LTCC材料共烧技术基础研究.pptx
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1、2023/3/201LTCCLTCC技术的概念及其分类技术的概念及其分类_ _概念概念 LTCCLTCCLTCCLTCC技术技术技术技术是一种先进的混合电路封装技术它是将四大无源器件,即变压器(T)、电容器(C)、电感器(L)、电阻器(R)集成,配置于多层布线基板中,与有源器件(如:功率MOS、晶体管、IC电路模块等)共同集成为一完整的电路系统。有效地提高电路的封装密度及系统的可靠性 第1页/共55页2023/3/202LTCCLTCC技术的概念及其分类技术的概念及其分类_ _概念概念The character of Thick Film、LTCC、HTCC technology第2页/共55
2、页2023/3/203LTCCLTCC技术的概念及其分类技术的概念及其分类_ _概念概念LTCC substrate with integrated passivesConstruction of typical LTCC mutilayer deviceConstruction of typical LTCC mutilayer device第3页/共55页2023/3/204LTCCLTCC技术的概念及其分类技术的概念及其分类_ _概念概念Cross-section of LTCC multilayer device showing the individual components th
3、at can be integratedIndividual components that can be integrated in LTCC第4页/共55页2023/3/205LTCCLTCC技术的概念及其分类技术的概念及其分类_ _概念概念LTCC INDUCTOR LTCC BANDPASS FILTER 3D LAYOUTLTCC INDUCTOR have been used第5页/共55页2023/3/206LTCCLTCC技术的概念及其分类技术的概念及其分类_ _分类分类LTCC技术的研究 设 计 技 术 生磁料带技术 混合集成技术 混合集成生磁料带制造第6页/共55页2023
4、/3/207LTCCLTCC技术之国内外发展现状技术之国内外发展现状 目前实现多达5050层、1616英寸,应用频率为50MHz50MHz5GHz5GHz 的LTCCLTCC集成电路 日本富士通已研制出6161层,245mm245mm的共烧结构 美国IBMIBM公司研制出了6666层LTCCLTCC基板的多芯片组件第7页/共55页2023/3/208LTCCLTCC技术之国内外发展现状技术之国内外发展现状 仅以对低温共烧片式电感器的需求为例 电子产品名称平均单机用量(只)电子产品名称平均单机用量(只)移动电话手持机3030笔记本计算机2424中文BPBP机1010硬盘驱动器8 8数字BPBP机
5、1010软盘驱动器6 6录像机2020程控交换机2/2/线传真机4 4开关电源4 4无绳电话1212超薄WALKMANWALKMAN8 8大屏幕彩电机芯4 4便携式CDCD唱机7 7DVDDVD和VCDVCD1212数字电视(机顶盖)4040摄录一体机3535其他2020国内需求情况第8页/共55页2023/3/209LTCCLTCC技术有待完善的问题技术有待完善的问题收缩率控制问题收缩率控制问题基板散热问题基板散热问题基板材料的研究基板材料的研究 选择合适的掺杂,保证材料的高频特性并轻松降低 材料烧结温度 材料与内电极的匹配,及进一步提高品质因素,降 低损耗 材料的良好机械性能、化学稳定性等
6、 第9页/共55页2023/3/2010LTCCLTCC材料工艺机理及相关理论材料工艺机理及相关理论低温烧结理论低温烧结理论 铁氧体的固相反应和烧结铁氧体的固相反应和烧结 ZnOFe2O3 高温 ZnFe2O4NiOFe2O3 高温 NiFe2O4 烧结的传质机理烧结的传质机理 粘滞流动 塑性流动 表面扩散 体 扩 散 第10页/共55页2023/3/2011LTCCLTCC材料工艺机理及相关理论材料工艺机理及相关理论晶粒边界在烧结中的作用晶粒边界在烧结中的作用 烧结中原子与空隙流 降温机理降温机理 引入低熔点物质或能与材料中某些成分形成低共熔物的添加剂引入低熔点物质或能与材料中某些成分形成低
7、共熔物的添加剂 引入某些异价离子或配合适当气氛引入某些异价离子或配合适当气氛 使用超细颗粒法使用超细颗粒法 低温烧结理论低温烧结理论 第11页/共55页2023/3/2012LTCCLTCC材料工艺机理及相关理论材料工艺机理及相关理论晶化动力学理论晶化动力学理论 铁氧体多晶成长过程铁氧体多晶成长过程(a)烧结初期(b)孪晶(c)晶粒吞并(d)晶粒生长停止(e)最终密度 第12页/共55页2023/3/2013LTCCLTCC材料工艺机理及相关理论材料工艺机理及相关理论技术公式技术公式 初始磁导率i与截止频率fr的关系 公式中:i初始磁导率 fr截止频率0真空磁导率 Ms饱和磁化强度 畴壁厚度
8、D晶粒平均尺寸旋磁比以磁畴转动为磁化机制的尖晶石铁氧体 软磁铁氧体以畴壁的移动为磁化机制 第13页/共55页2023/3/2014LTCCLTCC材料工艺机理及相关理论材料工艺机理及相关理论技术公式技术公式 初始磁导率初始磁导率i i铁氧体磁芯及其等效电路电感量L及表征磁损耗的等效电阻R分别与磁导率的实部和虚部成正比 公式中:r1环形样品的内径(m)r2环形样品的外径(m)N线圈匝数L环形样品有效磁路长度(m)工作角频率(rad/s)A环形样品的横截面积(m2)第14页/共55页2023/3/2015LTCCLTCC材料工艺机理及相关理论材料工艺机理及相关理论磁滞现象分析模型磁滞现象分析模型P
