Virtuosocadence教程学习教程.pptx
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1、OUTLINE Cadence 系统概述版图设计工具Virtuoso LE版图验证工具Diva版图验证工具Dracula第1页/共116页第一页,编辑于星期日:七点 三十五分。Cadence系统概述 Cadence 概述设计流程系统组织结构系统启动帮助系统第2页/共116页第二页,编辑于星期日:七点 三十五分。Cadence概述 为什么要学习Cadence工具第3页/共116页第三页,编辑于星期日:七点 三十五分。Cadence概述v集成电路发展趋势第4页/共116页第四页,编辑于星期日:七点 三十五分。Cadence概述市场需求以及工艺技术的发展使得设计 复杂度提高,为满足这样的需求,我们
2、必须掌握最强大的 EDA 工具 第5页/共116页第五页,编辑于星期日:七点 三十五分。Cadence概述VHDLVHDL仿真仿真仿真仿真行为综合行为综合行为综合行为综合逻辑综合逻辑综合逻辑综合逻辑综合可测性设计可测性设计可测性设计可测性设计低功耗设计低功耗设计低功耗设计低功耗设计布局布线布局布线布局布线布局布线后仿真后仿真后仿真后仿真SynopsysSynopsysAltaAltaEpicEpicSynopsysSynopsysIKOSIKOSCadenceCadenceCompassCompassSynopsysSynopsysVantageVantageIKOSIKOSVantageVa
3、ntageCadenceCadenceSynopsysSynopsysSynopsysSynopsysCompassCompassMentor GraphicsMentor GraphicsCadenceCadenceAvant!Avant!Mentor GraphicsMentor GraphicsSunriseSunriseSynopsysSynopsysCompassCompass第6页/共116页第六页,编辑于星期日:七点 三十五分。Cadence概述v全球最大的 EDA 公司v提供系统级至版图级的全线解决方案v系统庞杂,工具众多,不易入手v除综合外,在系统设计,在前端设计输入和仿真,
4、自动布局布线,版图设计和验证等领域居行业领先地位v具有广泛的应用支持v电子设计工程师必须掌握的工具之一第7页/共116页第七页,编辑于星期日:七点 三十五分。Cadence概述vSystem-Level DesignvFunction VerificationvEmulation and AccelerationvSynthesis/Place-and-RoutevAnalog,RF,and Mixed-Signal DesignvPhysical Verification and AnalysisvIC PackagingvPCB Design第8页/共116页第八页,编辑于星期日:七点 三
5、十五分。集成电路设计流程 客户客户客户客户功能定义功能定义功能定义功能定义电路生成电路生成电路生成电路生成功能验证功能验证功能验证功能验证测试生成测试生成测试生成测试生成布局布线布局布线布局布线布局布线后仿真后仿真后仿真后仿真算法设计算法设计算法设计算法设计逻辑综合逻辑综合逻辑综合逻辑综合可测性设计可测性设计可测性设计可测性设计低功耗设计低功耗设计低功耗设计低功耗设计版图验证版图验证版图验证版图验证设计规则检查设计规则检查设计规则检查设计规则检查互连参数提取互连参数提取互连参数提取互连参数提取第9页/共116页第九页,编辑于星期日:七点 三十五分。CELL设计流程 创建工艺文件版图单元验证版图
6、反标注打印输出生成抽象生成参数化单元生成复杂阵列符号生成模拟单元转换第10页/共116页第十页,编辑于星期日:七点 三十五分。系统组织结构v大多数 Cadence 工具使用同样的库模型,库结构按目录结构组织数据,这利于不同工具之间的数据交互和一致操作。物理组织逻辑组织目录库子目录单元子目录视图第11页/共116页第十一页,编辑于星期日:七点 三十五分。系统组织结构 第12页/共116页第十二页,编辑于星期日:七点 三十五分。系统组织结构vDDMS(Design Data Management System)DDMS物理路径Path/lib/cell_1/layout_3.0逻辑名称cell_1
7、 layout 3.0Library.lib 第13页/共116页第十三页,编辑于星期日:七点 三十五分。系统统组织结构vExamplevendlibdffmux2gatesbodyVhdl.vhd/usr/proj/vendlib/usr/proj/vendlib/dff/usr/proj/vendlib/mux2/usr/proj/vendlib/mux2/gates/usr/proj/vendlib/mux2/body第14页/共116页第十四页,编辑于星期日:七点 三十五分。系统组织结构vTermsandDefinitions库(library):特定工艺相关的单元集合单元(cell)
8、:构成系统或芯片模块的设计对象视图(view):单元的一种预定义类型的表示CIW:命令解释窗口属性(attributes):预定义的名称-值对的集合搜索路径(search path):指向当前工作目录和 工作库的指针第15页/共116页第十五页,编辑于星期日:七点 三十五分。系统启动v环境设置1.cshrc 文件设置 .cshrc文件中指定 Cadence 软件和 licence 文件所在的路径 2.cdsenv 文件设置 .cdsenv 文件包含了 Cadence 软件的一些初始设置,该文件用 SKILL 语言写,Cadence 可直接执行3.cdsinit 文件设置4 cds.lib 文件
9、设置第16页/共116页第十六页,编辑于星期日:七点 三十五分。系统启动5 工艺文件(technology file)技术文件包含了设计必需的很多信息,对设计,尤其是版图设计很重要。它包含层的定义,符号化器件定义,几何、物理、电学设计规则,以及一些针对特定 Cadence 工具的规则定义,如自动布局布线的规则,版图转换成 GDSII 时所使用层号的定义。6 显示文件(display.drf)第17页/共116页第十七页,编辑于星期日:七点 三十五分。系统启动v系统启动1 前端启动命令命令规模功能icdes基本数字模拟设计输入icdssicde 加数字设计环境icmsm前端模拟、混合、微波设计i
10、ccaxl前端设计加布局规划第18页/共116页第十八页,编辑于星期日:七点 三十五分。系统启动2 版图工具启动命令命令规模功能layouts基本版图设计(具有交互 DRC 功能)layoutPlusm基本版图设计(具有自动化设计工具和交互验证工具)第19页/共116页第十九页,编辑于星期日:七点 三十五分。系统启动3 系统级启动命令命令规模功能swbsPcb 设计msfbl混合型号IC设计icfbxl前端到后端大多数工具第20页/共116页第二十页,编辑于星期日:七点 三十五分。系统启动 第21页/共116页第二十一页,编辑于星期日:七点 三十五分。系统启动 Command Interpre
11、ter Window(CIW)Log 文件菜单栏窗口号输出域命令提示行输入域鼠标按钮提示第22页/共116页第二十二页,编辑于星期日:七点 三十五分。帮助系统v两种方式寻求帮助1 openbook 在UNIX提示符下输入命令 openbook:host openbook&2 工具在线帮助 每个工具右上角的“help”菜单 第23页/共116页第二十三页,编辑于星期日:七点 三十五分。OUTLINE Cadence 系统概述版图设计工具Virtuoso LE版图验证工具Diva版图验证工具Dracula第24页/共116页第二十四页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLE
