电力电子半导体器件(GTR).ppt
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1、第四章 电力晶体管4.1 GTR4.1 GTR结构结构双极型大功率、高反压晶体管双极型大功率、高反压晶体管GTR(巨型晶体管)(巨型晶体管)Giant TransistorGiant Transistor三层半导体材料,两个三层半导体材料,两个PNPN结结(NPN(NPN型、型、PNPPNP型型)。一、工艺特点一、工艺特点 三重扩散;叉指型基极和发射极;三重扩散;叉指型基极和发射极;特点:发射区高浓度掺杂特点:发射区高浓度掺杂 基区很薄(几基区很薄(几umum几十几十umum)N-掺杂浓度低,提高耐压能力掺杂浓度低,提高耐压能力N+集电区收集电子集电区收集电子使用时要求:发射结正偏,集电结反偏
2、。使用时要求:发射结正偏,集电结反偏。二、二、GTRGTR与普通晶体管区别与普通晶体管区别1.1.普通晶体管:信号晶体管,用于放大信号;普通晶体管:信号晶体管,用于放大信号;要求增益适当,要求增益适当,f fT T高,噪声系数低,线性度好,温度漂移高,噪声系数低,线性度好,温度漂移 和时间漂移小。工作于放大区,以载流子运动为出发点,和时间漂移小。工作于放大区,以载流子运动为出发点,分析载流子扩散、漂移、复合现象。电流控制特性为线性分析载流子扩散、漂移、复合现象。电流控制特性为线性 关系。关系。2.GTR2.GTR:用于功率开关;:用于功率开关;要求容量足够大,高电压,大电流,适当增益,较高工作
3、要求容量足够大,高电压,大电流,适当增益,较高工作 速度,较低功率损耗。速度,较低功率损耗。3.3.大电流工作下,普通晶体管出现的新特点:大电流工作下,普通晶体管出现的新特点:基区大注入效应:引起电流增益下降。基区大注入效应:引起电流增益下降。基区扩展效应:使基区注入效率降低,增益基区扩展效应:使基区注入效率降低,增益下降,下降,f fT T减小。减小。发射极电流集边效应:引起电流局部集中,产生局部过热。发射极电流集边效应:引起电流局部集中,产生局部过热。因此,因此,GTRGTR在结构上应采取适当措施,减小上述效应。在结构上应采取适当措施,减小上述效应。三、单管三、单管GTR 采用三重扩散,台
4、面型结构;可靠性高,对二次击穿特性采用三重扩散,台面型结构;可靠性高,对二次击穿特性有改善,易于提高耐压,易于耗散体内热量。有改善,易于提高耐压,易于耗散体内热量。增加增加N N-漂移区,由它的电阻率和厚度决定器件阻断能力,漂移区,由它的电阻率和厚度决定器件阻断能力,但阻断能力提高,使饱和导通电阻增大,电流增益降低。但阻断能力提高,使饱和导通电阻增大,电流增益降低。一般:一般:约约1020 1020 工作状态:开关状态(导通、截止;开通、关断)工作状态:开关状态(导通、截止;开通、关断)饱和压降低饱和压降低漏电流小漏电流小时间短时间短四、达林顿四、达林顿GTRGTR为提高电流增益,由两个或两个
5、以上晶体管复合组成。为提高电流增益,由两个或两个以上晶体管复合组成。NPN型型PNP型型驱动管驱动管输出管输出管特点:特点:电流增益电流增益增大:增大:1 1 2 2 ,达几十倍几千倍;,达几十倍几千倍;饱和压降饱和压降V VCESCES增大:增大:V VCESCES V VCES1CES1+V+VBES2BES2 V V2 2管无法饱和导通,管无法饱和导通,V VCE2CE2=V=VCES1 CES1,反偏状态;导通损耗增大。,反偏状态;导通损耗增大。开关速度慢:开通时,开关速度慢:开通时,V V1 1驱动驱动V V2 2;关断时,关断时,V V1 1先关断,先关断,V V2 2才能关断,且