9、reisachPreisach理论理论 由磁场H引起的磁通密度B B=-S为(,)平面上Hsat-Hsat的矩形区域 第15页/共55页2023/3/2016LTCCLTCC材料工艺机理及相关理论材料工艺机理及相关理论当磁性材料从初始状态(未磁化)到刚被磁化时,磁通密度 Bi=-T()=差分电感:磁滞损耗Pd 磁滞现象分析模型磁滞现象分析模型PreisachPreisach理论理论 第16页/共55页2023/3/2017LTCCLTCC材料工艺机理及相关理论材料工艺机理及相关理论包含不同损耗的磁滞回线图形 不同软磁材料的磁滞回线 磁滞现象分析模型磁滞现象分析模型PreisachPreisac
10、h理论理论 第17页/共55页2023/3/2018复合材料工艺复合材料工艺 复合机理复合机理 Zn2+,Mn2+,Fe3+,Cu1+,Fe2+,Mg2+,Li1+,Cu2+,Mn3+,Ti4+,Ni2+A位 B位金属离子在尖晶石中的A、B位占位倾向 尖晶石结构 第18页/共55页2023/3/2019复合材料工艺复合材料工艺研究方案及工艺路线研究方案及工艺路线 第19页/共55页2023/3/2020实验数据及讨论实验数据及讨论 部分工艺条件对部分工艺条件对NiZnNiZn铁氧体磁性能影响铁氧体磁性能影响 预烧温度对品质因数Q的影响现象:品质因数随预烧温度的 升高而增大,1100后Q值下 降
11、。原因:较高预烧温度可促进固相反应的完全,增加成型密度,从而增加磁芯的密度;当预烧温度超过1100,固相反应完全,材料活性降低。第20页/共55页2023/3/2021 部分工艺条件对部分工艺条件对NiZnNiZn铁氧体磁性能影响铁氧体磁性能影响 预烧温度对磁导率 的影响现象:相同Ts下的铁氧体磁导率随预烧温度的升高逐渐下降。原因:预烧温度低时,材料固相反应生成的立方尖晶石相并不稳定,二次粉碎时的机械能易使部分晶格扭曲变形,粉体表面活性增大,烧成阶段晶粒生长速度比高预烧温度时快,晶粒大,晶界薄,磁导率大。实验数据及讨论第21页/共55页2023/3/2022 部分工艺条件对部分工艺条件对NiZ
12、nNiZn铁氧体磁性能影响铁氧体磁性能影响 烧结温度Ts对Q的影响现象:随着烧结温度的增加,Q值逐渐减小。原因:随Ts的升高,磁芯内密度增加,气孔减少,晶粒粗大,晶界处电阻率减小,Q值减小。另外,随Ts的升高,Zn挥发增加,引起Fe2+增多,八面体位就出现不同价的电子导电,激活能最低,具有强导电性。铁氧体的电阻率降低,涡流损耗增加,Q值减小。烧结温度Ts对Q的影响实验数据及讨论第22页/共55页2023/3/2023 部分工艺条件对部分工艺条件对NiZnNiZn铁氧体磁性能影铁氧体磁性能影响响 烧结温度Ts对的影响Ts1320时:磁导率 随Ts的增加而降低原因:异常晶粒生长实验数据及讨论第23
13、页/共55页2023/3/2024部分工艺条件对部分工艺条件对NiZnNiZn铁氧体磁性能影铁氧体磁性能影响响 Ts=1320的SEM Ts1250的SEM烧结温度为1320时:晶粒大小不均匀,出现异常晶粒(20 m)烧结温度为1250时:晶粒细小,较为均匀。实验数据及讨论第24页/共55页2023/3/2025CuOCuO掺杂对掺杂对NiZnNiZn铁氧体磁性能影响铁氧体磁性能影响 CuO对起始磁导率i的影响规律:随CuO含量的增加铁氧体的i降低。原因:Cu2+倾向占据八面体(B)位,产生能级分裂,改变核外电子云分布,晶体点阵发生畸变,增加各向异性能。i降低。i与各向异性能关系:i (s饱和
14、磁致伸缩系数,内应力)CuO对起始磁导率i的影响实验数据及讨论第25页/共55页2023/3/2026CuOCuO掺杂对掺杂对NiZnNiZn铁氧体磁性能影响铁氧体磁性能影响 CuO对Ts的影响规律:随着CuO含量的增加NiZn铁氧体的烧结温度Ts降低。原因:CuO的熔点较低,高温烧结过程中产生液相,促进固相反应的发生。CuO对Ts的影响实验数据及讨论第26页/共55页2023/3/2027CuOCuO掺杂对掺杂对NiZnNiZn铁氧体磁性能铁氧体磁性能影响影响 CuO对品质因数Q的影响规律:掺有CuO的铁氧体Q值普遍升高。原因:Ts的降低减少Zn挥发,从而Fe2+,提高电阻率,增加Q值。另外
15、CuO的增加冲淡了铁氧体中Zn百分含量,也起到降低Zn的挥发的作用。CuO对品质因数Q的影响实验数据及讨论第27页/共55页2023/3/2028MnCOMnCO3 3掺杂对掺杂对NiCuZnNiCuZn铁氧体磁性能影铁氧体磁性能影响响 MnCO3含量对i的影响现象:随MnCO3含量的增加,NiCuZn铁氧体的起始磁导率i降低。MnCO3含量对i的影响实验数据及讨论第28页/共55页2023/3/2029MnCOMnCO3 3掺杂对掺杂对NiCuZnNiCuZn铁氧体磁性能影铁氧体磁性能影响响 含6wtMnCO3的NiCuZn铁氧体x衍射图谱说明:未出现MnFe2O4的三强峰,铁氧体为NiCu
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- LTCC 材料 技术 基础 研究
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