第三章门电路.pptx
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1、11.本征半导体GeSi本征半导体的导电机理纯净的半导体。如:硅和锗1)最外层四个价电子。2)共价键结构+4+4+4+4共价键共用电子对+4表示除去价电子后的原子第1页/共127页2 共价键中的两个电子被紧紧束缚在共价共价键中的两个电子被紧紧束缚在共价键中,称为键中,称为束缚电子束缚电子,常温下束缚电子很难,常温下束缚电子很难脱离共价键成为脱离共价键成为自由电子自由电子,因此本征半导体,因此本征半导体中的自由电子很少,所以本征半导体的导电中的自由电子很少,所以本征半导体的导电能力很弱。能力很弱。形成共价键后,每个原子的最外层电子是形成共价键后,每个原子的最外层电子是八个,构成稳定结构。八个,构
2、成稳定结构。共价键有很强的结合力,共价键有很强的结合力,使原子规则排列,形成晶体。使原子规则排列,形成晶体。+4+4+4+4第2页/共127页33)在绝对)在绝对0度和没有度和没有外界激发时外界激发时,价电子完全价电子完全被共价键束缚着,本征被共价键束缚着,本征半导体中没有可以运动半导体中没有可以运动的带电粒子(即的带电粒子(即载流子载流子),它的导电能力为,它的导电能力为0,相,相当于绝缘体。当于绝缘体。+4+4+4+44)在热或光激发)在热或光激发下,使一些价电子获下,使一些价电子获得足够的能量而脱离得足够的能量而脱离共价键的束缚,成为共价键的束缚,成为自由电子自由电子,同时共价,同时共价
3、键上留下一个空位,键上留下一个空位,称为称为空穴空穴。+4+4+4+4空穴束缚电子自由电子第3页/共127页4可见因热激发而出现的自由电子和空穴是同时成对出现的,称为电子空穴对。第4页/共127页5在其它力的作用下,空穴吸引临近的电子来填补,这样的结果相当于空穴的迁移,而空穴的迁移相当于正电荷的移动,因此可以认为空穴是载流子。+4+4+4+45)自由电子和空穴的运动形成电流第5页/共127页6本征半导体的导电机理本征半导体中存在数量相等的两种本征半导体中存在数量相等的两种载流载流子子,即,即自由电子自由电子和和空穴空穴。温度温度越高越高载流子的载流子的浓度浓度越高越高本征半导本征半导体的体的导
4、电能力越强导电能力越强。本征半导体的导电能力取决于本征半导体的导电能力取决于载流子的载流子的浓度浓度。归纳第6页/共127页72.杂质半导体杂质半导体使某种载流子浓度大大增加。杂质半导体使某种载流子浓度大大增加。在本征半导体中掺入某些微量杂质。1)N型半导体在硅或锗晶体(四价)中掺入少量的五价元素磷,使自由电子浓度大大增加。多数载流子(多子):电子。取决于掺杂浓度;少数载流子(少子):空穴。取决于温度。第7页/共127页8+4+4+5+4N型半导体多余电子磷原子第8页/共127页92)P型半导体在硅或锗晶体(四价)中掺入少量的三价元素硼,使空穴浓度大大增加。多数载流子(多子):空穴。取决于掺杂
5、浓度;少数载流子(少子):电子。取决于温度。+4+4+3+4空穴硼原子第9页/共127页10归纳3、杂质半导体中起导电作用的主要是多子、杂质半导体中起导电作用的主要是多子。4、N型半导体中电子是多子,空穴是少子;P型半导体中空穴是多子,电子是少子。1、杂质半导体中两种载流子浓度不同,分为多数载流子和少数载流子(简称多子、少子)。2、杂质半导体中多数载流子的数量取决于掺杂浓度,少数载流子的数量取决于温度。第10页/共127页11杂质半导体的示意表示法P型半导体型半导体+N型半导体型半导体第11页/共127页12一、PN 结的形成 在同一片半导体基片上,分别制造在同一片半导体基片上,分别制造P型半
