集成电路设计的现状与未来.ppt
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1、1,集成电路设计的现状与未来,2,集成电路发展的特点,1)摩尔定律: IC集成度每18个月增加一倍 特征线宽每3年缩小302)集成电路一直是工业领先与理论 工艺制造领先与设计的领域3) 电子产品中 集成电路所占成本从 510增加到 3035,3,国际半导体技术发展蓝图,4,集成电路工艺发展趋势1,5,集成电路工艺发展趋势-2,英特尔公司已经在用65纳米工艺生产SRAM芯片,芯片含1000万个晶体管。英特尔公司65纳米工艺,采用能够阻止电流泄露到其它电路的晶体管以及其它技术,能够提高芯片的性能或降低能耗。在65纳米工艺芯片中栅极的长度更短了,从而提高晶体管的性能。通过保持厚度不变,电容将能够降低
2、20%。65纳米工艺芯片中还包含能够切断其它晶体管电源的睡眠晶体管。,6,集成电路的产业变革和技术变革,7,高性能集成电路的例子,1.5GHz 的第三代 Itanium2 处理器1)Intel 和HP 联合设计130nm工艺, 374平方毫米, 4.1亿个晶体管 6MB,24路组相联模式的3级cache 二重阈值电压,6层铜互联 1.3V电压下以1.5GHz的速度运行最大功耗为130W,8,第三代 Itanium2 处理器芯片照片,9,集成电路设计流程,1)芯片功能、性能定义2)系统设计、算法设计3)行为级描述,行为级优化4)逻辑综合,逻辑优化,门级仿真,测试生成5)布局布线,参数提取,后仿真
3、,制版数据生成6) 芯片测试,封装。,10,芯片功能定义,用户提出芯片功能、性能要求,如:1)CPU芯片:位数、总线宽度、每秒执行指令数、数据传输速率、I/O驱动能力、功耗、工作温度2)视频解码芯片:编解码方式,高清晰度标准清晰度、输入输出信号、控制性号。3)智能卡:存储器容量,签名认证方案,芯片面积,芯片厚度,引脚数,工作电压,接触式非接触式,管脚静电保护,信息保持时间。,11,系统设计、算法设计,12,行为级描述,13,门级描述,14,晶体管级描述,15,芯片版图单元,16,芯片版图单元,17,芯片版图总图1,18,芯片版图总图2,19,半导体工艺发展与IC设计效率的比较,20,提高IC设
4、计效率的途径,21,IC设计费用模型,22,IC设计费用,1)不采用IP复用开发芯片,其费用将从每片$120M增长为$8B,或每片$3M增长为$200M。2)为保证电子工业的发展,到2007年每个芯片的97%均由IP复用模块构成,只有达到这一级别的复用水平,芯片的设计费用才能降低到可接受水平。 3)为达到这一水平的设计复用设计芯片和设计IP的方法必须有很大的改变。,23,SOC-摆脱IC设计困境的途径,1)功能越来越复杂,一个团队不可能从每一个晶体管设计开始,必须用第三方的IP核;2)多个芯片在I/O上会增加功耗,SOC方法可降低功耗;3)产品的上市时间的压力,要求快速开发;4)和产品的生命周
5、期越来越短,制版费用越来越贵,芯片必须可以重构,以延长其生命周期;5)深亚微米设计的问题,时序收敛更加困难;7)芯片复杂度增加,使得验证更加困难;6)以前的成功设计是宝贵的资源,必须重用。,24,SOC是什么?,SOC(System on a Chip),系统芯片,片上系统,单芯片系统。,25,系统芯片SOC结构示意图,26,SOC设计方法包括三个方面1,27,SOC设计方法包括三个方面2,28,SOC设计方法包括三个方面3,29,IP核是什么?,IP(Intellectual Property):知识产权1)有独立功能的、经过验证的集成电路设计;2)为了易于重用而按嵌入式要求专门设计的;3)
6、面积、速度、功耗、工艺容差上都是优化的;4)符合IP标准。,30,三种IP特点的比较,31,使IP可复用的要点,32,基于IP复用的SOC设计,33,SOC设计面临两个基本的复杂性,1)硅复杂性: 工艺按比例缩小、新器件和新材料带来的影响。2)系统复杂性: 芯片功能增加、成本上升、产品生命周期变短。,34,硅复杂性1,1 器件寄生效应和电源阈值电压非理想按比例缩小(漏电、电源管理、电路器件创新、电流输送);2 高频器件耦合和互连(噪声干扰、信号完整性分析和控制、衬底耦合、延时);3 制造设备的限制(统计性工艺模型、库特征分析);4 全局互连性能和器件性能的比例变化的关系(片上通信、同步);,3
7、5,硅复杂性2,5 可靠性降低(栅绝缘体的隧道效应和击穿、焦耳热效应和电迁移、带电粒子引起的单事件扰动、故障容错能力);6 制造交付的复杂性(母版的改进和掩膜写入检查流程、一次性工程费用);7 工艺的离散性(库特征分析、模拟和数字电路的性能、容错设计、版图重用、可靠的、可预测的实现平台)。,36,系统复杂性1,1 重用(支持结构化设计、模拟和数模混合信号、测试重用);2 验证和测试(规范的制定、可测性设计、系统级和软件的验证、模拟和数模混合信号的验证、自测试、噪声和延迟故障的智能化测试、测试设备的时序限制);3 成本驱动的设计优化(制造成本建模和分析、质量标准、芯片封装系统协同优化)4 针对多
8、系统目标的容错设计、可测性优化;,37,系统复杂性2,5 嵌入式软件设计(基于平台的可预测系统设计方法学、针对网络系统环境的软件于硬件协同设计、软件验证和分析);6 可靠的实现平台(使用多种电路结构的可预测芯片实现、更高层次的实现);7 设计流程管理(设计队伍的规模、不同地域的分布、数据管理、对协同设计的支持、供应链的管理、量度、连续流程的不断提高),38,硅复杂性和系统复杂性带来了5个严重挑战,1 生产率2 功耗3 制造集成4 干扰5 容错,39,生产率,1 支持更高层次的系统设计交付的、可靠的和可预测的IP;2 嵌入式软件设计;3 大型的、人员分布广泛的设计组织、使用不同的设计工具;4 模
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