半导体激光器基础知识.pdf

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1、半导体激光器的近场分布是指 LD 发光面上的辐射强度分布，即反映 P-N结上光强的分布；而远场分布则是指远离激光器无穷远处的辐射强度分布（光强与角度的分布）。远场分布是近场分布的富氏（Fourier）变换。半导体激光器的模式分为空间模和纵模（轴模）。前者描述围绕输出光束轴线某处光强分布，或者是空间几何位置上的光强（或者光功率）的分布，也称为远场分布；后者则表示是一种频谱，它反映所发射的激光其功率在不同频率（或者波长）分量上的分布。两者都可能是单模或者出现多个模式（多模）。边发射半导体激光器具有非圆对称的波导结构，而且在垂直于结平面方向（称横向）和平行于结平面方向（称侧向）有不同的波导结构和光场

2、限制。横向都是由双异质结构成的折射率波导结构来限制光场；而在侧向，则可由折射率导引结构或增益导引结构，大功率半导体激光器大多采用增益波导结构。因此半导体激光器的空间模式又有横模和侧模之分。如图5-1表示了这两种空间模式。图 1 半导体激光器的横模与侧模 由于有源层厚度都很小（约为 0.15m），根据平板波导原理，在横向 LD 都能保证单横模输出；而在侧向，由于其宽度相对较大，因而可能出现多侧模。如果在这两个方向都能以单模（或称基模）工作，则输出为理想的 TE00 模，此时光强峰值在光束中心且呈“单瓣”。这种光束的发散角最小，亮度最高，能实现与单模光纤的高效率耦合，也能通过简单的光学系统聚焦到很小的斑点，这对激光器的应用是非常有利的。相反，若 LD 工作在多侧模下，则其发光面上的光场（即近场）在侧向表现出多光丝，好似一些并行的发光丝,而其远场分布则相当复杂。对于发光尺寸为 150m 的半导体激光器，沿 1m方向称为快轴方向，沿 50m方向称为慢轴方向。在快轴方向光束横截面内光强基本上按正弦（余弦）函数形式分布。半导体激光器的发散角是光束的基本参数，其定义为远场平面上光强为峰值一半处的两点相对于发光点的夹角