6、导体型半导体和和N型半导体,经过载流子的扩散,在它们的交界型半导体,经过载流子的扩散,在它们的交界面处就形成了面处就形成了PN结。结。因浓度差 多子的扩散运动由杂质离子形成空间电荷区 空间电荷区形成内电场 内电场促使少子漂移 内电场阻止多子扩散13P型半导体N型半导体+扩散运动内电场E漂移运动空间电荷区PN结处载流子的运动第13页/共127页14扩散的结果是使空间电荷区逐渐加宽。漂移运动P型半导体N型半导体+扩散运动内电场EPN结处载流子的运动内电场越强,就使漂移运动越强,而漂移使空间电荷区变薄。第14页/共127页15漂移运动P型半导体N型半导体+扩散运动内电场EPN结处载流子的运动所以扩散
7、和漂移这一对相反的运动最终达到平衡,相当于两个区之间没有电荷运动,空间电荷区的厚度固定不变。第15页/共127页16+空间电荷区N型区P型区 PN结第16页/共127页17 1)PN结加正向电压时的导电情况 外加的正向电压有一部分降落在PN结区,方向与PN结内电场方向相反,削弱了内电场。于是,内电场对多子扩散运动的阻碍减弱,扩散电流加大。扩散电流远大于漂移电流,可忽略漂移电流的影响,PN结呈现低阻性。第17页/共127页18 2.PN结加反向电压时的导电情况 外加的反向电压有一部分降落在PN结区,方向与PN结内电场方向相同,加强了内电场。内电场对多子扩散运动的阻碍增强,扩散电流大大减小。此时P
8、N结区的少子在内电场的作用下形成的漂移电流大于扩散电流,可忽略扩散电流,PN结呈现高阻性。在一定的温度条件下,由本征激发决定的少子浓度是一定的,故少子形成的漂移电流是恒定的,基本上与所加反向电压的大小无关,这个电流也称为反向饱和电流。第18页/共127页19空间电荷区中没有载流子。空间电荷区中内电场阻碍空间电荷区中内电场阻碍多子多子(P中的中的 空穴、空穴、N中的电子)中的电子)的的扩散运动。扩散运动。P中的电子和中的电子和N中的空穴(中的空穴(都是少子都是少子)数量有限,因此由它们形成的漂移电流数量有限,因此由它们形成的漂移电流 很小。很小。空间电荷区中内电场推动空间电荷区中内电场推动少子少
9、子(P中的中的 电子、电子、N中的空穴)中的空穴)的的漂移运动。漂移运动。归纳第19页/共127页20二、PN结的单向导电性 PN结结加正向电压加正向电压(正向偏置)正向偏置):P区区接电源的正极、接电源的正极、N区接电源的负极。区接电源的负极。PN结结加反向电压加反向电压(反向偏置反向偏置):):P区区接电源的负极、接电源的负极、N区接电源的正极。区接电源的正极。PN结结呈现低电阻,处于导通状态呈现低电阻,处于导通状态。PN结结呈现高电阻,处于截止状态呈现高电阻,处于截止状态。第20页/共127页三、三、PNPN结的电容效应结的电容效应1.1.势垒电容 PNPN结外加电压变化时,空间电荷区的
10、宽度将发生变化,有电荷的积累和释放的过程,与电容的充放电相同,其等效电容称为势垒电容C Cb b。2.2.扩散电容 PNPN结外加的正向电压变化时,在扩散路程中载流子的浓度及其梯度均有变化,也有电荷的积累和释放的过程,其等效电容称为扩散电容C Cd d。结电容:结电容不是常量!若PNPN结外加电压频率高到一定程度,则失去单向导电性!第21页/共127页22半导体二极管的基本结构一、基本结构PN结 +管壳和引线PN阳极阴极符号:D分类:点接触型面接触型平面型第22页/共127页23二极管的伏安特性及主要参数UI死区电压 硅管0.5V,锗管0.1V。导通压降:硅管0.60.8V,锗管0.20.3V
