第二章三极管PPT讲稿.ppt
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1、第二章三极管第1页,共61页,编辑于2022年,星期二双极型:两种载流子双极型:两种载流子单极型:一种载流子单极型:一种载流子 半导体三极管半导体三极管晶体管晶体管 BJT BJT场效应管场效应管 FET FET半导体三极管具有半导体三极管具有放大放大和和开关开关作用作用第2页,共61页,编辑于2022年,星期二 NPN三极管的结构和符号三极管的结构和符号晶体管的结构晶体管的结构1.NPN型晶体管型晶体管(c)NPN管的符号管的符号(a)NPN管的结构示意图管的结构示意图(b)NPN管的管芯结构剖面示意图管的管芯结构剖面示意图第3页,共61页,编辑于2022年,星期二PNP三极管的三极管的结结
2、构和符号构和符号2.PNP型晶体管型晶体管(a)PNP管的符号管的符号(b)PNP管的结构示意图管的结构示意图第4页,共61页,编辑于2022年,星期二分类分类:按材料分:按材料分:硅管、锗管硅管、锗管按功率分:按功率分:小功率管小功率管 1 W中功率管中功率管 0.5 1 W第5页,共61页,编辑于2022年,星期二1.晶体管放大的条件晶体管放大的条件内部内部条件条件发射区掺杂浓度高发射区掺杂浓度高基区薄且掺杂浓度低基区薄且掺杂浓度低集电结面积大集电结面积大,浓度低浓度低外部外部条件条件发射结正偏发射结正偏集电结反偏集电结反偏2.满足放大条件的三种电路满足放大条件的三种电路uiuoCEBEC
3、BuiuoECBuiuo共发射极共发射极共集电极共集电极共基极共基极晶体管的工作原理晶体管的工作原理第6页,共61页,编辑于2022年,星期二Am mAm mAI IC CI IB BI IE EU UBBBBU UCCCCR RB B3DG63DG6NPNNPN型晶体管电流放大的实验电路型晶体管电流放大的实验电路R RC CCEB 左图所示为验证三极管电左图所示为验证三极管电流放大作用的实验电路,这种流放大作用的实验电路,这种电路接法称为共射电路。其中,电路接法称为共射电路。其中,直流电压源直流电压源UCCCC应大于应大于UBBBB,从而,从而使电路满足放大的外部条件:使电路满足放大的外部条
4、件:发射结正向偏置,集电极反向发射结正向偏置,集电极反向偏置。改变可调电阻偏置。改变可调电阻RB,基极电,基极电流流IB,集电极电流,集电极电流IC和发射极电流和发射极电流IE都会发生变化,由测量结果可得都会发生变化,由测量结果可得出以下结论:出以下结论:1.IE IB IC (符合(符合KCL定律)定律)2.IC IB,为管子的流放大系数,用来表征为管子的流放大系数,用来表征三极管的电流放大能力:三极管的电流放大能力:3.IC IB 结论:结论:结论:结论:三极管是一种具有电流放大作用的三极管是一种具有电流放大作用的模拟器件。模拟器件。3.电流放大原理电流放大原理第7页,共61页,编辑于20
5、22年,星期二1 1、发射区向基区扩散电子的过程:、发射区向基区扩散电子的过程:、发射区向基区扩散电子的过程:、发射区向基区扩散电子的过程:由于发射结处于正向偏置,发射区的多数载流子自由电子将不断扩散到基区,并不断从电源补充由于发射结处于正向偏置,发射区的多数载流子自由电子将不断扩散到基区,并不断从电源补充进电子,形成发射极电流进电子,形成发射极电流IE。2 2、电子在基区的扩散和复合过程:、电子在基区的扩散和复合过程:、电子在基区的扩散和复合过程:、电子在基区的扩散和复合过程:由于基区很薄,其多数载流子空穴浓度很低,所以从发射极扩散过来的电子只有很少一部分由于基区很薄,其多数载流子空穴浓度很
6、低,所以从发射极扩散过来的电子只有很少一部分和基区空穴复合,剩下的绝大部分都能扩散到集电结边缘。和基区空穴复合,剩下的绝大部分都能扩散到集电结边缘。实验表明:实验表明:实验表明:实验表明:IC比比IB大数十至数百倍,因而大数十至数百倍,因而IB虽然很小,但对虽然很小,但对IC有控制作用,有控制作用,IC随随IB的改变而改变,即的改变而改变,即基极电流较小的变化可以引起集电极电流较大的变化,表明基极电流较小的变化可以引起集电极电流较大的变化,表明基极电流对集电极电流具有小基极电流对集电极电流具有小量控制大量的作用,量控制大量的作用,这就是三极管的这就是三极管的电流放大作用电流放大作用电流放大作用
