真空技术基础要点.ppt
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1、什么叫真空什么叫真空?一般是指在给定的空间内,压力低于一般是指在给定的空间内,压力低于1atm(即即101325Pa)的气体状态。的气体状态。帕(帕(Pa)托(托(Torr)1 Torr =1/760 标准大气压标准大气压 1 标准大气压标准大气压=101325 Pa 1 Pa =7.506 10-3 Torr低真空低真空(105102 Pa):大气布朗运动,分子间碰撞多大气布朗运动,分子间碰撞多中真空中真空(10210-1 Pa):气体密度减少,气体导电气体密度减少,气体导电高真空高真空(10-110-6Pa):残余气体分子少,碰撞很少残余气体分子少,碰撞很少超高真空超高真空(10-6Pa)
2、真空度的划分真空度的划分真真 空空 系系 统统 真空系统的组成元件:真空系统的组成元件:(1)抽气设备。)抽气设备。(2)真空测量装置。)真空测量装置。(3)真空阀门。)真空阀门。(4)导管。)导管。(5)其它元件:如捕集)其它元件:如捕集器、真空接头、波纹管等。器、真空接头、波纹管等。1.被抽容器被抽容器 2.真空测量规管真空测量规管 3.主阀主阀 4.预真空管道阀预真空管道阀 5.前级管道阀前级管道阀 6.软连接管道软连接管道 7.放气阀放气阀 8.前级泵前级泵 9.主泵(油扩散泵)主泵(油扩散泵)10.水冷障板水冷障板开机方法:开机方法:前级泵前级泵 主泵主泵关机方法:关机方法:主泵主泵
3、 前级泵前级泵MR3 真真 空空 获获 得得水环泵、旋片泵、水喷射泵、水环泵、旋片泵、水喷射泵、螺杆泵、爪式泵、罗茨泵、分子螺杆泵、爪式泵、罗茨泵、分子泵、泵、扩散泵、扩散泵、低温泵、吸附泵低温泵、吸附泵1)低真空阶段以机械泵为主(旋转、气体压缩)低真空阶段以机械泵为主(旋转、气体压缩)2)中真空、高真空、超高真空阶段以扩散泵、分子泵、低温)中真空、高真空、超高真空阶段以扩散泵、分子泵、低温泵为主泵为主基本概念:基本概念:主泵、粗抽泵、前级泵、粗真空泵、高真空泵、超高真空泵和主泵、粗抽泵、前级泵、粗真空泵、高真空泵、超高真空泵和增压泵增压泵工作压力和极限压力工作压力和极限压力单级旋片泵结构 旋
4、片泵工作原理 旋片机械泵旋片机械泵(Rotary Pump)直联:转速快(直联:转速快(1400r/min),效率高,噪音小。),效率高,噪音小。间接联接间接联接(通过皮带或齿轮传动通过皮带或齿轮传动):唯一优点就是价格便宜。唯一优点就是价格便宜。工作压力:工作压力:1atm;极限压力:极限压力:10-2Pa罗罗 茨茨 泵(增压泵)泵(增压泵)无内压缩抽气,一般作为无内压缩抽气,一般作为增压泵与机械泵串联;增压泵与机械泵串联;优点:抽气能力大,而且起动快,预抽气时间短。优点:抽气能力大,而且起动快,预抽气时间短。工作压力:工作压力:1atm;极限压力:极限压力:10-3Pa油扩散泵油扩散泵扩散
5、泵扩散泵 工作原理工作原理工作压力:工作压力:10-110-6Pa;极限压力:极限压力:10-8Pa优点:价格便宜,抽速大,便于维护优点:价格便宜,抽速大,便于维护缺点:油污染缺点:油污染分子泵分子泵(Turbo Molecular Pump)靠高速运动的刚体表面来携靠高速运动的刚体表面来携带气体分子实现抽气。带气体分子实现抽气。工作压力:工作压力:10-1Pa;极限压力:极限压力:10-9Pa优点:可获得十分清洁的真空,有优点:可获得十分清洁的真空,有利于膜质量的提高。分子泵抽速很利于膜质量的提高。分子泵抽速很大,可以缩短工艺周期。大,可以缩短工艺周期。缺点:分子泵对氢(分子量小)的缺点:分
