模拟电子技术及应用.pptx
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1、第1章 基本半导体分立器件 1.1 半导体的基本知识与半导体的基本知识与PN结结 1.2 半导体二极管半导体二极管 1.3 特殊二极管特殊二极管1.4 半导体三极管半导体三极管 1.5 场效应晶体管场效应晶体管 导体:自然界中很容易导电的物质称为导体,导体:自然界中很容易导电的物质称为导体,金属一般都是导体。金属一般都是导体。绝缘体:有的物质几乎不导电,称为绝缘体,绝缘体:有的物质几乎不导电,称为绝缘体,如橡皮、陶瓷、塑料和石英。如橡皮、陶瓷、塑料和石英。半导体:另有一类物质的导电特性处于导体和半导体:另有一类物质的导电特性处于导体和绝缘体之间,称为半导体,如锗、硅、绝缘体之间,称为半导体,如
2、锗、硅、砷化镓和一些硫化物、氧化物等。砷化镓和一些硫化物、氧化物等。1-1 半导体的基本知识及半导体的基本知识及PN结结什么是什么是半导体半导体?半导体的导电机理不同于其它物质,所以半导体的导电机理不同于其它物质,所以它具有不同于其它物质的特点。例如:它具有不同于其它物质的特点。例如:当受外界热和光的作用时,当受外界热和光的作用时,它的导电能力明显变化。它的导电能力明显变化。往纯洁的半导体中掺入某些杂质,会使往纯洁的半导体中掺入某些杂质,会使 它的导电能力明显改变。它的导电能力明显改变。1.1.掺杂性掺杂性2.2.热敏性和光敏性热敏性和光敏性半导体的半导体的半导体的半导体的三大特性三大特性三大
3、特性三大特性1-1-1 1-1-1 本征半导体本征半导体(纯洁和具有晶体结构的半导体)(纯洁和具有晶体结构的半导体)一、本征半导体的结构特点一、本征半导体的结构特点GeGeSiSi现代电子学中,用的最多的半导体是硅和锗,它们现代电子学中,用的最多的半导体是硅和锗,它们的最外层电子(价电子)都是四个。的最外层电子(价电子)都是四个。在硅和锗晶体中,原子按四角形系统组成在硅和锗晶体中,原子按四角形系统组成晶体点阵,每个原子都处在正四面体的中心,晶体点阵,每个原子都处在正四面体的中心,而四个其它原子位于四面体的顶点,每个原子而四个其它原子位于四面体的顶点,每个原子与其相邻的原子之间形成共价键,共用一
4、对价与其相邻的原子之间形成共价键,共用一对价电子。电子。硅和锗的晶硅和锗的晶体结构体结构:通过一定的工艺过程,可以将半导体制成晶体。通过一定的工艺过程,可以将半导体制成晶体。硅和锗的共价键结构硅和锗的共价键结构共价键共共价键共用电子对用电子对+4+4+4+4+4+4+4+4+4+4表示原表示原子外层原子外层原来有来有4 4个个电子电子共价键中的两个电子被紧紧束缚在共价键中,称为共价键中的两个电子被紧紧束缚在共价键中,称为束缚电子,常温下束缚电子很难脱离共价键成为自束缚电子,常温下束缚电子很难脱离共价键成为自由电子,因此本征半导体中的自由电子很少,导电由电子,因此本征半导体中的自由电子很少,导电
5、能力很弱。能力很弱。形成共价键后,每个原子的最外层电子是形成共价键后,每个原子的最外层电子是八个,形成稳定结构。八个,形成稳定结构。共价键有很强的结合力,使原子规共价键有很强的结合力,使原子规则排列,形成晶体。则排列,形成晶体。+4+4+4+4二、本征半导体的导电机理二、本征半导体的导电机理在绝对在绝对0 0度(度(-273-273)和没有外界激发时)和没有外界激发时,价价电子完全被共价键束缚着,本征半导体中没有可电子完全被共价键束缚着,本征半导体中没有可以运动的带电粒子(即载流子),不能导电,相以运动的带电粒子(即载流子),不能导电,相当于绝缘体。当于绝缘体。在常温下,由于热激发,使一些价电
