低功耗超大规模集成电路.ppt
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1、集成电路低功耗设计方法为什么需要低功耗设计v在传统设计中,由于器件集成度相对较低,所以功耗问题没那么突出。随着集成电路技术的开展,单片上已经能集成更多更快的管子,从而导致了功耗的逐渐上升。集成电路技术的开展对功耗设计提出了更高的要求,尤其是有些应用对数字电路低功耗设计方法研究功耗的增加特别敏感,如高性能计算机系统、便携式电子产品、移动通讯产品等。功耗对于电池的寿命、设计复杂度、封装和散热的费用以及可靠性的影响已经使得所有的IC设计者都要认真面对功耗问题。可靠性v随着设计复杂性的加深和lC性能的提高,单片集成封装的功耗呈逐年上升趋势,在高性能处理器中功耗问题尤其突出。尽管采用了各种制冷措施来维持
2、系统的正常运行,但功耗转化的焦尔热将对电路性能产生很大影响。功耗的上升意味着电迁移率的增加,当芯片温度上升到一定程度时,电路将无法正常工作。这将直接影响到复杂系统的性能并进而损害整个系统的可靠性,尤其对那些生命周期长和可靠性要求高的电子产品,功耗的挑战己经十分严重。除了改进封装方法以外,最直接的方法是在设计时把功耗作为第三维约束。市场需求v驱动低功耗技术的一个重要因素是手持式电子消费产品的市场需求。近十年来,便携式电脑、移动通讯工具等得到了蓬勃开展,这些产品均依靠电池供电,而电池寿命与功耗有直接的关系,因此功耗成为衡量产品性能的关键因素之一。在便携式电子产品中,电池往往成为最笨重的部件,一方面
3、是因为电池的比容量是有限的;另一方面,从平安角度考虑,电池容量大幅度地提高容易引起爆炸。为了减轻电池的负担,设计出更小更轻更耐用的电子产品,迫切需要降低功耗。功耗来源v在数字在数字CMOSCMOS电路中,功耗是由三局部构成的电路中,功耗是由三局部构成的vPTotal=Pdynamic+Pshort+PleakagePTotal=Pdynamic+Pshort+PleakagevPdynamicPdynamic是电路翻转时产生的动态功耗是电路翻转时产生的动态功耗vPshortPshort是是P P管和管和N N管同时导通时产生的短路功管同时导通时产生的短路功耗耗vPleakagePleakage
4、是由扩散区和衬底之间的反向偏置是由扩散区和衬底之间的反向偏置漏电流引起的静态功耗漏电流引起的静态功耗CMOS数字电路的功耗CMOS数字电路的功耗一般分两种,来自开关的动态功耗,和来自漏电的静态功耗。而动态功耗又可分为电容充放电(包括网络电容和输入负载)引起的功耗,还有当P/NMOS同时翻开形成的瞬间短路电流产生的功耗。静态功耗也可分为几类:扩散区和衬底形成二极管的反偏电流(工diode),另外一类是关断晶体管中通过栅氧的电流(工subthreshold)。芯片的漏电会随温度变化,所以当芯片发热时,静态功耗指数上升。另外漏电流也会随特征尺寸减少而增加。功耗表达式:Ptotal=Pdyamic+P
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