射线光电子能谱.pptx
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1、射线光电子能谱射线光电子能谱应用范围应用范围各种复合材料表面分析及界面分析各种复合材料表面分析及界面分析各种复合材料表面分析及界面分析各种复合材料表面分析及界面分析各种固体材料表面的成分分析及元素各种固体材料表面的成分分析及元素各种固体材料表面的成分分析及元素各种固体材料表面的成分分析及元素化学态分析化学态分析化学态分析化学态分析各种薄膜表面与界面分析各种薄膜表面与界面分析各种薄膜表面与界面分析各种薄膜表面与界面分析器件、产品质量分析及剖析器件、产品质量分析及剖析器件、产品质量分析及剖析器件、产品质量分析及剖析金属氧化与腐蚀金属氧化与腐蚀金属氧化与腐蚀金属氧化与腐蚀各种固体表面化学问题的测定各
2、种固体表面化学问题的测定各种固体表面化学问题的测定各种固体表面化学问题的测定,等等。等等。等等。等等。第1页/共92页优点及特点优点及特点优点及特点优点及特点:固体样品用量小,不需要进行样品前处理,从而避固体样品用量小,不需要进行样品前处理,从而避固体样品用量小,不需要进行样品前处理,从而避固体样品用量小,不需要进行样品前处理,从而避免了引入或丢失元素所造成的误分析免了引入或丢失元素所造成的误分析免了引入或丢失元素所造成的误分析免了引入或丢失元素所造成的误分析表面灵敏度高,一般信息深度表面灵敏度高,一般信息深度表面灵敏度高,一般信息深度表面灵敏度高,一般信息深度 10nm 10nm 10nm
3、10nm 分析速度快,可多元素同时测定分析速度快,可多元素同时测定分析速度快,可多元素同时测定分析速度快,可多元素同时测定可以给出原子序数可以给出原子序数可以给出原子序数可以给出原子序数3-923-923-923-92的元素信息,以获得元素的元素信息,以获得元素的元素信息,以获得元素的元素信息,以获得元素成分分析成分分析成分分析成分分析可以给出元素化学态信息,进而可以分析出元素可以给出元素化学态信息,进而可以分析出元素可以给出元素化学态信息,进而可以分析出元素可以给出元素化学态信息,进而可以分析出元素的化学态或官能团的化学态或官能团的化学态或官能团的化学态或官能团样品不受导体、半导体、绝缘体的
4、限制等样品不受导体、半导体、绝缘体的限制等样品不受导体、半导体、绝缘体的限制等样品不受导体、半导体、绝缘体的限制等是非破坏性分析方法。结合离子溅射是非破坏性分析方法。结合离子溅射是非破坏性分析方法。结合离子溅射是非破坏性分析方法。结合离子溅射,可作深度可作深度可作深度可作深度剖析剖析剖析剖析 第2页/共92页基本原理基本原理用一束具有一定能量的用一束具有一定能量的用一束具有一定能量的用一束具有一定能量的X X X X射线照射固体样射线照射固体样射线照射固体样射线照射固体样品,入射光子同样品相互作用,光子被吸品,入射光子同样品相互作用,光子被吸品,入射光子同样品相互作用,光子被吸品,入射光子同样
5、品相互作用,光子被吸收而将其能量转移给原子的某一壳层上被收而将其能量转移给原子的某一壳层上被收而将其能量转移给原子的某一壳层上被收而将其能量转移给原子的某一壳层上被束缚的电子,此时电子把所得能量的一部束缚的电子,此时电子把所得能量的一部束缚的电子,此时电子把所得能量的一部束缚的电子,此时电子把所得能量的一部分用来克服分用来克服分用来克服分用来克服结合能和功函数结合能和功函数结合能和功函数结合能和功函数,余下的能量,余下的能量,余下的能量,余下的能量作为它的作为它的作为它的作为它的动能动能动能动能而发射出来,成为光电子,而发射出来,成为光电子,而发射出来,成为光电子,而发射出来,成为光电子,这个
6、过程就是这个过程就是这个过程就是这个过程就是光电效应光电效应光电效应光电效应。第3页/共92页 XPS 的工作原理:的工作原理:电离放出光电子X-ray样品能量分析器检测器(记录不同能量的电子数目)光电子产生过程:e-h(X-ray)A A(中性分子或原子中性分子或原子)+h+h(X-ray)(X-ray)A A+*+*(激发态的离子)(激发态的离子)+e+e-(光电子光电子)第4页/共92页基本原理基本原理基本原理基本原理XPSXPSXPSXPS方方方方法法法法的的的的基基基基础础础础是是是是爱爱爱爱因因因因斯斯斯斯坦坦坦坦光光光光电电电电定定定定律律律律,对对对对于于于于自自自自由由由由分
