数字电路逻辑设计 第3章2 MOS管(精品).ppt
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1、 MOS型电路是另一种常用电路,型电路是另一种常用电路,MOS意为意为金属金属氧氧化物半导体化物半导体(Metal-Oxide Semiconductor)(一)、一)、MOS晶体管晶体管 晶体三极管有:晶体三极管有:E发射极发射极 B基极基极 C集电极集电极 机理是:基极电流机理是:基极电流IB 控制控制集电极电流集电极电流IC。结构有:结构有:NPN PNP MOS三极管有:三极管有:S源极源极 G栅极栅极 D漏极漏极 机理是:机理是:栅极电压栅极电压VGS控制控制漏极电流漏极电流ID 结构有:结构有:N沟道沟道 P沟道沟道 GDS MOS管除分管除分N沟道、沟道、P沟道外,还分增强型和耗
2、尽型。沟道外,还分增强型和耗尽型。增强型栅压增强型栅压VGS为为0无沟道,耗尽型栅压无沟道,耗尽型栅压VGS为为0有沟道。有沟道。1、MOS管的基本结构管的基本结构 以以N沟道增强型为例沟道增强型为例 源、漏极结构对称,可以互换使用源、漏极结构对称,可以互换使用 P衬衬 P型衬底,型衬底,N型沟道型沟道 DGS 2、N沟道增强型沟道增强型MOS管的工作特点:管的工作特点:n DGS 栅极电压栅极电压VGS小于开启电压小于开启电压VGS(th)时,时,无无沟道沟道形成,漏极电流形成,漏极电流ID为为0。VDS爱多大多爱多大多大!(大!(截止区)截止区)栅极电压栅极电压VGS大于等于开启电压大于等
3、于开启电压VGS(th)时,沟道形成,有时,沟道形成,有ID形形成,分成,分两种情况两种情况:a、VDS较大较大,大于,大于 VGS VGS(th),ID随随VGS的增加而增加的增加而增加。但很快但很快VDS 已使已使 ID 饱和,没什么影响了。饱和,没什么影响了。(饱和区)(饱和区)b、VDS较小较小,小于,小于VGS VGS(th),),ID随随VGS的增加也增加,但与的增加也增加,但与VDS的的大小密切相关。大小密切相关。或者也可以这样或者也可以这样说:对某一说:对某一VGS,ID随随VDS线性增加线性增加,且且VGS越大,斜率越大,等效电阻越大,斜率越大,等效电阻越小。越小。(非饱和区
4、(非饱和区 or 可调电阻区)可调电阻区)3、转移特性和跨导、转移特性和跨导gm VGS 和和 IDS的关系的关系通常用跨导表示:通常用跨导表示:I DS gm=VGS VDS=常数常数它代表它代表VGS对对 IDS的的控制能力。控制能力。gm与沟道宽与沟道宽度和长度有关。度和长度有关。沟道宽沟道宽度越宽、长度越短,度越宽、长度越短,g m越大,控制能力越强。越大,控制能力越强。4、MOS 管的输入电阻和输入电容管的输入电阻和输入电容 MOS管的管的输入阻抗输入阻抗指栅极到源极(或漏极)的电阻,指栅极到源极(或漏极)的电阻,由于有由于有SiO2绝缘层的阻隔,电阻绝缘层的阻隔,电阻极大极大,通常
5、在,通常在1012欧姆以欧姆以上。作为静态负载对前级几乎没有什么影响。上。作为静态负载对前级几乎没有什么影响。MOS管的栅极、源极之间有很小的寄生电容,称为管的栅极、源极之间有很小的寄生电容,称为输入电容输入电容,虽然很小(几,虽然很小(几P或更小),但由于输入阻抗或更小),但由于输入阻抗极高,漏电流很小,所以极高,漏电流很小,所以可用来暂时存储信息可用来暂时存储信息(如动态(如动态RAM)。)。5、直流导通电阻、直流导通电阻RON 直流导通电阻是指直流导通电阻是指MOS管导通时,漏源电压和漏源管导通时,漏源电压和漏源电流的比值:电流的比值:RON=VDS/IDS(二)、(二)、MOS 反相器
6、反相器 MOS反相器有四种形式,我们只讲反相器有四种形式,我们只讲E/E型、型、CMOS反相器。反相器。E/E MOS 反相器有两个增强型反相器有两个增强型MOS 管组成,一个作为输入管组成,一个作为输入管,一个作为负载管,两个管子的特性(如跨导)完全不同。管,一个作为负载管,两个管子的特性(如跨导)完全不同。由由N沟道管构成的反相器叫沟道管构成的反相器叫NMOS反相器。反相器。见图:见图:VVVTo2Ti1DD当输入当输入A=0VA=0V时时:T1截止,T2导通。T1只有 n A 级漏电流。工作在负载 线A点。AB输出电压:F=VDD-Vth2=5 2=3 V设:Vth2=2 VVGS1 V
