激光技术资料.pptx
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1、 一个短脉冲的形成和消失,可以由激光系统反转粒子数密度的增减变化来解释.造成系统反转粒子数密度增加的因素是光泵的激励,其增加速率在一个短脉冲的长消过程中可以看成是不变的。使反转粒子数密度减少的因素是受激辐射,其减少速率则因腔内光子数密度的多少而变化。第1页/共85页一个短脉冲的生成过程可以分成四个阶段。如图所示:第2页/共85页 第一阶段为 。起始时,光泵激励使反转粒子数密度 增加。在 时,受激辐射尚未开始,所以 的增长速率占优势。当 达到阈值时,开始产生激光,激光器内光子数密度 急剧增加。由于是受激辐射,所以 的减少速率也逐渐变大。只要光泵造成的增加速率还大于受激辐射造成的减少速率时,仍然在
2、增加,直到 时二速率相等,达到了极值。第二阶段为 。在 以后,此阶段 仍成立。所以激光继续产生,腔内光子数密度 仍急剧增加。受激辐射造成的 减少速率也继续变大,于是就超过了光泵激励造成的增加速率,这时 开始减小。到 时又回到阈值。第3页/共85页 第三阶段为 。时间过 之后,又有 成立。但 仍大于零,受激辐射并末停止。这样就造成两种后果:一是此时 ,即增益小于损耗腔内光子数密度必急剧减少;二是由于受激辐射的存在,将继续减少。此两者综合结果是 的减少速率逐惭变小了。等到 时,减少速率又等于光泵激励所造成的增加速率。第四阶段为 。时可经 之后,的增加速率又占了优 势等到 时,又达到阂值 之后,第二
3、个尖脉冲又得以重复。在整个光泵激励时间内,这种过程要多次反复发生,这就形成了一连串的尖峰结构。且光泵功率越大,尖峰形成就越快,尖峰的时间间隔就越小。第4页/共85页由上述的尖峰结构可见,脉冲激光输出具有如下几个特点:(1)总在 附近振荡变化,的总水平不高,因此,增益也就达不到较高的值总输出水平不会太高。(2)在光泵灯闪光的整个时间宽度中,激光出现的时间较早,结束较晚,也就是指整个激光脉冲宽度很宽。(3)激光脉冲不够平滑。第5页/共85页调Q(Q开关)技术第6页/共85页调Q(Q开关)技术两个基本问题:一、调Q技术的基本概念和基本理论二、实现调Q技术的方法:1.电光调Q;2.声光调Q;3.染料调
4、Q;4.色心晶体调Q;5.转镜调Q。第7页/共85页概述一、调Q技术的目的:压缩脉冲宽度,提高峰值功率。第8页/共85页二、一般固体脉冲激光器的输出特性 1.输出的脉冲是系列尖峰振荡 激光器在阈值附近工作。2.脉宽比较宽,输出功率低 第9页/共85页三、调Q原理 1.定义:Q值是评定激光器中光学谐振腔质量好坏的指标-品质因数。Q值-定义为在激光谐振腔内,储存的总能量与腔内单位时间损耗的能量之比。式中W-腔内储存的总能量,dW/dt-光子能量的损耗速率,即单位时间内损耗的能量。-激光的中心频率。2调节Q值的途径 一般采取改变腔内损耗的办法来调节腔内的Q值。第10页/共85页 3调Q技术的过程 (
5、1)能量贮存过程 a.激活介质贮能 当光泵的能量被激光介质吸收后,使激活离子贮存在激活介质的高能态上(该能级有一定的寿命)。不产生激光辐射从而使反转粒子数达到最大值。实现这一过程,满足的条件:达到最大值,增益达到最大,而 很大,使阈值高,满足 ,激光不振荡,Q低。b.激活介质谐振腔组合贮能先是使反转粒子数达到最大值,但满足 然后使 产生激光又以光子的形式贮存在腔内。第11页/共85页 (2)激光产生与输出过程 条件:,减小到 ,Q达到最高。因为增益最大,所以 小时,激光迅速建立,在极短的时间内,工作物质贮能通过光子的受激辐射过程释放出来,形成巨脉冲。调Q的过程:调节 ,相当于Q是一个门,关上门
