稳增长。工业固定资产投资年均增长 10%以上。战略新兴产业企业研发经费内部支出占主
7、营业务收入比重达到 3%以上,产业增加值占全区工业增加值比重达到 20%以上。新产品产值率达到 5%以上。园区工业增加值年均增长 10%以上。到 2020 年,建成一批具有一定经济规模和较强竞争力的园区,创建一批新型工业化产业示范基地和“两化”融合试验区。其中年产值 1000 亿元以上的园区 5 个,500 亿元园区 5 个,100 亿元园区 30 个。信息产业主营业务收入年均增长 15%以上。两化融合指数达到68 以上,“两化”融合贯标企业扩大到 20 家。规模以上万元增加值能耗年均降低 3%,低碳技术广泛推广应用,节约用水水平明显提高。泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析三、薄膜沉
8、积技术概况薄膜沉积技术概况1、基本情况薄膜沉积设备通常用于在基底上沉积导体、绝缘体或者半导体等材料膜层,使之具备一定的特殊性能,广泛应用于光伏、半导体等领域的生产制造环节。2、薄膜沉积设备技术基本情况及对比薄膜沉积设备按照工艺原理的不同可分为物理气相沉积(PVD)设备、化学气相沉积(CVD)设备和原子层沉积(ALD)设备。(1)PVD物理气相沉积(PVD)技术是指在真空条件下采用物理方法将材料源(固体或液体)表面气化成气态原子或分子,或部分电离成离子,并通过低压气体(或等离子体)过程,在基体表面沉积具有某种特殊功能的薄膜的技术。PVD 镀膜技术主要分为三类:真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子
9、镀膜。(2)CVD化学气相沉积(CVD)是通过化学反应的方式,利用加热、等离子或光辐射等各种能源,在反应器内使气态或蒸汽状态的化学物质在气相或气固界面上经化学反应形成固态沉积物的技术,是一种通过气体泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析混合的化学反应在基体表面沉积薄膜的工艺,可应用于绝缘薄膜、硬掩模层以及金属膜层的沉积。(3)薄膜沉积设备技术之间对比PVD 为物理过程,CVD 为化学过程,两种具有显著的区别。ALD 也是采用化学反应方式进行沉积,但反应原理和工艺方式与 CVD 存在显著区别,在 CVD 工艺过程中,化学蒸气不断地通入真空室内,而在 ALD工艺过程中,不同的反应物(前驱体)
10、是以气体脉冲的形式交替送入反应室中的,使得在基底表面以单个原子层为单位一层一层地实现镀膜。相比于 ALD 技术,PVD 技术生长机理简单,沉积速率高,但一般只适用于平面的膜层制备;CVD 技术的重复性和台阶覆盖性比 PVD 略好,但是工艺过程中影响因素较多,成膜的均匀性较差,并且难以精确控制薄膜厚度。3、ALD、PVD、CVD 技术应用差异PVD、CVD、ALD 技术各有自己的技术特点和技术难点,经过多年的发展,亦分别发展出诸多应用领域。原子层沉积可以将物质以单原子层形式一层一层地镀在基底表面的方法。从原理上说,ALD 是通过化学反应得到生成物,但在沉积反应原理、沉积反应条件的要求和沉积层的质
11、量上都与传统的 CVD 不同,在传统 CVD 工艺过程中,化学气体不泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析断通入真空室内,因此该沉积过程是连续的,沉积薄膜的厚度与温度、压力、气体流量以及流动的均匀性、时间等多种因素有关;在 ALD工艺过程中,则是将不同的反应前驱物以气体脉冲的形式交替送入反应室中,因此并非一个连续的工艺过程。ALD 与 CVD 技术之间既存在明显的区分度,又在部分常规应用场景中存在可替代性。具体情况如下:在 PERC 电池背钝化 Al2O3 的沉积工艺中,ALD 技术与 PECVD 技术存在互相替代的关系在 2016 年之前,PECVD 在 PERC 电池背面钝化的应用被
12、迅速推广,原因是在常规单晶电池制造工艺流程中,仅电池正面需要用 PECVD 镀 SiNX,因此电池厂商选择 PERC 电池背面沉积 Al2O3的方法时,PECVD 技术被优先用于 Al2O3 的沉积。而当时的 ALD 技术在国外主要应用于半导体领域,大多属于单片式反应器类型,这种反应器虽然镀膜精度高,但产能较低。近年来,晶圆制造的复杂度和工序量大大提升,以逻辑芯片为例,随着 90nm 以下制程的产线数量增多,尤其是 28nm 及以下工艺的产线对镀膜厚度和精度控制的要求更高,特别是引入多重曝光技术后,工序数和设备数均大幅提高;在存储芯片领域,主流制造工艺已由 2DNAND 发展为 3DNAND
