第5章场效应管放大电路.pptx
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1、5.1 金属金属-氧化物氧化物-半导体半导体(MOS)场效应管)场效应管5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET5.1.5 MOSFET的主要参数的主要参数5.1.2 N沟道耗尽型沟道耗尽型MOSFET5.1.3 P沟道沟道MOSFET5.1.4 沟道长度调制效应沟道长度调制效应第1页/共63页场效应管分类场效应管分类结型场效应管结型场效应管绝缘栅场效应管绝缘栅场效应管特点特点单极型器件单极型器件(一种载流子导电一种载流子导电);输入电阻高;输入电阻高;工工艺艺简简单单、易易集集成成、功功耗耗小小、体体积积小小、成本低。成本低。场效应管:是是利利用用输输入入回回路路的的电电压压产产生生的
2、的电电场场效效应应来来控控制制输输出出回回路路电电流流的的三三极极管管.一一种种载载流流子子参参与与导导电电,又又称称单单极型三极管。极型三极管。第2页/共63页P沟道沟道耗尽型耗尽型P沟道沟道P沟道沟道N沟道沟道增强型增强型N沟道沟道N沟道沟道(耗尽型)(耗尽型)FET场效应管场效应管JFET结型结型MOSFET绝缘栅型绝缘栅型(IGFET)耗尽型耗尽型:场效应管没有加偏置电压时,就有导电沟道存在:场效应管没有加偏置电压时,就有导电沟道存在增强型增强型:场效应管没有加偏置电压时,没有导电沟道:场效应管没有加偏置电压时,没有导电沟道场效应管的分类:Metal-Oxide Semiconduct
3、or Field Effect TransistorJunction Field Effect Transistor第3页/共63页5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET剖面图1.结构结构(N沟道)沟道)符号在一块掺杂浓度较低的P型硅衬底上,制作两个高掺杂浓度的N+区,并用金属铝引出两个电极,分别作漏极d d和源极s s。然后在半导体表面复盖一层很薄的二氧化硅(SiO2)绝缘层,在漏-源极间的绝缘层上再装上一个铝电极,作为栅极g g。栅极与其它电极间是绝缘的。在衬底上也引出一个电极B B,这就构成了一个N沟道增强型MOS管。MOS管的源极和衬底通常是接在一起的(大多数管子在出厂前已连接
4、好)。第4页/共63页5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET1.结构结构(N沟道)沟道)L:沟道长度W:沟道宽度tox:绝缘层厚度通常 W L(动画动画2-3)第5页/共63页5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET2.工作原理工作原理(1)vGS对沟道的控制作用对沟道的控制作用当vGSGS=0=0时 漏源之间相当于两个背靠背的 PN 结,无导电沟道,d、s间加电压时,也无电流产生。当00vGS GS V VT T)时,vDSDS iD D 沟道电位梯度 整个沟道呈楔形分布5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET第7页/共63页当vGSGS一定(vGS GS V VT T)
5、时,vDSDS iD D 沟道电位梯度 当vDSDS增加到使vGDGD=V VT T 时,在紧靠漏极处出现预夹断。2.工作原理工作原理(2)vDS对沟道的控制作用对沟道的控制作用在预夹断处:vGDGD=vGSGS-vDS DS=V VT T5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET第8页/共63页预夹断后,vDSDS 夹断区延长沟道电阻 iD D基本不变2.工作原理工作原理(2)vDS对沟道的控制作用对沟道的控制作用5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET第9页/共63页2.工作原理工作原理(3)vDS和和vGS同时作用时同时作用时 vDSDS一定,vGSGS变化时 给定一个vGS
6、GS,就有一条不同的 iD D vDS DS 曲线。5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET第10页/共63页(4)正常放大时外加偏置电压的要求正常放大时外加偏置电压的要求:2.工作原理工作原理5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET第11页/共63页3.V-I 特性曲线特性曲线(1)输出特性)输出特性 截止区当vGSVT时,导电沟道尚未形成,iD0,为截止工作状态。5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET第12页/共63页3.V-I 特性曲线特性曲线(1)输出特性)输出特性 可变电阻区 vDS(vGSVT)由于vDS较小,可近似为:rdso是一个受vGS控制的可变电阻 5.