6、子泵对氢(分子量小)的压缩比较小,残余气体中主要是氢。压缩比较小,残余气体中主要是氢。低温泵低温泵(Cryopump)利用低温表面(低于利用低温表面(低于100K,MR3可达可达13K)冷凝、吸附和捕集)冷凝、吸附和捕集气体来获得和保持真空的设备。气体来获得和保持真空的设备。优点:优点:1、极限压力低。、极限压力低。(20K可得可得10-8Pa,4.2K可得可得10-10Pa 10-12Pa)2、抽速大。、抽速大。3、可抽各种气体,从而获得清洁、可抽各种气体,从而获得清洁的超高真空。的超高真空。4、占地面积小,电力消耗少。、占地面积小,电力消耗少。5、不产生碳氢化合物、金属膜的、不产生碳氢化合
7、物、金属膜的剥落碎片及其它污染。剥落碎片及其它污染。工作压力:工作压力:10-2Pa;极限压力:极限压力:10-12Pa(1)应有足够大的抽气速率。既能迅速抽走镀膜过程中基)应有足够大的抽气速率。既能迅速抽走镀膜过程中基片及蒸发材料和真空室内各构件所放出的气体,也能迅速抽片及蒸发材料和真空室内各构件所放出的气体,也能迅速抽走溅射和离子镀膜过程中的掺气及系统的漏气。走溅射和离子镀膜过程中的掺气及系统的漏气。(2)镀膜机抽气系统的)镀膜机抽气系统的极限真空度极限真空度应根据镀制薄膜的不同应根据镀制薄膜的不同而有所选择。而有所选择。(3)镀膜室及其抽气系统的漏气率要小,必须把系统的总)镀膜室及其抽气
8、系统的漏气率要小,必须把系统的总漏气率限制在允许的范围之内。漏气率限制在允许的范围之内。(4)真空系统的操作、使用及检修、维护方便,性能稳定)真空系统的操作、使用及检修、维护方便,性能稳定可靠。可靠。真空镀膜设备对抽气系统基本要求真空镀膜设备对抽气系统基本要求各种镀膜工艺中要求的真空度各种镀膜工艺中要求的真空度真真 空空 镀镀 膜膜 工工 艺艺极限真空度(极限真空度(Pa)工作真空度(工作真空度(Pa)真空蒸镀电容器纸真空蒸镀电容器纸真空蒸镀聚脂薄膜真空蒸镀聚脂薄膜真空蒸镀光学膜真空蒸镀光学膜半导体集成电路铝电极蒸发半导体集成电路铝电极蒸发介质膜、半导体膜、合金膜溅射镀介质膜、半导体膜、合金膜
9、溅射镀膜膜磁控溅射镀膜磁控溅射镀膜反应离子蒸镀反应离子蒸镀TiN膜膜10311036.71042.71031046.71051041041042.71026.71032.71026.71031032.710411041022.7102102 镀膜设备镀膜设备(真空溅射镀膜、真空离子镀膜和真空化学气相沉真空溅射镀膜、真空离子镀膜和真空化学气相沉积等积等)上都设有上都设有充气系统充气系统。需要充入的气体分两类:。需要充入的气体分两类:1、工作气体:通常是各种惰性气体,以氩为主。、工作气体:通常是各种惰性气体,以氩为主。因为氩不污染真空系统,容易得到较高的纯度,氩的电离因为氩不污染真空系统,容易得到
10、较高的纯度,氩的电离电位较低,容易被激发电离,氩的等离子体稳定,容易获得高电位较低,容易被激发电离,氩的等离子体稳定,容易获得高电离度的等离子区。电离度的等离子区。2、反应气体:它与成膜的种类和工艺有关,例如,用磁控法、反应气体:它与成膜的种类和工艺有关,例如,用磁控法镀镀TiN,应充入氮气。,应充入氮气。充气系统充气系统 镀膜设备镀膜设备(真空溅射镀膜、真空离子镀膜和真空化学气相沉真空溅射镀膜、真空离子镀膜和真空化学气相沉积等积等)上都设有上都设有充气系统充气系统。需要充入的气体分两类:。需要充入的气体分两类:1、工作气体:通常是各种惰性气体,以氩为主。、工作气体:通常是各种惰性气体,以氩为