6、,Q低贮能,打开门产生激光。第12页/共85页三、Q开关激光器的特点 1.通过改变改变Q值改变阈值,控制激光产生的时间。2.两阶段 (1)储能阶段(延迟时间)反转粒子数达最大值。(2)激光产生输出 忽略泵浦和自发辐射的影响。3.开关时间 从Q值最小变到最大Q值即损耗从最大变到最小需要的时间叫开关时间。开关时间对激光脉冲的影响很大,按开关时间的大小分为快、慢两种类型。第13页/共85页1 转镜调Q技术将激光器光学谐振腔两个反射镜之一安装在一个旋转轴,使其在每一转动周期中,只有当两个反射镜平行时损耗最小,因而通过控制旋转镜,从而控制光腔的反射损耗-调Q第14页/共85页2 电光晶体调Q 电光晶体调
7、Q原理 利用晶体的电光效应,在晶体上加一阶跃式电压,调节腔内光子的反射损耗。例如:采用KDP纵向运用方式,即Z向加电场,Z向通光 第15页/共85页 第一阶段是在晶体上加 。偏振光通过KDP晶体时分解为沿X和Y方向振动的振幅相等的两束光,两束光的振动方向垂直,频率相同,沿相同方向传播时,其合成的规迹由两光的相位差来决定,当 时,两束光合成为一线偏光,它的振动方向相对入射光的原振动方向旋转90度。因为P1/P2,所以,从晶体出来的光不能通过P2,被P2反射掉。所以光不能在腔内来回传播形成振荡。这就相当于腔内光子的损耗很大,Q值很高,称为“关门”状态。第16页/共85页(2)第二阶段:脉冲形成阶段
8、Q开关完全打开 在第一阶段工作物质的反转粒子数达到最大值 时,突然退去晶体上的电压,这时晶体又恢复了原来的状态,光在腔内形成振荡。第17页/共85页(3)激光器的时序关系 电光Q开关的过程由晶体上加一阶跃式电压来完成的。是快开关,因此时序关系同阶跃式Q开关。(4)电光晶体Q开关的电路 要获得一高峰值功率的窄脉冲,对同步电路的要求是:a 给出可靠的触发信号去点燃氙灯。b在点燃氙灯的同时,给出一脉冲信号经过一段延迟时间后,退去晶体上的电压,打开Q开关。延迟时间可靠、准确、可调。c退电压要快开关速度快。d晶体上加 电压,要求稳定可调。e保证Q开关关的及时。第18页/共85页2简化的结构:前面的结构在
9、晶体上加 ,对于KDP来说=10000V,给电路带来不便。腔内插入两个偏振片,增加插入损耗,改进结构。晶体上加 :从YAG来的光通过P变成x(y)方向振动的光,通过KDP时,分成x(y)方向振动的光,加 ,两束光的相位差 。出射晶体以后,合成为圆偏光(偏振面旋转45度),这束圆偏光通过全反射后第二次通过KDP,o、e光又得到 相位差合成为线偏光。线偏光的偏振方向和入射光的偏振方向成90度,或者说光通过KDP两次,o、e光的相位差 ,和前面的结构实际是一样的。第19页/共85页3 声光调Q 一、声光调Q原理:1.声光调Q:声光介质在超声波的作用下,折射率发生周期性变化,使介质变成正弦相位光栅,当
10、光通过这样的介质时,发生衍射。第20页/共85页二、声光Q开关的结构声光Q开关的结构:换能器、声光介质、吸收器三个部分组成,第21页/共85页三、声光Q开关的应用 由于声光Q开关需要的调制电压很低,一般小于200V,声光Q开关最大优点是用于高重复频率的Q开关激光器。在连续激光器中加入声光Q开关,可以得到高重复频率的调Q脉冲。特点:优点:声光Q开关是快开关,可以获得1000次/秒以上的高重复率的激光脉冲,而且脉冲的重复性很好。缺点:只用于低增益的连续激光器,对于高增益的激光器,开关能力差,容易“关不死门”。脉宽比较宽,开关速度比电光Q开关慢。第22页/共85页5 被动式可饱和吸收调Q 一、可饱和