6、才能关断,且V V2 2关断关断 无泻流通路。无泻流通路。改进改进:R1、R2稳定电阻,提高温度稳定稳定电阻,提高温度稳定性和电流通路。性和电流通路。VD1引入,加速引入,加速V2、V1的同时关断,的同时关断,引出引出B2极可另外控制。极可另外控制。五、五、GTRGTR模块模块 将将GTRGTR管芯、稳定电阻管芯、稳定电阻R R1 1R R2 2、加速二极管、加速二极管V VD1D1、续流二极管、续流二极管V VD2D2组成一个单元。将几个单元组合在一个外壳内组成一个单元。将几个单元组合在一个外壳内模块。模块。利用集成工艺将上述单元集成于同一硅片上,器件集成度高,利用集成工艺将上述单元集成于同
7、一硅片上,器件集成度高,小型轻量化,性能小型轻量化,性能/价格比高。价格比高。单臂桥式电路模块单臂桥式电路模块B1B2C1E2E1C2单相桥式电路模块;三相桥式电路模块;单相桥式电路模块;三相桥式电路模块;4.2 GTR4.2 GTR特性与参数特性与参数一、静态特性与参数一、静态特性与参数1共射输出特性:共射输出特性:发射结正偏发射结正偏集电结反偏集电结反偏VCES很小很小临界饱和临界饱和断态,漏电流很小断态,漏电流很小放大区放大区严禁工作严禁工作2饱和压降:饱和压降:如图:如图:GTR深饱和时,等效电路;深饱和时,等效电路;VBES:基极正向压降:基极正向压降 通态下,通态下,B-E极电压;
8、极电压;VCES:饱和压降:饱和压降 通态下,通态下,C-E极电压;极电压;一般,由于发射区高浓度掺杂,一般,由于发射区高浓度掺杂,rES可忽略;可忽略;VCES的大小,的大小,关系器件导通功率损耗。达林顿管,关系器件导通功率损耗。达林顿管,VCES、VBES较大。较大。TC35-400型型GTR:电流:电流50A,=5=5;V VCESCES随随I IC C电流增大而增大;电流增大而增大;I IC C不变时,随温度增加而增加。不变时,随温度增加而增加。V VBESBES随随I IC C电流增大而增大;小电流下,随温度增大而减小,电流增大而增大;小电流下,随温度增大而减小,PNPN结负温度系数
9、。大电流下,随温度增大而增大。结负温度系数。大电流下,随温度增大而增大。饱和压降特性曲线饱和压降特性曲线基极正向压降特性曲线基极正向压降特性曲线TC=250CVCE=400VTC=250CVCE=2VTC=1250C,VCE=2VTC=250C,VCE=2V3共射电流增益共射电流增益:反映反映GTRGTR的电流放大能力,的电流放大能力,I IC C与与I IB B比值。比值。GTRGTR正向偏置时,正向偏置时,F F随随I IC C减小减小而减小,基区复合电流占的比而减小,基区复合电流占的比例增大。例增大。随随I IC C增大,增大,增大,增大,I IC C增大到增大到一定程度一定程度=max
10、=max,I IC C再增大,再增大,由于基区大注入效应、基区扩由于基区大注入效应、基区扩展效应,展效应,开始下降。开始下降。管子温度相同时,管子温度相同时,V VCECE越大,越大,越大。越大。随温度增加而增加,大电流下,随温度增加而增加,大电流下,随温度增加而减小。随温度增加而减小。GTRGTR反接时,反接时,很小。很小。4最大额定值最大额定值极限参数极限参数 由由GTR材料、结构、设计水平、制造工艺决定。材料、结构、设计水平、制造工艺决定。最高电压额定值:最高电压额定值:BV BVCEOCEO,BVBVCBOCBO,BVBVCESCES,BVBVCERCER,BVBVCEXCEX O O