13、结构,内部层数不断增高;元器件逐步呈现高密度、高深宽比结构。由于 ALD 独特的技术优势,在每个周期中生长的薄膜厚度是一定的,拥有精确的膜厚控制和优越的台阶覆盖率,泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析因此能够较好的满足器件尺寸不断缩小和结构 3D 立体化对于薄膜沉积工序中薄膜的厚度、三维共形性等方面的更高要求。ALD 技术愈发体现出举足轻重、不可替代的作用。四、必要性分析必要性分析1、现有产能已无法满足公司业务发展需求作为行业的领先企业,公司已建立良好的品牌形象和较高的市场知名度,产品销售形势良好,产销率超过 100%。预计未来几年公司的销售规模仍将保持快速增长。随着业务发展,公司现有
14、厂房、设备资源已不能满足不断增长的市场需求。公司通过优化生产流程、强化管理等手段,不断挖掘产能潜力,但仍难以从根本上缓解产能不足问题。通过本次项目的建设,公司将有效克服产能不足对公司发展的制约,为公司把握市场机遇奠定基础。2、公司产品结构升级的需要随着制造业智能化、自动化产业升级,公司产品的性能也需要不断优化升级。公司只有以技术创新和市场开发为驱动,不断研发新产品,提升产品精密化程度,将产品质量水平提升到同类产品的领先水准,提高生产的灵活性和适应性,契合关键零部件国产化的需求,才泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析能在与国外企业的竞争中获得优势,保持公司在领域的国内领先地位。五、项目简
15、介项目简介(一)项目单位项目单位:xxx(集团)有限公司(二)项目建设地点本期项目选址位于 xx(以选址意见书为准),占地面积约 35.00亩。项目拟定建设区域地理位置优越,交通便利,规划电力、给排水、通讯等公用设施条件完备,非常适宜本期项目建设。(三)建设规模该项目总占地面积 23333.00(折合约 35.00 亩),预计场区规划总建筑面积 45325.56。其中:主体工程 33824.23,仓储工程5638.89,行政办公及生活服务设施 4254.79,公共工程 1607.65。(四)项目建设进度结合该项目建设的实际工作情况,xxx(集团)有限公司将项目工程的建设周期确定为 24 个月,
16、其工作内容包括:项目前期准备、工程勘察与设计、土建工程施工、设备采购、设备安装调试、试车投产等。泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析(五)项目提出的理由1、不断提升技术研发实力是巩固行业地位的必要措施公司长期积累已取得了较丰富的研发成果。随着研究领域的不断扩大,公司产品不断往精密化、智能化方向发展,投资项目的建设,将支持公司在相关领域投入更多的人力、物力和财力,进一步提升公司研发实力,加快产品开发速度,持续优化产品结构,满足行业发展和市场竞争的需求,巩固并增强公司在行业内的优势竞争地位,为建设国际一流的研发平台提供充实保障。2、公司行业地位突出,项目具备实施基础公司自成立之日起就专注于
17、行业领域,已形成了包括自主研发、品牌、质量、管理等在内的一系列核心竞争优势,行业地位突出,为项目的实施提供了良好的条件。在生产方面,公司拥有良好生产管理基础,并且拥有国际先进的生产、检测设备;在技术研发方面,公司系国家高新技术企业,拥有省级企业技术中心,并与科研院所、高校保持着长期的合作关系,已形成了完善的研发体系和创新机制,具备进一步升级改造的条件;在营销网络建设方面,公司通过多年发展已建立了良好的营销服务体系,营销网络拓展具备可复制性。薄膜沉积设备通常用于在基底上沉积导体、绝缘体或者半导体等材料膜层,使之具备一定的特殊性能,广泛应用于光伏、半导体等领泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理
18、分析域的生产制造环节。薄膜沉积设备按照工艺原理的不同可分为物理气相沉积(PVD)设备、化学气相沉积(CVD)设备和原子层沉积(ALD)设备。(六)建设投资估算1、项目总投资构成分析本期项目总投资包括建设投资、建设期利息和流动资金。根据谨慎财务估算,项目总投资 18377.07 万元,其中:建设投资 15003.58万元,占项目总投资的 81.64%;建设期利息 367.05 万元,占项目总投资的 2.00%;流动资金 3006.44 万元,占项目总投资的 16.36%。2、建设投资构成本期项目建设投资 15003.58 万元,包括工程费用、工程建设其他费用和预备费,其中:工程费用 13343.
