第7章晶体管及其放大电路.pptx
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1、7.1 晶体管本节主要内容:晶体管的结构晶体管的工作原理晶体管的伏安特性晶体管的主要参数温度对晶体管特性和参数的影响 第1页/共125页晶体管的结构 发射结 集电结 发射区 N P N 基区 集电区 c 集电极 e 发射极 b 基极 b (a)内部结构 (b)结构示意图 (c)电路符号 集电区 发射区 基区 c e 1、NPN型晶体管的结构和电路符号(c)图中的箭头表示发射结正向电流的方向。第2页/共125页2、PNP型晶体管的结构和电路符号 3、常见晶体管的封装外形如图所示:发射结 集电结 发射区 N P P 基区 集电区 c 集电极 e 发射极 b 基极(a)结构示意图 (b)电路符号 b
2、 c e 第3页/共125页晶体管的工作原理 内部条件:发射区掺杂浓度很高;基区很薄,掺杂浓度低;集电区面积很大,掺杂浓度远低于发射区。通过制造工艺保证内部条件的实现。外部条件:发射结加正向电压(正向偏置),集电结加反向电压(反向偏置)。通过电路设计保证外部条件的实现。1.载流子的传输过程(1)发射区向基区注入载流子 由于发射结正向偏置,发射区的电子源源不断地注入基区,基区的空穴也要注入发射区,二者共同形成发射极电流IE。由于基区掺杂浓度比发射区小23个数量级,基区注入发射区的空穴电流可以忽略不计 c e b N P N Rc VCC RbVBB IEN IEP ICN ICBO IBN IE
3、 IC IB+_ vCE+_ vBE 第4页/共125页(2)载流子在基区中的扩散与复合 电子不断地向集电结方向扩散,扩散过程中少量电子与空穴复合,形成基极电流的一部分IBN。由于基区宽度很窄,且掺杂浓度很低,从而大大地减小了电子与空穴复合的机会,使注入基区的95以上的电子都能到达集电结,它们将形成集电极电流的一部分ICN。所以 c e b N P N Rc VCC RbVBB IEN IEP ICN ICBO IBN IE IC IB+_ vCE+_ vBE 第5页/共125页(3)集电区收集载流子 集电结外加反向电压,基区中扩散到集电结边缘的电子,受电场的作用,漂移越过集电结形成集电极电流
4、的一部分ICN。另一方面,集电结两边的少数载流子漂移形成反向饱和电流,记为ICBO。通常,ICBOICN。显然,电子和空穴都参与电流传导过程,因此,称为双极结型三极管(Bipolar Junction Transistor,BJT),简称晶体管。由基尔霍夫电流定律:c e b N P N Rc VCC RbVBB IEN IEP ICN ICBO IBN IE IC IB+_ vCE+_ vBE 第6页/共125页 2.电流控制作用 定义ICN与IE之比为晶体管的共基极直流电流放大系数 ,即得 值越大,发射极电流对集电极电流的控制能力越强。则 得令为共射极直流电流放大系数 第7页/共125页即
5、共基极交流放大系数 近似等于共基极直流电流放大系数定义集电极电流变化量IC与基极电流变化量IB之比为共射极交流放大系数,即 第8页/共125页晶体管的伏安特性 1.输入特性曲线 输入特性曲线描述了在集射电压vCE一定的情况下,基极电流iB与基射电压vBE之间的函数关系,即 小功率硅管的门坎电压vth约为0.5V,锗管约为0.1V。小功率硅管的导通压降Von约为0.60.8V,一般取0.7V;小功率锗管约为0.20.3V,一般取0.2V。第9页/共125页2.输出特性曲线 输出特性曲线描述了在基极电流iB一定的情况下,集电极电流iC与集射电压vCE之间的函数关系,即 在输出特性曲线上可划分为三个
6、工作区:放大区、饱和区和截止区。(1)放大区(Active region)放大区的特点是:发射结正偏,集电结反偏;iCiB,体现了晶体管的放大作用(电流控制作用),曲线的间隔越大,值越大;iC 随vCE增加很小,呈恒流特性。第10页/共125页(2)饱和区(Saturation region)饱和区内的vCE称为饱和压降,小功率硅管的饱和压降典型值为0.3V,锗管为0.1V。饱和区的特点:发射结和集电结均为正偏置;iC不受iB控制,而近似随vCE线性增长。由于vCE小、而iC大,故ce(集电极和发射极)之间等效为开关的导通,或等效为一个小电阻,称为导通电阻。(3)截止区(Cutoff regi
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