6、子获在常温下,由于热激发,使一些价电子获得足够的能量而脱离共价键的束缚,成为自由电得足够的能量而脱离共价键的束缚,成为自由电子,同时共价键上留下一个空位,称为空穴。子,同时共价键上留下一个空位,称为空穴。1.1.载流子、自由电子和空穴载流子、自由电子和空穴+4+4+4+4自由电子自由电子空穴空穴束缚电子束缚电子(价电子)(价电子)2.2.本征半导体的导电机理本征半导体的导电机理+4+4+4+4+4+4+4+4在外界因素的作用下,在外界因素的作用下,空穴吸引附近的电子空穴吸引附近的电子来填补,结果相当于来填补,结果相当于空穴的迁移,效果相空穴的迁移,效果相当于正电荷的移动,当于正电荷的移动,因此
7、可以认为空穴是因此可以认为空穴是载流子,能定向移动载流子,能定向移动而形成电流。而形成电流。本征半导体中两种载流子的数量相等,称自由本征半导体中两种载流子的数量相等,称自由电子空穴对。电子空穴对。温度越高,载流子的浓度越高。因此本征半温度越高,载流子的浓度越高。因此本征半导体的导电能力越强,温度是影响半导体性导体的导电能力越强,温度是影响半导体性能的一个重要的外部因素,这是半导体的一能的一个重要的外部因素,这是半导体的一大特点大特点-半导体的热敏性。半导体的热敏性。本征半导体的导电能力取决于载流子的浓度。本征半导体的导电能力取决于载流子的浓度。本征半导体中电流由两局部组成:本征半导体中电流由两
8、局部组成:(1 1)自由电子移动产生的电流。)自由电子移动产生的电流。(2 2)空穴移动产生的电流。)空穴移动产生的电流。(在本征半导体中(在本征半导体中 自由电子和空穴成对出现,自由电子和空穴成对出现,同时又不断的复合)同时又不断的复合)1-1-2 1-1-2 杂质半导体杂质半导体在本征半导体中掺入某些微量的杂质原子,在本征半导体中掺入某些微量的杂质原子,形成杂质半导体。杂质半导体的导电性能将发生形成杂质半导体。杂质半导体的导电性能将发生显著变化,其原因是掺杂半导体的某种载流子浓显著变化,其原因是掺杂半导体的某种载流子浓度大大增加。度大大增加。P P 型半导体:空穴浓度大大增加的杂质半导体,
9、也型半导体:空穴浓度大大增加的杂质半导体,也称为空穴型半导体。称为空穴型半导体。N N 型半导体:型半导体:自由电子浓度大大增加的杂质半导体,自由电子浓度大大增加的杂质半导体,也称为电子型半导体。也称为电子型半导体。一、一、N N 型半导体型半导体在硅或锗晶体(本征半导体)中掺入少在硅或锗晶体(本征半导体)中掺入少量的五价元素,如磷,晶体中的某些半导体量的五价元素,如磷,晶体中的某些半导体原子被杂质原子取代。由于磷原子的最外层原子被杂质原子取代。由于磷原子的最外层有五个价电子,其中四个与相邻的半导体原有五个价电子,其中四个与相邻的半导体原子形成共价键,必定多出一个电子,这个电子形成共价键,必定
10、多出一个电子,这个电子不受共价键的束缚,很容易被激发而成为子不受共价键的束缚,很容易被激发而成为自由电子,这样磷原子就成了不能移动的带自由电子,这样磷原子就成了不能移动的带正电的离子;本征半导体电子和空穴成对出正电的离子;本征半导体电子和空穴成对出现的现象也被打破。现的现象也被打破。+4+4+4+4+5+5+4+4多余多余电子电子磷原子磷原子N N 型半导体中型半导体中的载流子有哪的载流子有哪些呢?些呢?(1 1)由磷原子提供的电子,浓度与磷原子相同。)由磷原子提供的电子,浓度与磷原子相同。(2 2)本征半导体中成对产生的电子和空穴。)本征半导体中成对产生的电子和空穴。一般情况下,掺杂浓度远大