7、分分分子子子子和原子,应有和原子,应有和原子,应有和原子,应有 E Ek k=h h h h E E E Eb b b bW W W W式中式中式中式中 h h h h 入射光子能量(已知值)入射光子能量(已知值)入射光子能量(已知值)入射光子能量(已知值)E Ek k 光电过程中发射的光电子的动能(测定值)光电过程中发射的光电子的动能(测定值)光电过程中发射的光电子的动能(测定值)光电过程中发射的光电子的动能(测定值)E E E Eb b b b 内壳层束缚电子的结合能(计算值)内壳层束缚电子的结合能(计算值)内壳层束缚电子的结合能(计算值)内壳层束缚电子的结合能(计算值)W W W W谱仪
8、的功函数(已知值)谱仪的功函数(已知值)谱仪的功函数(已知值)谱仪的功函数(已知值)第5页/共92页KLM内层电子价电子带费米能级真空能级样品与仪器接地第6页/共92页电子结合能电子结合能电子结合能电子结合能原子在光电离前后状态的能量差:Eb=h W Ek h W EkFermi能级:0K固体能带中充满电子的最高能级;功函数:电子由Fermi能级真空能级的能量;每台仪器的W固定,与试样无关,约3 4eV;Ek可由实验测出,故计算出Eb 后确定试样元素,定性基础。第7页/共92页X X射线光电子能谱仪的基本构造射线光电子能谱仪的基本构造射线光电子能谱仪的基本构造射线光电子能谱仪的基本构造 数据处
9、理系统能量分析器 探测器 X射线源AlK或MgK 超高真空系统优于10-9mbar光电子样品 第8页/共92页第9页/共92页电子能谱仪介绍电子能谱仪介绍X X 射线源射线源双阳极双阳极双阳极双阳极X X X X射线源射线源射线源射线源在在在在XPSXPSXPSXPS谱仪中,一般采用双阳极谱仪中,一般采用双阳极谱仪中,一般采用双阳极谱仪中,一般采用双阳极X X X X射线源。射线源。射线源。射线源。常用的激发源常用的激发源常用的激发源常用的激发源:MgKMgKMgKMgK X X X X射射射射线线线线,光光光光子子子子能能能能量量量量为为为为1253.6 1253.6 1253.6 1253
10、.6 eVeVeVeV。线线线线宽宽宽宽可可可可达达达达到到到到0.7 0.7 0.7 0.7 eVeVeVeV。AlKAlKAlKAlK X X X X射射射射 线线线线,光光光光 子子子子 能能能能 量量量量 为为为为 1486.6 1486.6 1486.6 1486.6 eVeVeVeV。线线线线 宽宽宽宽 可可可可 达达达达 到到到到0.9 eV0.9 eV0.9 eV0.9 eV。第10页/共92页减减减减少少少少X X X X射射射射线线线线的的的的线线线线宽宽宽宽,Al Al Al Al K K K K 线线线线宽宽宽宽可可可可以以以以从从从从0.9eV0.9eV0.9eV0.
11、9eV减减减减少少少少到到到到0.25eV0.25eV0.25eV0.25eV。X X X X射射射射线线线线的的的的线线线线宽宽宽宽越越越越窄窄窄窄得得得得到到到到的的的的XPSXPSXPSXPS峰峰峰峰越越越越窄窄窄窄,可以得到更好的化学态的信息;可以得到更好的化学态的信息;可以得到更好的化学态的信息;可以得到更好的化学态的信息;消消消消除除除除X X X X射射射射线线线线中中中中的的的的干干干干扰扰扰扰部部部部分分分分,即即即即X X X X射射射射线线线线伴伴伴伴峰峰峰峰和和和和韧韧韧韧致致致致辐辐辐辐射产生的连续背景;射产生的连续背景;射产生的连续背景;射产生的连续背景;X X X
12、 X射射射射线线线线源源源源使使使使用用用用单单单单色色色色器器器器后后后后,热热热热源源源源远远远远离离离离样样样样品品品品,可可可可以以以以避避避避免免免免热辐射导致样品损伤;热辐射导致样品损伤;热辐射导致样品损伤;热辐射导致样品损伤;用用用用单单单单色色色色器器器器可可可可以以以以将将将将X X X X射射射射线线线线聚聚聚聚焦焦焦焦成成成成小小小小束束束束斑斑斑斑,可可可可以以以以实实实实现现现现高高高高灵敏度的小面积的灵敏度的小面积的灵敏度的小面积的灵敏度的小面积的XPSXPSXPSXPS测量;测量;测量;测量;使使使使用用用用单单单单色色色色器器器器只只只只有有有有被被被被分分分分