12、vVirtuoso Layout Editor版图编辑大师 Cadence最精华的部分在哪里Virtuoso Layout Editor界面漂亮友好功能强大完备操作方便高效第25页/共116页第二十五页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEv目标理解 Layout Editor 环境学会如何使用 Layout Editor学会运行交互 DRC&LVS学会将设计转为Stream format学会定制版图编辑环境第26页/共116页第二十六页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEv单元设计具体流程第27页/共116页第二十七页,编辑于星期日:七点
13、 三十五分。VirtuosoLE使用介绍第一步:建库执行:CIWToolsLibraryManagerLMFileNewLibrary 第28页/共116页第二十八页,编辑于星期日:七点 三十五分。VirtuosoLE使用介绍第二步:指定工艺文件第29页/共116页第二十九页,编辑于星期日:七点 三十五分。VirtuosoLE使用介绍第三步:建立版图单元执行:LMFileNewCellView 第30页/共116页第三十页,编辑于星期日:七点 三十五分。VirtuosoLE使用介绍第四步:打开版图单元执行:CIWFileOpen 选择库选择视图选择单元第31页/共116页第三十一页,编辑于星期
14、日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEv版图编辑环境第32页/共116页第三十二页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEvVirtuoso Layout Editing第33页/共116页第三十三页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEvLSW-层选择窗口第34页/共116页第三十四页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEq设置有效 Drawing 层 执行:LSWEditSetValidLayers 第35页/共116页第三十五页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEqDis
15、play Resource Editor第36页/共116页第三十六页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEqLayers and display.drf第37页/共116页第三十七页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEqSet Display Options第38页/共116页第三十八页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEqSet Editor Options第39页/共116页第三十九页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEq鼠标用法第40页/共116页第四十页,编辑于星期日:七点
16、三十五分。版图设计工具VirtuosoLEq工艺文件流图第41页/共116页第四十一页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEvTechnology File 命令第42页/共116页第四十二页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEv主要编辑命令qUndo取消qRedo恢复qMove移动qCopy复制qStretch拉伸qDelete删除qMerge合并qSearch搜索编辑命令非常友好,先点击命令,然后对目标图形进行操作第43页/共116页第四十三页,编辑于星期日:七点 三十五分。版图设计工具VirtuosoLEv主要创建命令qRectang
17、le矩形qPolygon多边形qPath互联qLabel标签qInstance例元qContact通孔现在LSW中选中层,然后点击创建命令,在画相应图形第44页/共116页第四十四页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图vINV Example 首先回顾一下CMOS反相器制作流程:Stage 1:N wellP well第45页/共116页第四十五页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图Stage 2:P diffusionN diffusion第46页/共116页第四十六页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图Stage 3:Poly gate第47页/共116页第四
18、十七页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图Stage 4:P+implantN+implant 第48页/共116页第四十八页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图Stage 5:contact第49页/共116页第四十九页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图Stage 6:Metal 1第50页/共116页第五十页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图Stage 7:via第51页/共116页第五十一页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图Stage 8:Metal 2第52页/共116页第五十二页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图 版
19、图编辑工具使用器件加工工艺流程OK!第53页/共116页第五十三页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图1第54页/共116页第五十四页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图2第55页/共116页第五十五页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图3第56页/共116页第五十六页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图4第57页/共116页第五十七页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图5第58页/共116页第五十八页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图6第59页/共116页第五十九页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图7第60页/共116
20、页第六十页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图8第61页/共116页第六十一页,编辑于星期日:七点 三十五分。绘制反相器版图9第62页/共116页第六十二页,编辑于星期日:七点 三十五分。VirtuosoLayoutEditor 现在,您已经掌握版图编辑大师的基本操作,通过上机实验巩固和提高!第63页/共116页第六十三页,编辑于星期日:七点 三十五分。Cadence设计系统介绍清华大学微电子所第64页/共116页第六十四页,编辑于星期日:七点 三十五分。OUTLINE Cadence 系统概述版图设计工具Virtuoso LE版图验证工具Diva版图验证工具Dracula第65页/
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