MOS场效应晶体管的结构工作原理.pptx
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1、 N沟道增强型MOSFET 的结构示意图和符号见图 。其中:D(Drain)为漏极,相当c;G(Gate)为栅极,相当b;S(Source)为源极,相当e。图 N沟道增强型 MOSFET结构示意图(动画)绝缘栅型场效应三极管MOSFET(Metal Oxide Semiconductor FET)。分为 增强型 N沟道、P沟道 耗尽型 N沟道、P沟道第1页/共11页 1 N沟道增强型MOSFET的结构 取一块P型半导体作为衬底,用B表示。用氧化工艺生成一层SiO2 薄膜绝缘层。然后用光刻工艺腐蚀出两个孔。扩散两个高掺杂的N型区。从而形成两个PN结。(绿色部分)从N型区引出电极,一个是漏极D,一
2、个是源极S。在源极和漏极之间的绝缘层上镀一层金属铝作为栅极G。N沟道增强型MOSFET的符号如左图所示。左面的一个衬底在内部与源极相连,右面的一个没有连接,使用时需要在外部连接。动画2-3第2页/共11页 2 N沟道增强型MOSFET的工作原理 对N沟道增强型MOS场效应三极管的工作原理,分两个方面进行讨论,一是栅源电压UGS对沟道会产生影响,二是漏源电压UDS也会对沟道产生影响,从而对输出电流,即漏极电流ID产生影响。1栅源电压UGS的控制作用 先令漏源电压UDS=0,加入栅源电压UGS以后并不断增加。UGS带给栅极正电荷,会将正对SiO2层的表面下的衬底中的空穴推走,从而形成一层负离子层,
3、即耗尽层,用绿色的区域表示。同时会在栅极下的表层感生一定的电子电荷,若电子数量较多,从而在漏源之间可形成导电沟道。沟道中的电子和P型衬底的多子导电性质相反,称为反型层。此时若加上UDS,就会有漏极电流ID产生。反型层 显然改变UGS就会改变沟道,从而影响ID,这说明UGS对ID的控制作用。当UGS较小时,不能形成有效的沟道,尽管加有UDS,也不能形成ID。当增加UGS,使ID刚刚出现时,对应的UGS称为开启电压,用UGS(th)或UT表示。动画2-4第3页/共11页 2漏源电压UDS的控制作用 设UGSUGS(th),增加UDS,此时沟道的变化如下。显然漏源电压会对沟道产生影响,因为源极和衬底
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