13、析析析析的的的的区区区区域域域域受受受受到到到到X X X X射射射射线线线线的的的的辐辐辐辐射射射射,可可可可以以以以实实实实现现现现多多多多样样样样品品品品分分分分析析析析,也也也也可可可可以以以以在在在在同同同同一一一一稳稳稳稳定定定定性性性性差差差差的的的的样品上进行多点分析。样品上进行多点分析。样品上进行多点分析。样品上进行多点分析。X射线单色器:第11页/共92页电子能量分析器电子能量分析器(1)半球型电子能量分析器改变两球面间的电位差,不同能量的电子依次通过分析器;分辨率高;(2)筒镜式电子能量分析器 (CMA)同轴圆筒,外筒接负压、内筒接地,两筒之间形成静电场;灵敏度高、分辨率
14、低;二级串联;第12页/共92页对半球型分析器而言:其分辨率为:第13页/共92页检测器检测器产生的光电流:10-310-9mA;电子倍增器作为检测器;单通道电子倍增器;多通道电子倍增器;真空系统光源、样品室、电子能量分析器、检测器都必须在高真空条件下工作;真空度:1.3310-6Pa。第14页/共92页光电离几率光电离几率光电离几率光电离几率光电离几率(光电离截面):一定能量的光子在与原子作用时,从某个能级激发出一个电子的几率;与电子壳层平均半径,入射光子能量,原子序数有关;电子结合能与入射光子能量越接近越大;轻原子:半径越小的壳层越大。1s/2 s 20 重原子:同壳层 随原子序数的增加而
15、增大;原子序数原子序数壳层壳层最强线所在亚壳层(能级)最强线所在亚壳层(能级)3-12K1s13-33L2p34-66M3d67-71N4d72-92N4fAlK射线激发出的最强光电子线第15页/共92页光电子的能量分布曲线:采用特定元素某一X光谱线作为入射光,实验测定的待测元素激发出一系列具有不同结合能的电子能谱图,即元素的特征谱峰群;谱峰:不同轨道上电子的结合能或电子动能;伴峰:X射线特征峰、Auger峰、多重态分裂峰。第16页/共92页谱峰出现规律谱峰出现规律(1)主量子数n小的峰比n大的峰强;(2)n相同,角量子数L大的峰比L小的峰强;(3)内量子数J大的峰比J小的峰强;第17页/共9
16、2页由于当角量子数l0时会产生自旋-轨道耦合作用,使得处于同一壳层的电子能级发生分裂,因此,对于的l0能级,XPS都呈现双峰。这种分裂可以用内量子数j来表示:可见;第18页/共92页对应每个对应每个j j的相对强度:的相对强度:可以用可以用j j表示。表示。对对于于一一个个d d轨轨道道上上的的电电子子5/25/2和和3/23/2态态的的相相对对强强度度为为:(j(j小小的的峰峰结结合合能能高高)双重态组分间的裂距:双重态组分间的裂距:依赖于自旋轨道耦合的强度。依赖于自旋轨道耦合的强度。对对于于给给定定的的n n和和l l,裂裂距距随随n n和和l l的的增增加而减少。加而减少。第19页/共9
17、2页40640440240039839639425003000350040004500N1sIntensity/a.u.BindingEnergy/eV第20页/共92页10501040103010201010260002800030000320003400036000Zn2p3/2Zn2p1/2Intensity/a.u.BindingEnergy/eV第21页/共92页82807876747270686664626000800010000120001400016000intensity/cpsBindingEnergy/eVPt4f7/2Pt4f5/2第22页/共92页电子逃逸深度电子逃逸
18、深度电子逃逸深度电子逃逸深度电子逃逸深度:逸出电子的非弹性散射平均自由程;:金 属 0.52nm;氧 化 物 1.54nm;有 机 和 高 分 子410nm;通常:取样深度 d=3;表面无损分析技术;由Lambert指数衰减定律 Id-厚度为d的信号强度(能量无损)I0-厚层为0的信号强度 当d=3时,Id=0.05I0 与 成正比,(电子动能在100-2000eV)。第23页/共92页在在常常规规的的XPSXPS分分析析中中,我我们们是是分分析析来来自自相相对对于于样样品品表表面面9090 方方向向出出射射的的电电子子,在在一一张张XPSXPS谱谱图图中中,无无损损的的分分析析深深度度,大大
19、约约65%65%的的信信号号来来自自小小于于的的深深度度内内,8585%的的信信号号来来自自小小于于2 2的的深深度度内内,9595%的的信信号号来来自自小小于于3 3的的深深度度内。内。我我们们在在角角分分辨辨测测量量中中可可以以用用这这一一特特性性来获得组分深度分析。来获得组分深度分析。第24页/共92页深度分析深度分析 择择优溅射问题优溅射问题 损伤损伤 离子溅射离子溅射 应注意应注意 还原还原效应问题效应问题 表表面粗糙度问题面粗糙度问题 非损伤非损伤 改变电子发射角度改变电子发射角度第25页/共92页变角变角XPSXPS深度分析深度分析 前前面面讨讨论论的的Beer-LambertB