11、吸收染料调Q的基本原理 利用一种可饱和吸收体做为Q开关,这种可饱和吸收染料是一种非线性吸收物质,把它放在谐振腔内,利用它对光的可饱和吸收特性来改变谐振腔内的吸收损耗,起到Q开关的作用。1.可饱和吸收体的吸收特性。可饱和吸收体是一种非线性吸收物质。假设一束光通过吸收物质时,吸收系数为 ,透过率 ,吸收率为 ,则 则 第23页/共85页2饱和吸收原理 染料具有饱和吸收的原理可以用能级跃迁的量子理论来解释。吸收物质初始状态:染料分子处于基态,-二能级系统。N吸收物质总粒子密度;n1、n2分别是高能态,基态粒子密度。染料从基态到高能态吸收光子,故初始 大。当染料吸收光强从基态到高能态时,则n1减小,n
12、2增加。染料的吸收存在两过程 吸收体对入射光强的改变应是这两个过程的综合过程。高能态粒子越多,则吸收光强越少。即n2增加,下降。当高能态粒子数n2和基态粒子数n1相等时,这时从低能态到高能态的受激跃迁的粒子数和从高能态到基态放出光子的粒子数相等。即吸收的和放出的光子相等。达到饱和。第24页/共85页二、染料调Q激光器 1.染料Q开关激光器型式 两种,染料盒和全反射镜合为一体,利用染料盒的后壁做全反镜。在锁模中用。染料盒单独放在腔内,这种机构注意避免染料盒的表面和反射镜之间形成寄生振荡。一般染料盒倾斜一个小角度 ,也可以倾斜布儒斯特角。第25页/共85页2.染料Q开关的工作过程(1)、阶段,积累
13、 a.初始态,氙灯未点燃,腔内u0,染料 很大,染料分子处于基态;b氙灯点燃,工作物质开始积累,这时工作物质的上能级自发辐射产生的荧光被染料分子吸收,但u小,都被染料吸收,损耗很大。低Q高损耗,激光不能形成振荡。(2)激光形成与输出阶段 a.随着荧光的不断被染料吸收,则 ,即腔内的损耗不断下降,当下降到 时,激光到达阈值,开始振荡Q开关打开。b.激光达到 阈值开始振荡,因此腔内激光密度u很强,染料很快达到饱和,染料无吸收损耗,Q开关完全打开输出一巨脉冲。第26页/共85页三、影响调Q的效果的因素 主要讨论吸收体、输入能量、吸收体浓度对调Q效果的影响。1.染料吸收体 吸收体是染料Q开关的核心,它
14、对调Q的效果影响最大。因此合理的选择染料很重要,并不是什么样的染料都可以做调Q开关,而且不同的工作物质所需要的染料不同。染料需满足下面条件:(1)吸收体的吸收峰和激光器的中心波长对应 (2)染料配成溶液要具有一定的稳定性。(3)选择的染料必须有高的开关效率。第27页/共85页2.染料浓度的影响 (1)染料浓度N大 基态n1大,初 始大,当染料饱和时n1=n2,从基态的粒子激发到高能态达到饱和时吸收的光强多饱和光强大,因此染料从初态到饱和需要的时间长延迟时间长。如果N过大,饱和光强大,腔内的光强不能使染料达到饱和,这时染料起不到Q开关的作用。(2)染料的浓度小 N小,小,延迟时间短 小,输出功率
15、小。由于Q开关打开的时间早,容易出现多脉冲。如果N过小,则实际上是尖峰振荡。结论:在一定的输入能量下,存在一个最佳浓度,延迟时间正好使 达到最大值。此时激光器输出单脉冲,峰值功率最高。第28页/共85页3.输入能量 一定的输入能量对应一个最佳浓度。输入能量改变,最佳浓度变,当输入能量增加时,最佳浓度向着浓的方向移动。因为输入能量的变化,相当于腔内光强变化,延迟时间变化,变。4.染料盒的影响,若l(盒的厚度)变,则 一定时(一定),最佳浓度N变,l 小,N大,对于稳定的脉冲输出是有利的。溶剂的比例小,因此溶剂的吸收损耗小。一般尽量选薄一些的染料盒(1mm左右)。5.输出镜反射率的影响 反射率R大
16、,腔内u高;R小,腔内u小(在相同输入能量下,R大延迟时间短)。R对延迟时间有影响。R比静态激光器低,使延迟时间更长,利于 的积累。第29页/共85页四、染料Q开关的特点 优点:1.简单方便。这种Q开关只要配好溶液放在染料盒内,或做成染料片成品。放谐振腔中即可。而电光调Q中还需要一套电路系统控制Q开关。2.速度快。染料Q开关属于快开关。一般10-9nS量级。3.自动实现开关和增益的调谐。4.具有选模的作用。在中心频率附近的模式,增益高,先振荡,消耗;而增益低的模式被抑止(在漂白前)。漂白后,其他模能够振荡。缺点:1.同步精度差。不需要同步装置简单,但要得到很好的调Q效果需要经过反复实验。而实际