11、。反向击穿电压UBR正向特性:EDI反向特性:EDI反U死区电压,导通;UI I反很小,与温度有关;U 击穿电压,击穿导通;I 一、伏安特性第23页/共127页24二、主要参数1.最大整流电流 IOM2.最大反向工作电压URM二极管长时间使用时,允许流过二极管的最大正向平均电流。二极管正常工作时允许承受的最大反向工作电压。手册上给出的最高反向工作电压URM一般是UBR的一半。3.最大反向电流 IRM指二极管加反向工作峰值电压时的反向电流指二极管加反向工作峰值电压时的反向电流。反向电流。反向电流大,说明管子的单向导电性差,因此反向电流越小越好。反大,说明管子的单向导电性差,因此反向电流越小越好。
12、反向电流受温度的影响,温度越高反向电流越大。硅管的反向向电流受温度的影响,温度越高反向电流越大。硅管的反向电流较小,锗管的反向电流要大几十到几百倍。电流较小,锗管的反向电流要大几十到几百倍。第24页/共127页252.二极管的应用电路如图示:已知E=5V,ui=10sin t VRDEuiuO解:此类电路的分析方法:当D的阳极电位高于阴极电位时,D导通,将D作为一短路线;当D的阳极电位低于阴极电位时,D截止,将D作为一断开的开关;将二极管看成理想二极管ui tuO t10V5V5V削波例1求:uO的波形第25页/共127页26电路如图示:已知 VA=3VVB=0V 求:VF=?解:此类电路的分
13、析方法:将二极管看成理想二极管。当几个二极管共阳极或共阴极连接时,承受正向电压高的二极管先导通。DB通,VF=0VRDAADBB+12VF箝位隔离例2 2第26页/共127页27本章介绍数字电路的基本逻辑单元-门电路主要内容二极管三极管的开关特性TTLTTL和CMOSCMOS门电路的原理及输入输出特性第三章门电路3.1 3.1 概述3.2 3.2 半导体二极管门电路3.5 TTL3.5 TTL门电路3.3 COMS3.3 COMS门电路第27页/共127页28门:具有开关作用。门:具有开关作用。门电路:具有控制信号通过或不通过能力的电路。门电路:具有控制信号通过或不通过能力的电路。器件的开关作
14、用开关特性体现开关作用静态特性转换过程动态特性理想开关特性Z0 短路、相当开关闭合Z 断路、相当开关断开门电路是用以实现逻辑关系的电子电路。第28页/共127页29门电路分立元件门电路集成门电路双极型集成门(DTL、TTL)CMOS集成门集成逻辑门中广泛使用的开关器件是:晶体管 场效应管 研究它们的开关特性第29页/共127页303.1 概述在数字电路中,用高、低电平分别表示逻辑代数中的1、0获得高、低电平的基本方法:当S打开时,vO为高电平当S闭合时,vO为低电平S用二极管或三极管或场效应管来实现控制管子工作在截止和导通状态,它们就可起到图中S的作用VCCvOvIS输出信号输入信号第30页/
15、共127页31若以高电平表示1 1,低电平表示0 0,则称正逻辑若以高电平表示0 0,低电平表示1 1,则称负逻辑1 10 0正逻辑0 01 1负逻辑本书采用正逻辑高电平下限低电平上限第31页/共127页323.2 半导体二极管的门电路半导体二极管的开关特性VCCRDvO+-v+-1.二极管开关电路当vI=VIL时,D导通,vO=0V=VOL设VIL=0V,VIH=VCC,D为理想二极管当vI=VIH时,D截止,vO=VCC=VOH用vI的高低电平控制二极管的开关状态,在输出端得到高、低电平输出信号第32页/共127页33二极管的开关特性二极管的开关特性 正向导通时UD(ON)0.7V(硅)0