19、78 万元,工程建设其他费用1296.62 万元,预备费 363.18 万元。(七)项目主要技术经济指标1、财务效益分析根据谨慎财务测算,项目达产后每年营业收入 34100.00 万元,综合总成本费用 26970.74 万元,纳税总额 3378.01 万元,净利润5215.19 万元,财务内部收益率 22.17%,财务净现值 9812.35 万元,全部投资回收期 5.75 年。泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析2、主要数据及技术指标表主要经济指标一览表主要经济指标一览表序号序号项目项目单位单位指标指标备注备注1占地面积23333.00约 35.00 亩1.1总建筑面积45325.56
20、容积率 1.941.2基底面积15166.45建筑系数 65.00%1.3投资强度万元/亩424.022总投资万元18377.072.1建设投资万元15003.582.1.1工程费用万元13343.782.1.2工程建设其他费用万元1296.622.1.3预备费万元363.182.2建设期利息万元367.052.3流动资金万元3006.443资金筹措万元18377.073.1自筹资金万元10886.173.2银行贷款万元7490.904营业收入万元34100.00正常运营年份5总成本费用万元26970.746利润总额万元6953.587净利润万元5215.198所得税万元1738.399增值税
21、万元1463.9410税金及附加万元175.6811纳税总额万元3378.0112工业增加值万元11379.16泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析13盈亏平衡点万元13125.58产值14回收期年5.75含建设期 24 个月15财务内部收益率22.17%所得税后16财务净现值万元9812.35所得税后六、进度管理过程进度管理过程进度管理包括为确保项目按期完成所必须的所有过程,包括规划进度管理、工作定义、工作顺序安排、工作资源估算、工作时间估算、进度计划制定和进度控制等。(一)规划进度管理规划进度管理是为规划、编制、执行和控制项目进度而制定政策、程序和文档的过程。其主要目的是,为如何在
22、整个项目过程中管理项目进度提供指南和方向。(二)工作定义确定为产生项目可交付成果而必须进行的具体工作。(三)工作顺序安排确定各项工作之间的逻辑关系,并形成文件(图、表、文字资料等)。(四)工作资源估算估算执行各项工作所需材料、人员和设备等资源的种类和数量。泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析(五)工作时间估算估算完成各项工作所需要的工作时间。(六)进度计划制定分析工作顺序、工作时间、资源需求,以及进度制约因素,从而制定项目进度计划。(七)进度控制监督项目工作状态,将计划执行效果与计划进行比较,找出偏差,分析偏差原因,采取相应纠偏措施,控制进度计划的变更,调整后续工作计划,保证进度计划目
23、标的实现。虽然这些过程相互独立,相互之间有明确的界面,但是对于一些小项目,工作顺序安排、工作时间估算以及进度计划制定,由于彼此之间联系紧密,常常被看成一个过程,但每一过程所使用的方法不同,所以本书还是把它们当作不同的过程来介绍。七、工作顺序安排工作顺序安排工作顺序安排就是确定各项工作之间的依赖关系,并形成文档。为了进一步编制切实可行的进度计划,首先必须对工作进行准确的顺序安排。工作顺序安排可以利用计算机进行(如项目管理软件),也可以手工来做。在一些小项目中,或大型项目的早期阶段,手工技术更为有效,而在实际运用过程中,手工和计算机可以结合起来使用。泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析(一
24、)工作顺序安排的依据(进度管理计划进度管理计划规定了用于项目进度规划的方法和工具,对工作排序具有指导作用。工作清单工作清单列出了项目所需的、待排序的全部进度工作。这些工作的依赖关系和其他制约因素会对工作排序产生影响。工作属性工作属性中可能描述了事件之间的必然顺序或确定的紧前紧后关系。里程碑清单里程碑事件应作为工作排序的一部分,以确保满足里程碑实现日期的要求。项目范围说明书项目范围说明书中包含产品范围描述,而产品范围描述中又包含可能影响工作排序的产品特征,如待建厂房的布局图或软件项目中的子系统界面。项目范围说明泓域/微米级薄膜沉积设备项目工程进度管理分析书中的其他信息也可能影响工作排序,如项目可
25、交付成果、项目制约因素和假设条件。虽然工作清单中已经体现了这些因素的影响结果,但还是需要对产品范围描述进行整体审查以确保准确性。环境因素能够影响工作排序过程的环境因素包括政府或行业标准、项目管理信息系统、进度规划工具、公司的工作授权系统等。组织过程资产能够影响排列工作顺序过程的组织过程资产包括公司知识库中有助于确定进度规划方法论的项目档案,现有的、正式或非正式的、与工作规划有关的政策、程序和指南,以及有助于加快项目工作网络图编制的各种模板等。(二)工作顺序安排的方法工作顺序安排的方法很多,如:双代号网络图法、单代号网络图法、双代号时标网络图法、条件网络图法,也可以利用网络样板。本章介绍常用的四
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