极管伏安特性曲线与参数.ppt
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1、上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础11-5-3 1-5-3 晶体三极管的伏安特性曲线晶体三极管的伏安特性曲线E 晶体管的伏安特性曲线是描述三极管的各端电流与两晶体管的伏安特性曲线是描述三极管的各端电流与两个个PNPN结外加电压之间的关系的一种形式,其特点是能直结外加电压之间的关系的一种形式,其特点是能直观,全面地反映晶体管的电气性能的外部特性。观,全面地反映晶体管的电气性能的外部特性。E 晶体管的特性曲线一般用实验方法描绘或专用仪器晶体管的特性曲线一般用实验方法描绘或专用仪器(如晶体管图示仪)测量得到。(如晶体管图示仪)测量得到。E 晶体三极管为三端器件,在电路中要构成四
2、端网络,晶体三极管为三端器件,在电路中要构成四端网络,它的每对端子均有两个变量(它的每对端子均有两个变量(端口电压和电流端口电压和电流),因此),因此要在平面坐标上表示晶体三极管的伏安特性,就必须采要在平面坐标上表示晶体三极管的伏安特性,就必须采用两组曲线簇,我们最常采用的是用两组曲线簇,我们最常采用的是输入特性曲线簇输入特性曲线簇和和输输出特性曲线簇。出特性曲线簇。上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础2E 输入特性是指三极管输入回路中,加输入特性是指三极管输入回路中,加在基极和发射极的电压在基极和发射极的电压U UBEBE与由它所产生与由它所产生的基极电流的基极电流I I
3、B B之间的关系。之间的关系。E(1 1)U UCE CE=0=0时相当于集电极与发射极时相当于集电极与发射极短路,此时,短路,此时,I IB B和和U UBEBE的关系就是发射结的关系就是发射结和集电结两个正向二极管并联的伏安特和集电结两个正向二极管并联的伏安特性。性。E 因为此时因为此时J JE E和和J JC C均正偏,均正偏,I IB B是发射区和是发射区和集电区分别向基区扩散的电子电流之和。集电区分别向基区扩散的电子电流之和。一、输入特性曲线一、输入特性曲线上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础3输入特性曲线输入特性曲线簇簇上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模
4、拟电子技术基础4E(2 2)U UCECE1V 1V 即:给集电结加上固定即:给集电结加上固定的反向电压,集电结的吸引力加强!使得的反向电压,集电结的吸引力加强!使得从发射区进入基区的电子绝大部分流向集从发射区进入基区的电子绝大部分流向集电极形成电极形成I Ic c。E 同时,在相同的同时,在相同的U UBEBE值条件下,流向基值条件下,流向基极的电流极的电流I IB B减小,即特性曲线右移,减小,即特性曲线右移,E 总之,晶体管的输入特性曲线与二极管总之,晶体管的输入特性曲线与二极管的正向特性相似,因为的正向特性相似,因为b b、e e间是正向偏置间是正向偏置的的PNPN结(放大模式下)结(
5、放大模式下)上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础5 特性曲线特性曲线ICmA AVVUCEUBERBIBECEB 实验线路实验线路上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础6一、一、输入特性输入特性UCE 1VIB(A)UBE(V)204060800.40.8工作压降:工作压降:硅管硅管UBE 0.60.7V,锗锗管管UBE 0.20.3V。UCE=0VUCE=0.5V 死区电死区电压,硅管压,硅管0.5V,锗,锗管管0.2V。上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础7二、输出特性曲线二、输出特性曲线E 输出特性通常是指在一定的基极电流输出特性
6、通常是指在一定的基极电流I IB B控制下,三极管的集电极与发射极之间的控制下,三极管的集电极与发射极之间的电压电压U UCECE同集电极电流同集电极电流I Ic c的关系。的关系。E 现在我们所见的是共射输出特性曲线现在我们所见的是共射输出特性曲线表示以表示以I IB B为参变量时,为参变量时,I Ic c和和U UCECE间的关系:间的关系:E 即即 I Ic c=f(U=f(UCECE)|)|IB=IB=常数常数E 实测的输出特性曲线如图所示:根据实测的输出特性曲线如图所示:根据外加电压的不同,整个曲线可划分为四个外加电压的不同,整个曲线可划分为四个区:区:放大区、截止区、饱和区、击穿区
7、放大区、截止区、饱和区、击穿区上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础8二、二、输出特性输出特性IC(mA )1234UCE(V)36912IB=020 A40 A60 A80 A100 A此区域满此区域满足足IC=IB称为线性称为线性区(放大区(放大区)。区)。当当UCE大于一大于一定的数值时,定的数值时,IC只与只与IB有关,有关,IC=IB。上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础9IC(mA )1234UCE(V)36912IB=020 A40 A60 A80 A100 A此区域中此区域中UCE UBE,集电结集电结正偏,正偏,IBIC,UCE 0.3V