16、.3V(锗)RD几 几十相当于开关闭合 EDuiU(BR)0UonIS20第33页/共127页3434理想二极管近似分析中最常用理想开关理想开关导通时导通时 UD0截止时截止时IS0导通时导通时UDUon截止时截止时IS0导通时i与u成线性关系应根据不同情况选择不同的等效电路!应根据不同情况选择不同的等效电路!二极管的等效模型二极管的等效模型第34页/共127页35反向截止时反向饱和电流极小反向电阻很大(约几百k)相当于开关断开EDuiU(BR)0UonIS20为了保证可靠截止,通常二极管两端加负压。第35页/共127页36 当外加电压突然由正向变为反向时,存储电荷反向电场的作用下,形成较大当
17、外加电压突然由正向变为反向时,存储电荷反向电场的作用下,形成较大的反向电流。经过的反向电流。经过t ts s后,存储电荷显著减少,反向电流迅速衰减并趋于稳态时后,存储电荷显著减少,反向电流迅速衰减并趋于稳态时的反向饱和电流。的反向饱和电流。当外加电压由反向突然变为正向时,当外加电压由反向突然变为正向时,要等到要等到PN结内部建立起足够的电荷梯度结内部建立起足够的电荷梯度后才开始有扩散电流形成,因而正向电后才开始有扩散电流形成,因而正向电流的建立稍微滞后一点。流的建立稍微滞后一点。反向恢复时间反向恢复时间(几纳秒内)(几纳秒内)2.动态特性:第36页/共127页37二极管与门VCC=5VR=3K
18、D1ABYD2设:VIL=0V,VIH=3V,二极管正向导通压降为0.7V分析可得:若定义1表示高电平,0表示低电平,则得真值表:&ABY结论:该电路实现了与的关系,为与门第37页/共127页38工作波形(又一种表示逻辑功能的方法)逻辑表达式FA B第38页/共127页39VCC=5VR=3KD1A1B1Y1D2VCC=5VR=3KD1A2B2Y2D2一般不用它直接驱动负载电路第39页/共127页40二极管或门分析可得:若定义1表示高电平,0表示低电平,则得真值表:设:VIL=0V,VIH=3V,二极管正向导通压降为0.7VRD1ABYD2结论:该电路实现了或的关系,为或门1ABY第40页/共
19、127页41工作波形逻辑表达式FA+B第41页/共127页42MOS门电路:以MOS管作为开关元件构成的门电路。MOS门电路,尤其是CMOS门电路具有制造工艺简单、集成度高、抗干扰能力强、功耗低、价格便宜等优点,得到了十分迅速的发展。3.3 CMOS 门电路门电路第42页/共127页43CMOS MOS管有NMOS管和PMOS管两种。当NMOS管和PMOS管成对出现在电路中,且二者在工作中互补,称为CMOS管(意为互补)。MOS管有增强型和耗尽型两种。在数字电路中,多采用增强型。第43页/共127页44P PN N+S SG GD DN N+以P P型半导体作衬底形成两个PNPN结SiOSiO
20、2 2保护层引出两个电极引出两个电极引出栅极Al Al从衬底引出电极两边扩散两个高浓度的N N区N沟道增强型MOSFET的结构增强型增强型MOS管管第44页/共127页45PN+SGDN+SiO2保护层Al故又称为MOS管管子组成:a.金属(Metal)b.氧化物(Oxide)c.半导体(Semiconductor)第45页/共127页462.2.工作原理 电路连接图P PN N+S SG GD DN N+第46页/共127页47(1)uGS=0,uDS0源极和漏极之间始终有一个PN结反偏,iD=0PN+SGN+iD=0D+SDB 不论不论D、S间有无电压,间有无电压,均无法导通,不能导电。均