20、eer-Lambert方方程程,已已经经给给出出了了分分析析深深度度依依赖赖于于电电子子的的发发射射角角。当当相相对对于于样样品品表表面面法法向向的的电电子子发发射射角角接接近近于于=0=0 时时,分分析析深深度度就就接接近近极极限限值值3 3。3 3 经经常常被被认认为为是是XPSXPS的的分分析析深深度度(更更确确切切的的表表达式为达式为3 3 coscos)。)。这这种种方方法法在在检检测测物物体体表表面面1-10nm1-10nm内内的组分变化方面非常有用。的组分变化方面非常有用。非破坏性深度剖析方法第26页/共92页变角变角变角变角XPSXPS技术技术技术技术 非损伤深度分析非损伤深度
21、分析非损伤深度分析非损伤深度分析 dD eh取样深度示意图取样深度D10nm第27页/共92页式中式中式中式中d d d d是光电子出射角与样品法线夹角为是光电子出射角与样品法线夹角为是光电子出射角与样品法线夹角为是光电子出射角与样品法线夹角为时的信息深度;时的信息深度;时的信息深度;时的信息深度;D D D D是光电子出射角与样品法线夹角为是光电子出射角与样品法线夹角为是光电子出射角与样品法线夹角为是光电子出射角与样品法线夹角为0 0 0 0 时的信息深度。时的信息深度。时的信息深度。时的信息深度。=75 D=0.8=55 D=1.7=0 D=3第28页/共92页例例:用变角用变角X光电子能
22、谱技术对非光电子能谱技术对非均相高分子材料进行非损伤的层均相高分子材料进行非损伤的层结构分析结构分析 软段结构软段结构 OCH2CH2CH2CH2n 硬段结构硬段结构HNCONH CH2 NHCONHCH2CH2 n 由于N1s,O1s峰在动能1000eV 左右,所以当射线垂直人射时,d3310nm。改变入射角,可以得到不同深度的信息。第29页/共92页取样深度从取样深度从10nm10nm降低到降低到2.6nm2.6nm,样品的,样品的O:NO:N原子比增加了约原子比增加了约3 3倍。这表明含氧的结构富集于表面,而含氮的结构则较多地倍。这表明含氧的结构富集于表面,而含氮的结构则较多地存在于内层
23、。根据软硬段的结构,就说明软段在表面富集。存在于内层。根据软硬段的结构,就说明软段在表面富集。第30页/共92页第31页/共92页在获得大于在获得大于10nm10nm的深度信息时,必须的深度信息时,必须用离子轰击,对物体进行剥离。用离子轰击,对物体进行剥离。溅射的本身并不是一个简单的过程,溅射的本身并不是一个简单的过程,可能会出现:可能会出现:1.1.会出现某一特定类型的离子或原子会出现某一特定类型的离子或原子择优溅射。择优溅射。2.2.会出现离子诱导反应。会出现离子诱导反应。3.3.随着样品被剥离,刻蚀坑底的粗糙随着样品被剥离,刻蚀坑底的粗糙度增加,最终界面会模糊。度增加,最终界面会模糊。离
24、子刻蚀深度剖析方法第32页/共92页为为为为了了了了提提提提高高高高深深深深度度度度分分分分辩辩辩辩率率率率,一一一一般般般般应应应应采采采采用用用用间间间间断断断断溅溅溅溅射射射射的的的的方方方方式式式式。为为为为了了了了减减减减少少少少离离离离子子子子束束束束的的的的坑坑坑坑边边边边效效效效应应应应,应增加离子束的直径。应增加离子束的直径。应增加离子束的直径。应增加离子束的直径。为为为为了了了了降降降降低低低低离离离离子子子子束束束束的的的的择择择择优优优优溅溅溅溅射射射射效效效效应应应应及及及及基基基基底底底底效效效效应应应应,应应应应提提提提高高高高溅溅溅溅射射射射速速速速率率率率和和
25、和和降降降降低低低低每每每每次次次次溅溅溅溅射射射射的的的的时时时时间间间间。一一一一般般般般的的的的深深深深度度度度分分分分析析析析所所所所给给给给出出出出的的的的深深深深度度度度值值值值均均均均是是是是相对与某种标准物质的相对溅射速率。相对与某种标准物质的相对溅射速率。相对与某种标准物质的相对溅射速率。相对与某种标准物质的相对溅射速率。第33页/共92页谱峰的物理位移和化学位移谱峰的物理位移和化学位移物理位移:固体的热效应与表面荷电的作用引起的谱峰位移化学位移:原子所处化学环境的变化引起的谱峰位移产生原因:1)价态改变:内层电子受核电荷的库仑力和荷外其他电子的屏蔽作用;电子结合能位移Eb;
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