7、1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET第13页/共63页3.V-I 特性曲线特性曲线(1)输出特性)输出特性 可变电阻区 n:反型层中电子迁移率Cox:栅极(与衬底间)氧化层单位面积电容本征电导因子其中Kn为电导常数,单位:mA/VmA/V2 25.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET第14页/共63页3.V-I 特性曲线特性曲线(1)输出特性)输出特性 饱和区(恒流区又称放大区)vGS GS VT,且vDSDS(v vGSGSVT)是vGSGS2 2VT时的iD D V V-I I 特性:5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET第15页/共63页3.V-I 特性曲线特性曲线(
8、2)转移特性)转移特性5.1.1 N沟道增强型沟道增强型MOSFET第16页/共63页5.1.2 N沟道耗尽型沟道耗尽型MOSFET1.结构和工作原理简述结构和工作原理简述(N沟道)沟道)二氧化硅绝缘层中掺有大量的正离子 可以在正或负的栅源电压下工作,而且基本上无栅流第17页/共63页5.1.2 N沟道耗尽型沟道耗尽型MOSFET2.V-I 特性曲线特性曲线 (N N沟道增强型)第18页/共63页5.1.3 P沟道沟道MOSFET第19页/共63页*5.1.4 沟道长度调制效应沟道长度调制效应实际上饱和区的曲线并不是平坦的L的单位为 m当不考虑沟道调制效应时,0 0,曲线是平坦的。修正后第20
9、页/共63页5.1.5 MOSFET的主要参数的主要参数一、直流参数一、直流参数1.1.开启电压V VT T (增强型参数)2.2.夹断电压V VP P (耗尽型参数)3.3.饱和漏电流I IDSSDSS (耗尽型参数)4.4.直流输入电阻R RGSGS (10109 910101515 )二、交流参数二、交流参数 1.1.输出电阻r rdsds 第21页/共63页5.1.5 MOSFET的主要参数的主要参数2.2.低频互导g gm m 二、交流参数二、交流参数 考虑到 则其中对于N沟道增强型MOSFET:第22页/共63页5.1.5 MOSFET的主要参数的主要参数end三、极限参数三、极限
10、参数 1.1.最大漏极电流I IDMDM 2.2.最大耗散功率P PDMDM 3.3.最大漏源电压V V(BRBR)DSDS 4.4.最大栅源电压V V(BRBR)GSGS 第23页/共63页5.2 MOSFET放大电路放大电路5.2.1 MOSFET放大电路放大电路1.直流偏置及静态工作点的计算直流偏置及静态工作点的计算2.小信号模型分析小信号模型分析*5.2.2 带带PMOS负载的负载的NMOS放大电路放大电路3.MOSFET 三种基本放大电路比较三种基本放大电路比较第24页/共63页5.2.1 MOSFET放大电路放大电路1.直流偏置及静态工作点的计算直流偏置及静态工作点的计算(1)简单
11、的共源极放大电路(N沟道)共源极放大电路b G,e S,c D 为为了了使使场场效效应应管管工工作作在在恒恒流流区区实实现现放放大大作作用,应满足:用,应满足:与双极型三极管对应关系与双极型三极管对应关系第25页/共63页5.2.1 MOSFET放大电路放大电路1.直流偏置及静态工作点直流偏置及静态工作点(VGSQ、IDQ VDSQ)的计算的计算(1)简单的共源极放大电路(N沟道)假设工作在饱和区,即验证是否满足如果不满足,则说明假设错误须满足VGS VT,否则工作在截止区再假设工作在可变电阻区即两种方法两种方法近似估算法近似估算法图解法图解法 第26页/共63页假设工作在饱和区(放大区)满足
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