11、:另一极开路;:另一极开路;S S:短路;:短路;R R:外接电阻;:外接电阻;X X:反向偏置;:反向偏置;Va::IB=0时,时,IC电流急剧电流急剧 增加时电压;增加时电压;Vb::IE=0时,时,IC电流急剧电流急剧 增加时电压;增加时电压;一般:一般:另:另:BVEBO集电极开路时,发射结最高反向偏置电压。集电极开路时,发射结最高反向偏置电压。几伏,典型值几伏,典型值8V。最大电流额定值:最大电流额定值:大电流下,三种物理效应会使大电流下,三种物理效应会使GTR电气性能变差,甚至损坏器件。电气性能变差,甚至损坏器件。集电极电流最大额定值集电极电流最大额定值ICM:ICM定义:定义:a
12、.以以值下降到额定值值下降到额定值1/21/2到到1/31/3时,对应时,对应I IC C值。值。b.以结温和耗散功率为尺度确定以结温和耗散功率为尺度确定ICM。最大脉冲电流额定值:最大脉冲电流额定值:直流直流ICM的的1.5倍定额;引起内部引线熔断的集电极电流;倍定额;引起内部引线熔断的集电极电流;引起集电结损坏的集电极电流。引起集电结损坏的集电极电流。基极电流最大额定值基极电流最大额定值IBM:内部引线允许流过的最大基极电流,约为(内部引线允许流过的最大基极电流,约为(1/21/6)ICM最高结温最高结温TJM 塑封,硅管:塑封,硅管:1251250 01501500 0C C;金属封装,
13、硅管:金属封装,硅管:1501500 01751750 0C C;高可靠平面管:高可靠平面管:1751750 02002000 0C C;最大功耗最大功耗P PCMCM P PCMCM=V=VCECE I IC C 受结温限制,使用时注意散热条件。受结温限制,使用时注意散热条件。例:例:3DF203DF20型型GTRGTR各最大额定值参数:各最大额定值参数:二、动态特性与参数二、动态特性与参数 动态特性是动态特性是GTR开关过程的瞬态性能,称开关特性;主要受开关过程的瞬态性能,称开关特性;主要受结电容(势垒电容、扩散电容)充、放电和两种载流子运动影结电容(势垒电容、扩散电容)充、放电和两种载流
14、子运动影响。响。如图:如图:TC40U400型型GTR动态特性实验电路和电流波形动态特性实验电路和电流波形电路参数:电路参数:VCC=200V;RC=10;RB1=4.7;RB2=1.2;1开通时间开通时间ton:ton=td+tr (ns级,很小)级,很小)td:延迟时间,基极电流向发射结电容充电。大小取决于结:延迟时间,基极电流向发射结电容充电。大小取决于结 电容大小、驱动电流大小和上升率,及反偏时电压大小。电容大小、驱动电流大小和上升率,及反偏时电压大小。tr:上升时间,取决于稳定电流和驱动电流大小。:上升时间,取决于稳定电流和驱动电流大小。2关断时间关断时间toff:toff=ts+t
15、f ts:存储时间,过剩载流子从体内抽走时间,由反向驱动电:存储时间,过剩载流子从体内抽走时间,由反向驱动电 流大小决定。流大小决定。(3us)tf:下降时间,取决于结电容、正向集电极电流大小。:下降时间,取决于结电容、正向集电极电流大小。(1us)说明:为加速开通,采用过驱动方法,但基区过剩大量载流子,说明:为加速开通,采用过驱动方法,但基区过剩大量载流子,关断时,载流子耗散严重影响关断时间;关断时,载流子耗散严重影响关断时间;减小关断时间,可选用电流增益小的器件,防止深饱和,减小关断时间,可选用电流增益小的器件,防止深饱和,增加反向驱动电流。增加反向驱动电流。3集电极电压上升率集电极电压上