11、于本征半导体中载流子浓一般情况下,掺杂浓度远大于本征半导体中载流子浓度,所以,自由电子浓度远大于空穴浓度。在度,所以,自由电子浓度远大于空穴浓度。在N N型半型半导体中,自由电子称为多数载流子(多子),空穴称导体中,自由电子称为多数载流子(多子),空穴称为少数载流子(少子)。为少数载流子(少子)。二、二、P P 型半导体型半导体在硅或锗晶体(本征半导体)中掺入少量的在硅或锗晶体(本征半导体)中掺入少量的三价元素,如硼(或铟),晶体点阵中的某些半三价元素,如硼(或铟),晶体点阵中的某些半导体原子被杂质原子取代。硼原子的最外层有三导体原子被杂质原子取代。硼原子的最外层有三个价电子,与相邻的个价电子
12、,与相邻的半导体原子形成共价键时,半导体原子形成共价键时,产生一个空穴。这个空穴产生一个空穴。这个空穴可能吸引束缚电子来填补,可能吸引束缚电子来填补,使得硼原子成为不能移动使得硼原子成为不能移动的带负电的离子。的带负电的离子。+4+4+4+4+3+3+4+4空穴空穴硼原子硼原子P P 型半导体中空穴是多子,电子是少子型半导体中空穴是多子,电子是少子。三、杂质半导体的示意图三、杂质半导体的示意图P P 型半导体型半导体+N N 型半导体型半导体小小 结结2.N2.N型半导体:电子是多子,其中大局部是掺杂提供型半导体:电子是多子,其中大局部是掺杂提供的电子;空穴是少子,少子的迁移也能形成电流,的电
13、子;空穴是少子,少子的迁移也能形成电流,由于数量的关系,起导电作用的主要是多子由于数量的关系,起导电作用的主要是多子。近近似认为多子与杂质浓度相等。似认为多子与杂质浓度相等。3.P3.P型半导体中空穴是多子,电子是少子型半导体中空穴是多子,电子是少子。1.1.本征半导体中受激(热激发即本征激发)产本征半导体中受激(热激发即本征激发)产生的电子和空穴成对出现,数量很少。生的电子和空穴成对出现,数量很少。4.4.杂质半导体:多子数(多子浓度)主要由掺杂浓度杂质半导体:多子数(多子浓度)主要由掺杂浓度决定,受温度影响较小;而少子(少子浓度)主要由决定,受温度影响较小;而少子(少子浓度)主要由本征激发
14、决定,所以受温度影响较大。本征激发决定,所以受温度影响较大。1-1-3 PN 1-1-3 PN 结的形成结的形成在同一片半导体基片上,分别制造在同一片半导体基片上,分别制造P P 型半导体和型半导体和N N 型半导体,经过载流型半导体,经过载流子的扩散,在它们的交界面处就形成子的扩散,在它们的交界面处就形成了了PN PN 结。结。P P 型半型半导体导体N N 型半型半导体导体+扩散运动扩散运动漂移运动漂移运动扩散的结果是使空间电荷区扩散的结果是使空间电荷区逐渐加宽。逐渐加宽。内电场越强,漂移运动内电场越强,漂移运动越强。越强。空间电荷区,空间电荷区,也称耗尽层。也称耗尽层。内电场内电场E E
15、漂移运动漂移运动P P型半导体型半导体N N 型半导体型半导体+扩散运动扩散运动内电场内电场E E所以扩散和漂移这一对相反的运动最终到达平衡,相当于两所以扩散和漂移这一对相反的运动最终到达平衡,相当于两个区之间没有电荷运动,空间电荷区的厚度固定不变。个区之间没有电荷运动,空间电荷区的厚度固定不变。1.1.空间电荷区中没有多数载流子。空间电荷区中没有多数载流子。2.2.空间电荷区中内电场阻碍空间电荷区中内电场阻碍P P区区中的空穴和中的空穴和N N区区中的电子(都是多子)向对方运动(扩散中的电子(都是多子)向对方运动(扩散运动)。运动)。3.3.P P 区中的电子和区中的电子和N N 区中的空穴