21、无法导通,不能导电。第47页/共127页48PN+SGN+iD=0D+2uGS 0,uDS=0产生垂直向下的电场第48页/共127页49PN+SGN+iD=0D+电场排斥空穴形成耗尽层吸引电子第49页/共127页50PN+SGN+iD=0D+形成导电沟道当uGS=UGS(th)时出现反型层可以通过改变可以通过改变vGS的大小来控制的大小来控制iD的大小。的大小。第50页/共127页51PN+SGN+iD=0D+UGS(th)开启电压N沟道增强型MOS管,简称NMOSN沟道第51页/共127页52二、MOS管的输入、输出特性管的输入、输出特性 对于共源极接法的电路,栅极和衬底之间被二氧化硅绝缘层
22、隔离,对于共源极接法的电路,栅极和衬底之间被二氧化硅绝缘层隔离,所以所以栅极电流为零栅极电流为零。输出特性曲线输出特性曲线(漏极特性曲线)(漏极特性曲线)第52页/共127页53夹断区(截止区)用途:做无触点的、断开状态的电子开关。条件:整个沟道都夹断 特点:第53页/共127页54可变电阻区特点:(1)当vGS 为定值时,iD 是 vDS 的线性函数,管子的漏源间呈现为线性电阻,且其阻值受 vGS 控制。(2)管压降vDS 很小。用途:做压控线性电阻和无触点的、闭合状态的电子开关。条件:源端与漏端沟道都不夹断 第54页/共127页55恒流区:(又称饱和区或放大区)特点:(1)受控性:输入电压
23、vGS控制输出电流(2)恒流性:输出电流iD 基本上不受输出电压vDS的影响。条件:(1)源端沟道未夹断 (2)漏端沟道预夹断 用途:可做放大器和恒流源。第55页/共127页56三、MOS管的基本开关电路 当vI=vGSVGS(th)且vI继续升高时,MOS管工作在可变电阻区。MOS管导通内阻RON很小,D-S间相当于闭合的开关,vO0。第57页/共127页58场效应管开关电路场效应管开关电路VDDRDGiD+vIvO+SD当当vI=VIL时,场效应管截止,时,场效应管截止,iD0,相当于开关断开,相当于开关断开,vOVCC;当当vI=VIH时,场效应管导通,时,场效应管导通,uDS0,相当于
24、开关闭合,相当于开关闭合,vO0;当当vI VGS(th)时,场效应管工作在恒流区;时,场效应管工作在恒流区;当当vI增加到一定程度时,场效应管工作在增加到一定程度时,场效应管工作在 变阻区。变阻区。uDSiDUGS1=UGS(th)OUGS1UGS2UGS3可变可变电阻区电阻区夹断区夹断区恒流区恒流区第58页/共127页59关于场效应管符号的说明:N N沟道增强型MOSMOS管,衬底箭头向里。漏、衬底和源、分开,表示零栅压时沟道不通。表示衬底在内部没有与源极连接。N N沟道耗尽型MOSMOS管。漏、衬底和源不断开表示零栅压时沟道已经连通。GSD如果是P P沟道,箭头则向外。P 沟道增强型沟道
25、增强型第59页/共127页60反相器工作原理 PMOS管NMOS管CMOS电路VDDT1T2vIvO一、电路结构 当NMOS管和PMOS管成对出现在电路中,且二者在工作中互补,称为CMOS管(意为互补)。第60页/共127页61VDDTPTNvIvOvI=0截止截止 vo=“”导导 通通第61页/共127页62vI=1VDDT1T2vIvO导通导通 vo=“”截止截止 静态下,无论静态下,无论vI是高电平还是低电平,是高电平还是低电平,T1、T2总有总有一个截止,因此一个截止,因此CMOS反相器的静态功耗极小。反相器的静态功耗极小。第62页/共127页63与非门与非门AT1T2VDDYT3T4
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