LED晶片(芯片)制程与教程.ppt
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1、LED 的晶片制程的晶片制程张鹏志 13751126416QQ:7161150LED的主要制程可以分为三个阶段:前段、中段、后段(也称:上游、中游、下游。专业术语为:材料生长、芯片制作、器件封装)原料开始多晶半导体单晶成长晶圆(基板)磊晶生长晶片制作晶粒制作封装 上游 中游 下游Ga/As 原料合成蒸馏还原,形成GaAs多晶以各种长晶法(如柴氏长晶法),成长GaAs单晶棒(ingot)固晶、焊线、封胶、分光、TYPING等将单晶棒锯切成片状晶圆,并加以抛光处理将磊晶晶圆减薄到期望厚度(一般基板减至220250m,蓝宝石基板为80m),并切成晶粒.以各种磊晶技术(如MOCVD),将LED结构成长
2、在晶圆上利用金属化制程,蚀刻制程和微影制程,制作电极图案张鹏志 13751126416QQ:7161150基座基座基座晶粒固晶焊線封裝基座(Diffusion)张鹏志 13751126416QQ:7161150半导体的特性半导体的特性1.晶格晶格(lattice)原子在晶体中周期性的排列称为晶格,而晶格所含之排列周期性的的空间称为单胞(unit cell)也叫晶胞.晶格决定了晶体的材料性质,也决定光电特性.固体材料依其结晶性,可分为三种:非晶(amophous)多晶(poly-crystalline)单晶(single crystal).非晶 多晶 单晶张鹏志 13751126416QQ:71
3、611502.晶体结构晶体结构 闪锌矿结构为立方晶系,如砷化镓(GaAs)纤维锌矿结构为立方晶系,有二个晶格常数(a,b),如氮化镓(GaN)张鹏志 13751126416QQ:71611504.光电导体的二个重要参数光电导体的二个重要参数 a.能隙 eV 能隙 ,导电能力 b.晶格常数 晶格共价半径 ,导电能力 3.能隙能隙(Energy Gap 或或 Band Gap)导电带与价电带之间的差量,称为能隙.5.晶格匹配晶格匹配 a.光电导体,由二层以上半导体材料堆叠在半导体基板而形成,堆叠在基板上的半导体材料为磊晶层.b.磊晶层与基板晶格常数相同或接近称谓为晶格匹配,反之为晶格差配.价电带价
4、电带 Eg 1-3eV导电带导电带磊晶层基板磊晶层基板a.晶格匹配晶格匹配b.晶格差配晶格差配张鹏志 13751126416QQ:7161150半导体材料半导体材料1.半导体材料的分类;依构成的元素可分为:元素半导体 如:硅(Si)化合物半导体 化合物半导体又可分成:四-四族化合物 如:碳化硅(SiC)三-五族化合物 如:砷化镓(GaAs)二-六族化合物 如:硒化锌(ZnSe)四-六族化合物 如:硫化铅(PbS)若依构成元素的数量分,化合物半导体也可分成为:二元化合物半导体 如:砷化镓(GaAs)三元化合物半导体 如:砷化铝镓(AlGaAs)四元化合物半导体 如:磷砷化铟镓(InGaAsP)周
5、期IIIIIIVVVI2硼 B碳 C氮 N氧 O3镁 Mg铝 A1矽 Si磷 P硫 S4锌 Zn镓 Ga锗 Ge砷 As硒 Se5镉 Cd铟 IN锡 Sn锑 Sb碲 Te6汞 Hg铅 Pb鈊 Bi张鹏志 13751126416QQ:7161150单晶成长单晶成长柴可拉斯基液封式长晶法柴可拉斯基液封式长晶法(LEC)张鹏志 13751126416QQ:7161150布吉曼水平式长晶法布吉曼水平式长晶法 (HB)(HB)张鹏志 13751126416QQ:7161150垂直梯度冷却式长晶法垂直梯度冷却式长晶法(VGF)(VGF)张鹏志 13751126416QQ:7161150好差好尺寸可增加性劣
6、差好均匀性高中等低应用高少非常少晶片缺陷LECHBVGF三种长晶法的对比三种长晶法的对比张鹏志 13751126416QQ:7161150磊晶磊晶磊晶磊晶在半导体的应用,指在某一晶格上成长另一完整排列的晶格,其系统主要包含4部份。材料供应系统加热系统真空系统气体供应系统和成长反应腔目前常见的磊晶技术:a:液相磊晶法 LPE b:气相磊晶法 VPE c:有机金属化学气相沉渍法 MOCVD d:分子束磊晶法 MBE张鹏志 13751126416QQ:7161150LPEVPEMOCVDMBE真空(TORR)760760102109成长低贵昂贵昂贵成长速率快快慢很慢磊晶品质很好好很好很好表面形成佳佳
7、佳佳实用性差差佳佳生产品GaPGaAsINGaPGap.GaN 厚膜 10mAIGaInPINGaAsP GaN AIGaAsINGaAsAIGaSb制程倾斜冷却成长法三氯化物气相磊晶法热分解反应磊晶技术超高真空下,以蒸馏用分子束形式磊晶氢化物气相磊晶法张鹏志 13751126416QQ:7161150材料颜色波长发光效率 1M/W量子效率%磊晶法元件形成备注AlGaInP红6363524MOCVDDHAlGaAs红650816LPEDHAlGaInP琥珀5904010MOCVDDHInGaN兰色4701011MOCVDMQWInGaN绿色5203410MOCVDMQWInGaNUB37207
8、.5MOCVDDHInGaN琥珀590143.5MOCVDMQWZnSO兰色512175.3MBEDHGaP:Zn.0红色65045LPESHGAP:N黄绿5651.80.3LPESHGaAsP:N黄59010.3VPESHSiC兰色4700.020.02CVDSH张鹏志 13751126416QQ:7161150金属化制程金属化制程热阻式蒸镀 用于取低溶点的金属,如铝(AL)、金(AU)、镍(NI)电子枪蒸镀(右图)目前LED制程最普遍使用电浆溅镀(PLasma)广泛应用于半导体制程晶片电极制作晶片电极制作电子束产生器金属蒸气金属晶圆电子束坩锅大电流抽真空张鹏志 13751126416QQ:
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