11、主。因为氩不污染真空系统,容易得到较高的纯度,氩的电离因为氩不污染真空系统,容易得到较高的纯度,氩的电离电位较低,容易被激发电离,氩的等离子体稳定,容易获得高电位较低,容易被激发电离,氩的等离子体稳定,容易获得高电离度的等离子区。电离度的等离子区。2、反应气体:它与成膜的种类和工艺有关,例如,用磁控法、反应气体:它与成膜的种类和工艺有关,例如,用磁控法镀镀TiN,应充入氮气。,应充入氮气。充气系统充气系统气体放电气体放电气体放电管气体放电管气体放电管气体放电管伏安特性伏安特性伏安特性伏安特性阴极溅射原理图阴极溅射原理图靶材的刻蚀图靶材的刻蚀图 一种新型刻蚀均匀磁控溅射源一种新型刻蚀均匀磁控溅射
12、源 离子镀原理图离子镀原理图MR2MR2电离电离电离电离CH4CH4和和和和MR3MR3纯石墨放电产生碳离子纯石墨放电产生碳离子纯石墨放电产生碳离子纯石墨放电产生碳离子项目项目真空蒸镀真空蒸镀阴极溅射阴极溅射离子镀离子镀粒子能量粒子能量0.11ev110ev数百数百数千数千ev沉积速度沉积速度m/mim0.1750.010.50.150附着性附着性一般一般相当好相当好非常好非常好绕射性绕射性不好不好好好好好三种三种PVD方法对比方法对比真空材料及部件的清洗真空材料及部件的清洗清洗的基本程序清洗的基本程序1污染物的确定污染物的确定2清洗方法的确定清洗方法的确定3清洗溶剂的选择清洗溶剂的选择4清洗
13、程序及注意事项清洗程序及注意事项 改进真空系统中所有器壁和组件表面在工作条件下的工改进真空系统中所有器壁和组件表面在工作条件下的工作稳定性。作稳定性。(工作条件包括:高温、低温、以及电子、离子、工作条件包括:高温、低温、以及电子、离子、光子或重粒子的发射和轰击。光子或重粒子的发射和轰击。)清洗的目的清洗的目的 常见的真空材料表面上的污染物常见的真空材料表面上的污染物1)加加工工、装装配配、操操作作时时沾沾染染上上的的润润滑滑剂剂、切切削削液液、焊焊剂剂、粘粘接接剂、真空油脂等;剂、真空油脂等;2)水基类:操作时的汗迹、指纹、吹气时的水汽、唾液等;)水基类:操作时的汗迹、指纹、吹气时的水汽、唾液
14、等;3)表表面面氧氧化化物物:材材料料长长期期放放置置在在空空气气中中或或放放置置在在潮潮湿湿空空气气中中所所形成的表面氧化物;形成的表面氧化物;4)酸、碱、盐类物质:清洗时的残余物质、水中的矿物质等;)酸、碱、盐类物质:清洗时的残余物质、水中的矿物质等;5)抛光残渣及环境空气中的尘埃和其它有机物等。)抛光残渣及环境空气中的尘埃和其它有机物等。6)在真空设备的使用过程中,造成的真空系统再污染;)在真空设备的使用过程中,造成的真空系统再污染;7)表面污染物:表面污染物:a)蒸汽压很高,)蒸汽压很高,b)吸附了大量气体。)吸附了大量气体。)原子级清洁表面:仅能在严格控制的超高真空条件下实)原子级清
15、洁表面:仅能在严格控制的超高真空条件下实现,一般需要通过较长的时间过程来实现,采用如加热、粒现,一般需要通过较长的时间过程来实现,采用如加热、粒子轰击、溅射、气体反应等技术手段在特定的表面区域内获子轰击、溅射、气体反应等技术手段在特定的表面区域内获得。得。)工工艺艺技技术术上上的的清清洁洁表表面面:保保证证所所有有的的表表面面尽尽可可能能没没有有其其它它微微观观结结构构物物质质,并并且且使使清清洗洗后后表表面面的的各各种种分分子子约约束束得得更更紧紧密密,在基体相上没有明显的化学物质。在基体相上没有明显的化学物质。清洁表面分类清洁表面分类表面清洗的基本方法表面清洗的基本方法溶溶 剂剂 清清 洗