16、升率dv/dt对对GTR的影响的影响 当当GTR用于桥式变换电路时,如图:用于桥式变换电路时,如图:B1B2C1E2E1C2 dv/dt产生的过损耗现象严重威胁器件和电路安全;当基极产生的过损耗现象严重威胁器件和电路安全;当基极开路时,开路时,dv/dt通过集电结寄生电容产生容性位移电流,注入通过集电结寄生电容产生容性位移电流,注入发射结形成基极电流,放大发射结形成基极电流,放大倍后,形成集电极电流,使倍后,形成集电极电流,使GTRGTR进入放大区,因瞬时电流过大引起二次击穿。在进入放大区,因瞬时电流过大引起二次击穿。在GTRGTR换流关断换流关断时,时,dv/dtdv/dt会引起正在关断的会
17、引起正在关断的GTRGTR误导通,造成桥臂直通。误导通,造成桥臂直通。抑制抑制dv/dt,可在集射极间并联,可在集射极间并联RCD缓冲网络进行吸收。缓冲网络进行吸收。三、二次击穿与安全工作区三、二次击穿与安全工作区(一)二次击穿现象(一)二次击穿现象 一次击穿电压一次击穿电压BVCEO;发生一次击穿后,电流急剧增大,;发生一次击穿后,电流急剧增大,若外接有限流电阻,不会损坏若外接有限流电阻,不会损坏GTR。否则,集电极电流继续增。否则,集电极电流继续增大,在某电压、电流点产生向低阻抗区高速移动的负阻现象,大,在某电压、电流点产生向低阻抗区高速移动的负阻现象,称为称为二次击穿。用二次击穿。用S/
18、B表示。表示。二次击穿时间很短,纳秒到微秒数量级,短时间内的大电二次击穿时间很短,纳秒到微秒数量级,短时间内的大电流会使器件内出现明显的电流集中和过热点(热斑),轻者使流会使器件内出现明显的电流集中和过热点(热斑),轻者使GTR耐压降低,性能变差;严重时,集电结、发射结熔通,永耐压降低,性能变差;严重时,集电结、发射结熔通,永久损坏。久损坏。二次击穿按偏置状态分为两种:正偏二次击穿和反偏二次二次击穿按偏置状态分为两种:正偏二次击穿和反偏二次击穿。击穿。1正偏二次击穿:正偏二次击穿:BE结正偏,结正偏,GTR工作于放大区。工作于放大区。PP+P+N+BBEN+N如图,如图,GTR正偏时,由于正偏
19、时,由于基极与发射极在同一平面,基极与发射极在同一平面,基区电阻存在,使发射结各基区电阻存在,使发射结各点的偏置电压不同,边缘大点的偏置电压不同,边缘大而中心小。同时存在的集而中心小。同时存在的集射电场将电流集中到发射极射电场将电流集中到发射极边缘下很窄的区域内,造成边缘下很窄的区域内,造成电电流局部集中,电流密度大,温度升高,出现负阻现象,严重流局部集中,电流密度大,温度升高,出现负阻现象,严重时造成热点、热斑,使时造成热点、热斑,使PN结失效。结失效。热点严重程度与基区宽度成反比;与集电极外加电压成正比。热点严重程度与基区宽度成反比;与集电极外加电压成正比。2反偏二次击穿:反偏二次击穿:G
20、TR导通导通 截止变化时,发射结反偏。截止变化时,发射结反偏。存储电荷存在,使存储电荷存在,使CE间仍流过电流,由于基区电阻存间仍流过电流,由于基区电阻存在,使发射极与基极相接的周边反偏电压大,中心反偏很弱,在,使发射极与基极相接的周边反偏电压大,中心反偏很弱,甚至仍为正偏。造成发射极下,基区的横向电场由中心指向甚至仍为正偏。造成发射极下,基区的横向电场由中心指向边缘,形成集电极电流被集中于发射结中心很小局部的不均边缘,形成集电极电流被集中于发射结中心很小局部的不均匀现象。在该局部电流密度很高,形成二次击穿热点。匀现象。在该局部电流密度很高,形成二次击穿热点。一般,比正向偏置时低很多的能量水平
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