Graphene石墨烯制备设备.pptx

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1、Grephene 石墨烯制备设备姓名：李余强Mail:liyuqianglongsun.asia欢迎技术交流：010-82254950-202Graphene 石墨烯制备设备共10页，您现在浏览的是第1页!Graphene 石墨烯制备设备石墨烯制备设备联系人：李先生 15311232173 010-82254950-202邮箱：liyuqianglongsun.asiaAS-One 石墨烯制备设备石墨烯制备设备可实现石墨烯制备和可实现石墨烯制备和RTP 快速退火功能快速退火功能 Up to 1500C,up to 200C/s,high vacuum capability,fast cooli

2、ng option设备设备外外观图观图：a 带电脑桌 b.不带电脑桌Graphene 石墨烯制备设备共10页，您现在浏览的是第2页!Graphene 石墨烯制备设备石墨烯制备设备联系人：李先生 15311232173 010-82254950-202邮箱：liyuqianglongsun.asia设备的基本结构：设备的基本结构：Graphene 石墨烯制备设备共10页，您现在浏览的是第3页!Graphene 石墨烯制备设备石墨烯制备设备联系人：李先生 15311232173 010-82254950-202邮箱：liyuqianglongsun.asia石墨烯生长腔室结构石墨烯生长腔室结构腔室

3、内部实物图腔室内部实物图Graphene 石墨烯制备设备共10页，您现在浏览的是第4页!Graphene 石墨烯制备设备石墨烯制备设备联系人：李先生 15311232173 010-82254950-202邮箱：liyuqianglongsun.asia最佳的腔体设计最佳的腔体设计最佳的腔体设计最佳的腔体设计1.Laminar gas flow optimized by modelization 气流的在腔室中是层流式的，实现气流的均匀化到达基底表面，可实现气流的在腔室中是层流式的，实现气流的均匀化到达基底表面，可实现石墨烯的均匀生长。石墨烯的均匀生长。2.The gas injection

4、beneath the quartz window avoids cold spots on the substrate 气流是是从石英玻璃表面到达基地表面，可以实现气流无冷流出现气流是是从石英玻璃表面到达基地表面，可以实现气流无冷流出现（低温气流）（低温气流）3.Minimum volume,reduced surface for better high vacuum performance and easy cleaning of the chamber 腔体容积小，可实现高真空，容易清理。腔体容积小，可实现高真空，容易清理。Graphene 石墨烯制备设备共10页，您现在浏览的是第5页!

5、Graphene 石墨烯制备设备石墨烯制备设备联系人：李先生 15311232173 010-82254950-202邮箱：liyuqianglongsun.asiaSPECIFICATIONSAS-One 100AS-One 150Maximum substrate diameter 100 mm(4”)150 mm(6”)Chamber dimensions130 mm diameter x 25 mm200 mm diameter x 25 mmNumber of lamps/Maximum power12/30 kW18/34 kWLamp coolingFanFanTemperatu

6、re range standardTemperature range(HT version)RT to 1250CRT to 1500CRT to 1200CRT to 1300CRamp rate 0.1C to 200C/s 0.1C to 150C/s Temperature controlFast digital PID controllerFast digital PID controllerThermocouple2 K type(center and edge)2 K type(center and edge)Low temperature pyrometer range150C

7、 to 1100C150C to 1100CHigh temperature pyrometer range400C to 1500C400C to 1500CPyrometer ports2(center and edge)2(center and edge)Gas injectionUnder quartz windowUnder quartz windowPurge gas lineStandardStandardProcess gas line with mass flow cont.Up to 5Up to 5Vacuum valve and vacuum gaugeStandard

8、Standard设备设备性能参数性能参数汇总汇总表：表：设备性能参数汇总表：设备性能参数汇总表：Graphene 石墨烯制备设备共10页，您现在浏览的是第6页!Graphene 石墨烯制备设备石墨烯制备设备联系人：李先生 15311232173 010-82254950-202邮箱：liyuqianglongsun.asia石墨烯生长腔室结构石墨烯生长腔室结构ThermocoupleThermocoupleVacuumCold wall chamberHalogen lampsPyrometer positionat edge viewportWaferQuartz windowGAS INL

9、ETPyrometer at central viewport腔室结构示意图腔室结构示意图Graphene 石墨烯制备设备共10页，您现在浏览的是第7页!Graphene 石墨烯制备设备石墨烯制备设备联系人：李先生 15311232173 010-82254950-202邮箱：liyuqianglongsun.asia为什么选用该种结构：为什么选用该种结构：冷腔壁结构，优点：冷腔壁结构，优点：1.Low memory effect and high process reproducibility 低记忆效应和高可重复性低记忆效应和高可重复性 2.Higher cooling rates(enh

10、anced cooling rates with fast cooling option)高的降温速率高的降温速率 3.Ultra clean and contamination-free environment 高洁净低污染高洁净低污染4.Easy to clean and maintain 便于清理维护便于清理维护Graphene 石墨烯制备设备共10页，您现在浏览的是第8页!Graphene 石墨烯制备设备石墨烯制备设备联系人：李先生 15311232173 010-82254950-202邮箱：liyuqianglongsun.asia厂家免费提供石墨烯制备工艺一套厂家免费提供石墨烯制备工艺一套Graphene 石墨烯制备设备共10页，您现在浏览的是第9页!Graphene 石墨烯制备设备石墨烯制备设备联系人：李先生 15311232173 010-82254950-202邮箱：liyuqianglongsun.asialongsun.longsun.asiaThank you for your attention!Graphene 石墨烯制备设备共10页，您现在浏览的是第10页!