7、电流放大作用。3 3、集电区收集从发射区扩散过来的电子过程:、集电区收集从发射区扩散过来的电子过程:、集电区收集从发射区扩散过来的电子过程:、集电区收集从发射区扩散过来的电子过程:由于集电结反向偏置,可将从发射区扩散到基区并到达集电区边缘的电子拉入集由于集电结反向偏置,可将从发射区扩散到基区并到达集电区边缘的电子拉入集电区,从而形成较大的集电极电流电区,从而形成较大的集电极电流IC。第8页,共61页,编辑于2022年,星期二内部载流子的传输过程内部载流子的传输过程1)发射区向基区注入多子发射区向基区注入多子电子电子,形成发射电流形成发射电流 IE。I CNIE少数电子与空穴复合,形成少数电子与
8、空穴复合,形成 IBN。I BN基区空基区空穴来源穴来源基极电源提供基极电源提供(IB)集电区少子漂移集电区少子漂移(ICBO)I CBOIBIBN IB+ICBO即:即:IB=IBN ICBO 2)电子到达基区后电子到达基区后第9页,共61页,编辑于2022年,星期二I CNIEI BNI CBOIB 3)集电区收集扩散过集电区收集扩散过 来的载流子形成集来的载流子形成集 电极电流电极电流 ICICI C=ICN +ICBO 第10页,共61页,编辑于2022年,星期二4.三极管的电流分配关系三极管的电流分配关系当当管管子子制制成成后后,发发射射区区载载流流子子浓浓度度、基基区区宽宽度度、集
9、集电电结结面面积积等等确定,故电流的比例关系确定,即:确定,故电流的比例关系确定,即:IB=I BN ICBO IC=ICN +ICBO穿透电流穿透电流第11页,共61页,编辑于2022年,星期二IE=IC+IB第12页,共61页,编辑于2022年,星期二三极管内部载流子的传输过程三极管内部载流子的传输过程三极管内部载流子的传输过程三极管内部载流子的传输过程发射结加正偏电压集电结加反偏电压(1)发射区向基区发射区向基区 注入载流子注入载流子(2)载流子在基区载流子在基区 扩散与复合扩散与复合(3)集电区收集集电区收集 载流子载流子ICN注意:注意:少数载流子的漂移运动少数载流子的漂移运动ICB
10、O 第13页,共61页,编辑于2022年,星期二1、输入特性、输入特性输入输入回路回路输出输出回路回路与二极管特性相似与二极管特性相似晶体管的特性曲线晶体管的特性曲线第14页,共61页,编辑于2022年,星期二O特性基本特性基本重合重合特性右移特性右移(因集电结开始吸引电子因集电结开始吸引电子)导通电压导通电压 UBE(on)硅管:硅管:(0.6 0.8)V锗管:锗管:(0.2 0.3)V取取 0.7 V取取 0.2 V第15页,共61页,编辑于2022年,星期二iC/mAuCE/V50 A40 A30 A20 A10 AIB=0O 2 4 6 8 43211)放大区)放大区条件:条件:发射结
11、正偏发射结正偏 集电结反偏集电结反偏放大区放大区截止区截止区2、输出特性、输出特性饱饱和和区区第16页,共61页,编辑于2022年,星期二iC/mAuCE/V50 A40 A30 A20 A10 AIB=0O 2 4 6 8 43212)饱和区饱和区条件:条件:两个结正偏两个结正偏临界饱和时:临界饱和时:uCE=uBE深度饱和时:饱和压降深度饱和时:饱和压降UCE(sat)=0.3 V;相当于管子短接相当于管子短接放大区放大区截止区截止区饱饱和和区区第17页,共61页,编辑于2022年,星期二iC/mAuCE/V50 A40 A30 A20 A10 AIB=0O 2 4 6 8 4321截止区
12、截止区ICEO3)截止区)截止区 条件:条件:发射结(零)反偏发射结(零)反偏 集电结反偏集电结反偏放大区放大区饱饱和和区区 可靠截止可靠截止:发射结不能正偏导通时,已经截止。:发射结不能正偏导通时,已经截止。第18页,共61页,编辑于2022年,星期二3、温度对特性曲线的影响、温度对特性曲线的影响1)温度升高,输入特性曲线温度升高,输入特性曲线向左移。向左移。温度每升高温度每升高 1 C,UBE (2 2.5)mV。温度每升高温度每升高 10 C,ICBO 约增大约增大 1 倍。倍。OT2 T1第19页,共61页,编辑于2022年,星期二2)温度升高,输出特性曲线温度升高,输出特性曲线向上移
13、。向上移。iCuCE T1iB=0T2 iB=0温度每升高温度每升高 1 C,(0.5 1)%。输出特性曲线间距增大。输出特性曲线间距增大。O第20页,共61页,编辑于2022年,星期二1、电流放大系数、电流放大系数1)共发射极电流放大系数共发射极电流放大系数iC/mAuCE /V50 A40 A30 A20 A10 AIB=0O 2 4 6 8 4321 直流电流放大系数直流电流放大系数 交流电流放大系数交流电流放大系数一般为几十一般为几十 几百几百Q3.晶体管的主要参数晶体管的主要参数第21页,共61页,编辑于2022年,星期二iC/mAuCE /V50 A40 A30 A20 A10 A
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