微电子器件与IC设计.pptx
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1、1第 2 章 PN 结2.1 PN结的形成及空间电荷区 2.2 PN结直流V-I特性2.3 PN结击穿2.4 PN结电容第1页/共60页22.1 PN结的形成及空间电荷区2.1.1、PN结的形成及类型1、PN 结含义:在一块N型(或P型)半导体单晶上,用特定的工艺方法把P型(或N型)杂质掺入其中,使这块单晶相连的二个不同区域分别具有N型和P型的导电类型,在二者交界面的过渡区即称为PN结。P PN NPN结第2页/共60页3半导体二极管半导体二极管按结构分为点接触型和面接触型点接触型(a)适用于高频电路,面接触型(b)适用于整流(c)是硅平面工艺型二极管的结构图,是集成电路中常见的一种形式。第3
2、页/共60页4第4页/共60页52.1.1、PN结的形成及类型2、PN结的类型(1)、突变结单边突变结 PN结 NP结P区N区x杂质浓度xjNAND第5页/共60页62.1.1、PN结的形成及类型(2)、缓变结NPx杂质浓度xjND-NA第6页/共60页72.1.1、PN结的形成及类型(3)、实际PN结近似缓变PN结附近杂质浓度有两种近似处理方法A。线性缓变结近似B。突变结近似NPx杂质浓度xjND-NA第7页/共60页82.1.1、PN结的形成及类型线性缓变结近似适用于表面杂质浓度较低、结深较深的缓变结x杂质浓度xjND-NA杂质浓度xjxj第8页/共60页92.1.1、PN结的形成及类型突
3、变结近似适用于表面杂质浓度较高、结深较浅的缓变结x杂质浓度xjND-NA杂质浓度xjx第9页/共60页102.1.2、空间电荷区空间电荷区形成内建电场内建电场阻止多子扩散载流子浓度差内建电场促使少子漂移多子的扩散和少子的漂移达到动态平衡。多子的扩散运动由杂质离子形成空间电荷区空间电荷区的形成空间电荷区的形成第10页/共60页112.1.2、空间电荷区NP空间电荷区XMX XN NX XP Pl空间电荷l空间电荷区l基本概念:第11页/共60页122.1.3、平衡PN结能带图 (没有外加偏压)空间电荷区内建电场PNxpxnVDqVD势电能势子电带能qVDECEVEFEi内建电场内建电势差VDl基
4、本概念:形成PN结前形成PN结后平衡PN结有统一的费米能级第12页/共60页132.1.3、PN结能带图平衡PN结能带图空间电荷区又称势垒区耗尽层空间电荷区内建电场PNxpxnVDqVD势电能势子电带能qVDECEVEFEi注意:由“多子”变成“少子”第13页/共60页14l内建电场:第14页/共60页15l耗尽区宽度:第15页/共60页16当p-n结一侧的掺杂浓度远比另一侧高的突变结为单边突变结图(a)和(b)分别显示单边突变p-n结及其空间电荷分布,其中NAND在这个例子,p侧耗尽层宽度较n侧小很多(也就是xp1,所以可以简化为I=I0eqVF/kT第43页/共60页442.2.42.2.
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- 微电子 器件 IC 设计
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