17、要求和Q开关激光器同步,染料Q开关不能使用。2.稳定性差。染料的溶液不稳定,影响输出的功率不稳定。3.输出功率不能很大。因为染料调Q激光器实际上在阈值附近工作。因此染料Q开关激光器适用于同步精度要求不高,稳定性要求不高的实际应用。第30页/共85页LiF可饱和吸收晶体Q开关 1.工作原理:LiF晶体是无色透明晶体,不能做Q开关晶体用,但当它经过射线辐射后就可以产生色心,开始变为棕红色。随着辐射剂量的大小不同,其着色的深浅也不同,产生不同的色心F,F2,心等。由于色心不同,吸收谱产生了明显的变化。利用LiF色心晶体在Nd:YAG激光器及红宝石激光器中实现调Q。第31页/共85页2.特点(1)被动
18、式Q开关,利用LiF色心晶体可饱和吸收的特点。(2)作为Q开关,晶体相对于染料长期稳定性好,光学质量好,抗光损伤阈值高。第32页/共85页一、调Q技术的基本概念和基本理论 实现调Q的方法机、电、声、染料 1.调Q 的目的,Q的物理意义,如何实现调Q 调Q的目的:压缩脉冲宽度。调Q激光器用于很多方面:阴影照相,测量高速运动的物体速度;全息照相,对运动物体拍照 2.基本理论 (1)能利用速率方程分析调Q的过程 (2)峰值功率和脉冲宽度 (3)开关效率第33页/共85页二、实现调Q的方法 1.电光晶体调Q (1)反射式Q开关原理,利用晶体的电光效应,在晶体上加一阶跃式电压,改变Q值。(2)透射式Q开
19、关,三阶段:a.粒子积累,b.激光产生,c.激光输出。2.声光调Q:利用布拉格衍射,行波。3.可饱和吸收体调Q (1)染料可饱和吸收特性 染料吸收率是光强的函数,初时的吸收率很大,光强增大,吸收率减少,吸收率为0,染料饱和。(2)染料Q开关激光器第34页/共85页 (3)影响的因素 a.染料的选择:中心波长、稳定、提高开关效率等 b.染料的浓度,最佳浓度。c.输入能量,一定的输入能量对应一最佳浓度。d.染料合,薄。e.镜的反射率。4.LiF色心晶体Q开关 5.转镜调Q第35页/共85页模式选择技术第36页/共85页l横模选择原理和方法l纵模选择原理和方法l模式的测量方法 第37页/共85页l目
20、的:减少激光模式数,改善激光的方向性,提高单色性。l模式:在腔内可能存在的稳定光场的本征态,包括纵模和横模。l纵模:沿腔轴线方向电磁场的本征态。纵模数表示激光振荡频率数,纵模数多,单色性差。单一纵模单色性最好。l横模:在腔中垂直腔轴方向的电磁场的本征态。不同的横模,光场分布不同,光束的发散角不同。基横模光强是高斯形,光场分布均匀,发散角最小。随着横模序数的增加,光场的范围加大,分布不均匀,发散角越来越大。一般激光器中有很多模式振荡,实际的光场分布是复合模。为了改善激光的方向性,必须选出基横模。l改善激光的方向性,提高单色性是实际应用的要求。激光打孔。激光全息、精密干涉计量要求单色性好。第38页
21、/共85页横模选择技术 有关理论:在稳定腔中,采用衍射理论选 模 1.两条原则 模的衍射损耗 要小。必须尽量增大 和 模衍射损耗的比值 。总之:原则上是采取一定的办法加大基模和高阶横模衍射损耗的差别,使高阶横模的损耗大于增益不能振荡,而基模满足阈值条件,保存下来,达到选出基横模的目的。第39页/共85页2.影响衍射损耗的因素与腔型和g参数有关,不同的腔型和g,衍射损耗不同。同一种腔型,不同横模,衍射损耗不同。模 最小,随着模序数增加,越来越大。同一种腔型,菲涅尔数 不同,衍射损耗不同。在不同N,g下,和 模的衍射损耗曲线,这是选模的设计依据。第40页/共85页3.基模体积模体积表示某一模式在腔
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