16、洗1)纯水()纯水(O)溶解阳离子和阴离子结合的可溶性盐类溶解阳离子和阴离子结合的可溶性盐类2)无水有机溶剂)无水有机溶剂 无水乙醇、丙酮无水乙醇、丙酮(ACE)、甲酮、甲苯、航空汽油、松、甲酮、甲苯、航空汽油、松节油等。节油等。有机溶剂特性:有机溶剂特性:a)挥发性强,吸附热小,不易吸附在物品表面上;)挥发性强,吸附热小,不易吸附在物品表面上;b)溶剂沸点低,一般在)溶剂沸点低,一般在100以下以下;c)有较强的溶解性,对油脂、树脂、石蜡等有较强)有较强的溶解性,对油脂、树脂、石蜡等有较强的溶除能力;的溶除能力;d)对光和热都比较敏感)对光和热都比较敏感 碱和酸类碱和酸类碱类碱类:皂化类油去
17、除:主要成分为脂肪,即甘油三酸酯。通过皂化类油去除:主要成分为脂肪,即甘油三酸酯。通过皂化反应,除掉零件表面上粘附的油脂。皂化反应,除掉零件表面上粘附的油脂。矿物油去除:与碱液形成乳浊液(乳化作用),从物体表面矿物油去除:与碱液形成乳浊液(乳化作用),从物体表面清除。清除。酸类:酸类:金属表面的氧化层、氮化层、器件上的金属杂质、玻璃金属表面的氧化层、氮化层、器件上的金属杂质、玻璃表面的腐蚀层,可以通过酸类与其发生化学反应而除掉。表面的腐蚀层,可以通过酸类与其发生化学反应而除掉。常用有:盐酸、硫酸、硝酸、氢氟酸等常用有:盐酸、硫酸、硝酸、氢氟酸等 擦洗和浸洗擦洗和浸洗(喷射喷射)气体冲洗气体冲洗
18、(氮气氮气)利用高压液体喷射运动流体施加到表面黏附的粒子上利用高压液体喷射运动流体施加到表面黏附的粒子上的剪切力来破坏粒子与表面间的粘附力,粒子悬浮于湍流的剪切力来破坏粒子与表面间的粘附力,粒子悬浮于湍流流体中,被流体从表面带走。流体中,被流体从表面带走。氮气在材料表面吸附时,由于吸附热小,因而吸留表面氮气在材料表面吸附时,由于吸附热小,因而吸留表面时间极短。即便吸附在器壁上,也很容易被抽走。时间极短。即便吸附在器壁上,也很容易被抽走。优点:缩短系统的抽气时间。如真空室先充氮气后充入优点:缩短系统的抽气时间。如真空室先充氮气后充入大气,大气,(可缩短近一半抽气时间可缩短近一半抽气时间)。或镀工
19、件前用氮气喷一下。或镀工件前用氮气喷一下EBS的的Jig刷洗后,甩干时用的是刷洗后,甩干时用的是N2保护气。保护气。MR3镀膜前用镀膜前用N2冲刷。冲刷。超超 声声 波波 清清 洗洗原理:原理:超声空穴作用超声空穴作用超声波清洗设备超声波清洗设备:超声波发生器(仪):超声波发生器(仪)换能器(超声换能器(超声振子)振子)清洗槽清洗槽超声波工作频率一般在超声波工作频率一般在2050kHz之间。之间。特点:声波本身能进入复杂构造异形孔道,所以超声波清特点:声波本身能进入复杂构造异形孔道,所以超声波清洗可以清除复杂有孔零件内部的污染物,这是一般清洗方洗可以清除复杂有孔零件内部的污染物,这是一般清洗方
20、法所无法实现的。法所无法实现的。在真空室中充入适当分压力的惰性气体(如在真空室中充入适当分压力的惰性气体(如Ar气),气),可以利用两个适当的电极间的低压下的辉光放电产生的离可以利用两个适当的电极间的低压下的辉光放电产生的离子轰击来达到清洗的目的。子轰击来达到清洗的目的。放电时的气体压力可在放电时的气体压力可在110Pa之间之间,放电电压在,放电电压在500 5000V(加入加入10%的氧气使某些碳氢化合物氧化生成易挥发性气的氧气使某些碳氢化合物氧化生成易挥发性气体而容易被真空系统排除。体而容易被真空系统排除。)离子清洗离子清洗谢 谢!溅射机理:溅射完全是动能的交换过程溅射机理:溅射完全是动能
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