7、th1T1导通:工作在负载 线B点。输出电压:由此可知:rd2 rd1 就能很好实现倒相器逻辑功能。Vth11.5V负载管特性负载管特性FA+VDDT2T1 与非门与非门T3:负载管T1,T2 两个串连驱动管 当A,B中有一个低电平时,相应的驱动管截止,输出F为高电平。当A,B全为高电平时,T1,T2均导通,输出 F 为低电平。ABT1T2F00止止止止101止止导导110导导止止111导导导导0电路组成:电路组成:工作原理:工作原理:FAT2T1T3BT T3 3:负载管负载管T T1 1、T T2 2 两个并连驱作动管两个并连驱作动管 当A,B中只要有一个高电平时,T1,T2总有一个导通,
8、输出F为低电平。只有A,B全为低电平,T1,T2均截止,输出 F 才是高电平。输出和输入的逻辑关系是:ABT1T2F00止止止止101止止导导010导导止止011导导导导0同理:是与或非门电路组成:电路组成:工作原理:工作原理:FT2T1T3AB-VDDFT5T1AT3C-VDDT2BT4DE/E MOS 反相器的特点:反相器的特点:n单一电源,结构简单。单一电源,结构简单。n负载管负载管TL始终饱和,速度慢,功耗大。始终饱和,速度慢,功耗大。n高电平不为高电平不为VDD,有所损失。有所损失。n输出高低电平,取决于两管跨导之比。负载管跨导小,输出高低电平,取决于两管跨导之比。负载管跨导小,电阻
9、大,影响工作速度。电阻大,影响工作速度。NMOS,PMOSNMOS,PMOS电路存电路存在三个问题:在三个问题:负载管一直导通,当驱动管导通时,电源与地之间有静态电流,所以功耗大。要保证输出低电平,要求 rd2rd1不利于大规模集成。当驱动管截止时,由于负载管导通电阻rd2很大,对容性负载充电时间很长,使电路工作速度缓慢。CMOSCMOS集成电路由集成电路由 P P 沟道和沟道和 N N 沟道增强型沟道增强型 MOS MOS 管串连管串连组成,组成,CMOSCMOS电路能有效解决上述问题。电路能有效解决上述问题。TPTNVDDVI IVO O 电路结构:电路结构:PMOS作负载管,开启电压为负
10、V t h。NMOS作输入管,开启电压为正 V t h。两个栅极两个栅极G G并联作输入端。并联作输入端。G两个漏极两个漏极D D串连作输出端。串连作输出端。DD 两个衬底都和源极S接在一起,PMOS管源极接电源VDD,NMOS管源极接地。正常工作条件:正常工作条件:电源电压大于两管开启电压绝对值之和。VDD|V t h P|+V t h NSS 工作原理工作原理假设:PMOS管 V t h P 2.5VNMOS管 V t h N =2 VVDD=5 V当当 VI=0 V 时:时:NMOS管 VGSN=0|V t h P|,TP管导通,其导通电阻R on=103 TPTNVDDVI IVO O
11、当当 VI=5 V 时:时:NMOS管VGSN=5V V t h N TN管导通,其导通电阻 R on=103。PMOS管 VGSP=5V -V DD=0 V|VGSP|V t h P|TP管截止,其导通电阻R off=1091012,F=0。以上分析:以上分析:输入是0,输出是1,实现倒相关系,PMOS 管,启为负,启为负,0 0导导1 1截止。截止。NMOS 管,启为正,启为正,0 0止止1 1导通。导通。倒相器工作过程中,两管轮流导通,导通电阻小,截止电阻大,所以静态电流只有 n A 级。低功耗是低功耗是CMOSCMOS倒相器的倒相器的重要特点。重要特点。TPTNVDDVI IVO O(
12、1 1)当)当Vi2 2V,TN截止,截止,TP导通,导通,VoVDD=10=10V。2电压传输特性:电压传输特性:CMOS门电路的阈值电压门电路的阈值电压Vth=VDD/2/2(设(设:VDD=10V,VTN=|VTP|=2V)(2 2)当当2 2VVi5 5V,TN工作在饱和区,工作在饱和区,TP工作工作 在可变电阻区。在可变电阻区。(3 3)当)当Vi=5=5V,两管都工作在饱和区,两管都工作在饱和区,Vo=(VDD/2/2)=5=5V。(4 4)当当5 5VVi8 8V,TP工作在饱和区,工作在饱和区,TN工作在可变电阻区。工作在可变电阻区。(5 5)当)当Vi8 8V,TP截止,截止
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