有机合成设计期末考试试卷.docx
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1、院系专业班级姓名学号 密封线试题名称:有机合成设计一、单项选择题从以下各题多个备选答案中选出一个正确答案,并将其代号写在相应位置。答案选错或未选者, 该题不得分。每题 2 分,20 分1. 首次提出逆合成方法的科学家是。A. WenderB. WoodwardC. TrostD. Corey2. 以下化合物中,发生 SN1 取代反响最简洁的是。A. CH3CHClCH3B. CH3CHBrCH3C.CH3CHICH3D. CH3CH2CH2I3. 以下物质不属于氧化剂的是。A. H2O2B. NaBH4C. KMnO4D. Collins 试剂4. ArI + RB(OH) 2Ar-R 该反响
2、属于。A. 骨架和官能团都变B. 骨架和官能团都不变C. 骨架不变,仅官能团变D. 骨架变,而官能团不变5. 以下物质能发生 Friedel-Crafts 酰基化反响的是。有机合成设计第 1 页(共6页)A. COCH3B. C.NO2D.CN6. 以下选项中,碳负离子最不稳定的是。OOO32A. CH CCHB. CH3CCHCO2EtC. CH3NO2D. CH3CCHCN7. 以下羰基化合物与HCN反响活性最强的是。A. CH3COCH2CH3B. HCHOC. CH3COCH3D. PhCOCH38. 以下选项中,不是有机合成路线设计原则的是。A. 逆合成法B. 拆解法C. 合成法D.
3、 分子简化法9. 在有机合成中,导向的主要手段是。A. 活化导向B. 钝化导向C. 阻断导向D. 封闭导向10. 以下选项中,不是保护基必需具备的条件。A. 保护基简洁引入所要保护的分子中B. 与被保护分子能有效结合C. 保护基廉价D. 在保护分子的其他局部构造不损坏的条件下易脱除二、完成以下反响式写出主要产物或反响条件, 将正确答案填写在相应的位置上,答案错误或未填写不得分。每空 3 分,共 36 分O1)NO1.HH+2) H O3O1)KCN2.3.+2)H2O/EtOHHCHOOH4. Na-NH3(l),EtOHm-ClC6H4CO3HO5. C2H5C6H5CO3H6. CH2OH
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