8、称为饱称为饱和区。和区。上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础10IC(mA )1234UCE(V)36912IB=020 A40 A60 A80 A100 A此区域中此区域中:IB=0,IC=ICEO,UBEIC,UCE 0.3V(3)截止区:截止区:UBE 死区电压,死区电压,IB=0,IC=ICEO 0 上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础131 1、截止区:、截止区:晶体管工作在截止模式下,有:晶体管工作在截止模式下,有:U UBEBE0.7V0.7V,U UBCBC0 0.7V,U 0.7V,UBC BC 0IIB B;随着随着U UCECE的增
9、加,曲线有些上翘。的增加,曲线有些上翘。此时此时:IIc cIIB B,管子在放大区具有很强的,管子在放大区具有很强的电流放大作用。电流放大作用。上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础15 结论:结论:在放大区,在放大区,U UBEBE 0.7V 0.7V,U UBCBC 0IIcIB B,具有很强的电流放大作用!,具有很强的电流放大作用!上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础163 3、饱和区:、饱和区:E 晶体管工作在饱和模式下:晶体管工作在饱和模式下:E U UBEBE0.7V0.7V,U UBCBC00,即:,即:Je Je、Jc Jc均正偏。均正偏
10、。E 特点:曲线簇靠近纵轴附近,各条曲线的特点:曲线簇靠近纵轴附近,各条曲线的上升部分十分密集,几乎重叠在一起,可以上升部分十分密集,几乎重叠在一起,可以看出:看出:当当 I IB B 改变时,改变时,Ic Ic 基本上不会随之而改变。基本上不会随之而改变。E 晶体管饱和的程度将因晶体管饱和的程度将因I IB B和和Ic Ic的数值不同的数值不同而改变,而改变,上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础17E一般规定:一般规定:当当 U UCECE=U=UBE BE 时的状态为时的状态为临界饱和临界饱和(V VCBCB=0=0)当当 U UCECEU UBE BE 时的状态为时的
11、状态为过饱和过饱和;E 饱和时的饱和时的U UCECE用用U UCESCES表示,三极管深度饱表示,三极管深度饱和时和时U UCESCES很小,一般小功率管的很小,一般小功率管的U UCESCES 0.3V0.3V,而锗管的,而锗管的U UCESCES 0.1V0.1V,比硅管还要小。,比硅管还要小。上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础184 4、击穿区、击穿区E 随着随着U UCECE增大,加在增大,加在J JE E上的反向偏置电压上的反向偏置电压U UCBCB相应增大。相应增大。E 当当U UCECE增大到一定值时,集电结就会发生反向击穿,造成集电极电增大到一定值时,集
12、电结就会发生反向击穿,造成集电极电流流Ic Ic剧增,这一特性表现在输出特性图上则为击穿区域。剧增,这一特性表现在输出特性图上则为击穿区域。E 造成击穿的原因:造成击穿的原因:E 由于集电结是轻掺杂的,产生的反向击穿主要是雪崩击穿,击穿由于集电结是轻掺杂的,产生的反向击穿主要是雪崩击穿,击穿电压较大。除此之外,在基区宽度很小的三极管中,还会发生特有电压较大。除此之外,在基区宽度很小的三极管中,还会发生特有的穿通击穿,即:当的穿通击穿,即:当U UCECE增大时,增大时,U UCBCB相应增大,导致集电结相应增大,导致集电结Jc Jc的阻的阻挡层宽度增宽,直到集电结与发射结相遇,基区消失,这时发
13、射区挡层宽度增宽,直到集电结与发射结相遇,基区消失,这时发射区的多子电子将直接受集电结电场的作用,引起集电极电流迅速增大,的多子电子将直接受集电结电场的作用,引起集电极电流迅速增大,呈现类似击穿的现象。呈现类似击穿的现象。E 三极管的反向击穿主要表现为集电结的雪崩击穿。三极管的反向击穿主要表现为集电结的雪崩击穿。上页上页下页下页返回返回模拟电子技术基础模拟电子技术基础195 5、晶体管三极管的工作特点如下:、晶体管三极管的工作特点如下:E(1 1)为了在放大模式信号时不产生明显的)为了在放大模式信号时不产生明显的失真,三极管应该工作在输入特性的线性失真,三极管应该工作在输入特性的线性部分,而且
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- 关 键 词:
- 伏安 特性 曲线 参数
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