制造工艺学习.pptx
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1、第1页/共28页 固体类型无定形(非晶)、多晶、单晶晶体的特点:1.组成晶体的原子按一定方式有规则排列2.有固定的熔点 Si(硅):1420 Ge(锗):9413.单晶具有方向性:各向异性单晶区域(晶粒)晶界第2页/共28页第3页/共28页第4页/共28页pn结的制造 三种方法生长结法,合金法 和平面工艺。第5页/共28页 外延片清洗镀透明电极层透明电极图形光刻腐蚀去胶平台图形光刻干法刻蚀去胶退火SiO2沉积窗口图形光刻SiO2腐蚀去胶N极图形光刻预清洗镀膜剥离退火P极图形光刻镀膜剥离研磨切割芯片成品测试。第6页/共28页 前段工序的第一步是制造半导体晶圆。发光二极管所用的材料决定了发射光的颜
2、色。(1)用CZ法直拉单晶制造法得到掺有杂质的所选材料的硅锭 直拉单晶制造法(Czochralski,CZ法)是把原料多硅晶块放入石英坩埚中,在单晶炉中加热融化,再将一根直径只有10mm的棒状晶种(称籽晶)浸入融液中。在合适的温度下,融液中的硅原子会顺着晶种的硅原子排列结构在固液交界面上形成规则的结晶,成为单晶体。第7页/共28页 发光二极管的制造过程大体可分为三个阶段:前段、中段、后段(也称为上游、中游、下游)。前段工序主要完成晶圆制造和外延生长,中段工序主要包括研磨、蒸镀、光刻、切割等过程,后段工序则是根据不同的需要把LED封装成各种形式。第8页/共28页芯片数芯片数 激发源激发源 发光材
3、料发光材料 发光原理发光原理 1 1 蓝色蓝色LED LED InGaN/YAG InGaN/YAG InGaNInGaN的蓝光与的蓝光与YAGYAG的黄光混合的黄光混合成白光成白光 蓝色蓝色LED LED InGaN/InGaN/荧光粉荧光粉 InGaNInGaN的蓝光激发的红绿蓝三基的蓝光激发的红绿蓝三基色荧光粉发白光色荧光粉发白光 蓝色蓝色LED LED ZnSe ZnSe 由薄膜层发出的蓝光和在基板上由薄膜层发出的蓝光和在基板上激发出的黄光混色成白光激发出的黄光混色成白光 紫外紫外LED LED InGaN/InGaN/荧光粉荧光粉 InGaNInGaN的紫外激发的红绿蓝三基的紫外激发
4、的红绿蓝三基色荧光粉发白光色荧光粉发白光 2 2 蓝色蓝色LED LED 黄绿黄绿LED LED InGaNInGaN、GaP GaP 将具有补色关系的两种芯片封装将具有补色关系的两种芯片封装在一起,构成白色在一起,构成白色LED LED 3 3 蓝色蓝色LED LED 绿色绿色LED LED 红色红色LED LED InGaN InGaN AlInGaP AlInGaP 将发三原色的三种小片封装在一将发三原色的三种小片封装在一起,构成白色起,构成白色LED LED 多个多个 多种光色的多种光色的LED LED InGaNInGaN、GaP GaP AlInGaP AlInGaP 将遍布可见光
5、区的多种光芯片封将遍布可见光区的多种光芯片封装在一起,构成白色装在一起,构成白色LED LED 第9页/共28页 然后对硅锭进行整形处理,包括去掉两端、径向研磨、制作定位边或定位槽。(2)整形处理完成后,硅锭进行切片,晶圆片的厚度大约是0.20.3mm左右,接着进行磨片和倒角除去晶圆表面损伤和边缘裂缝。为了消除晶圆表面损伤,还可以采用化学刻蚀技术去除硅片表面损伤和沾污。第10页/共28页(3)清洗,制造完成的晶圆必须经过严格的化学及超声波清洗,这个过程可以去除抛光后晶圆表面可能存在的污垢、尘埃或有机物,晶圆表面洁净程度越高,将来制成的LED的性能才能越好。第11页/共28页(4)晶圆(或称衬底
6、材料)制造完成后,进行外延生长。外延就是在衬底上淀积一层薄的单晶层,新淀积的这层称为外延层。以GaAs为例,根据制程的不同,外延可分为液相外延(LPE)、有机金属气相外延(MOCVD)以及分子束外延(MBE)。LPE的技术层次较低,主要用于一般发光二极管的外延生长,而MBE的技术层次较高,容易生长极薄的外延层,且纯度高、平整性好,但量产能力低,外延生长速度慢。MOCVD除了纯度高、平整性好,量产能力及外延生长速度都比MBE快,因此现在大都以MOCVD生产。第12页/共28页 外延的具体过程是:首先将GaAs衬底放入有机化学气相沉积炉,通入、族金属元素的烷基化合物(甲基或乙基化合物)蒸气与非金属
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