16、(都是少子)区中的空穴(都是少子)数量有限,因此由它们形成的电流很小。数量有限,因此由它们形成的电流很小。小结小结(1)加正向电压(正偏)加正向电压(正偏)电源正极接电源正极接P区,负极接区,负极接N区区 外电场的方向与内电场方向相反。外电场的方向与内电场方向相反。外电场削弱内电场外电场削弱内电场 耗尽层变窄耗尽层变窄 扩散运动漂移运动扩散运动漂移运动多子扩散形成正向电流(与外电场方向一致)多子扩散形成正向电流(与外电场方向一致)I I F F正向电流正向电流 1-1-4 1-1-4 PN PN 结的单向导电性结的单向导电性(2)(2)加反向电压加反向电压电源正极接电源正极接N N区,负极接区
17、,负极接P P区区 外电场的方向与内电场方向相同。外电场的方向与内电场方向相同。外电场加强内电场外电场加强内电场耗尽层变宽耗尽层变宽 漂移运动扩散运动漂移运动扩散运动少子漂移形成反向电流少子漂移形成反向电流I I R RP PN N在一定的温度下,由本征激发产生的少子浓度是一定的,故在一定的温度下,由本征激发产生的少子浓度是一定的,故I IR R基本上与外加基本上与外加反压的大小无关,所以称为反压的大小无关,所以称为反向饱和电流反向饱和电流。但但但但I I I IR R R R受温度影响较大受温度影响较大受温度影响较大受温度影响较大。PN PN结加正向电压时,可以有较大的结加正向电压时,可以有
18、较大的正向扩散电流,即呈现低电阻,正向扩散电流,即呈现低电阻,我们称我们称PNPN结导通;结导通;PN PN结加反向电压时,只有很小的反结加反向电压时,只有很小的反向漂移电流,呈现高电阻,向漂移电流,呈现高电阻,我们称我们称PNPN结结截止。截止。这就是这就是PNPN结的单向导电性。结的单向导电性。本次课小结本次课小结1 1、半导体与金属导电的不同(载流子)。、半导体与金属导电的不同(载流子)。2 2、半导体的三大特性。、半导体的三大特性。3 3、本征半导体、热(本征)激发。、本征半导体、热(本征)激发。4 4、掺杂半导体、多子和少子。、掺杂半导体、多子和少子。5 5、PNPN结的形成。结的形
19、成。6 6、PNPN结的单向导电性。结的单向导电性。作业:作业:P.5.1.1.3P.5.1.1.3P.8.1.2.1 1.2.2 1.2.3P.8.1.2.1 1.2.2 1.2.31-2半导体二极管半导体二极管1-2-1 1-2-1 半导体二极管的基本结构半导体二极管的基本结构PN PN 结加上管壳和引线,就成为半导体二极管。结加上管壳和引线,就成为半导体二极管。引线(管脚)引线(管脚)外壳外壳触丝线触丝线基片基片点接触型点接触型PN结结面接触型面接触型PN二极管的电路符号:二极管的电路符号:阳极阳极a+阴极阴极k-1-2-2 1-2-2 伏安特性伏安特性反向击穿反向击穿电压电压UBR死区
20、电压,硅管约死区电压,硅管约0.5V,0.5V,锗管约锗管约0.2V0.2V导通压降导通压降:硅管硅管0.60.60 0.8V,.8V,锗锗管管0.2 0.2 0.4V0.4V。反向饱和漏电流反向饱和漏电流V(V)I(mA)(A)二极管的反向击穿简介二极管的反向击穿简介1-2-3 1-2-3 主要参数主要参数1.1.最大整流电流最大整流电流 I IDMDM二极管长期使用时,允许流过二极管的最大二极管长期使用时,允许流过二极管的最大正向平均电流。正向平均电流。3.3.反向击穿电压反向击穿电压V VBRBR二极管反向击穿时的电压值。击穿时反向电流剧二极管反向击穿时的电压值。击穿时反向电流剧增,二极
21、管的单向导电性被破坏,甚至过热而烧增,二极管的单向导电性被破坏,甚至过热而烧坏。手册上给出的最高反向工作电压坏。手册上给出的最高反向工作电压V VBWMBWM一般是一般是V VBRBR的一半。的一半。2.2.反向工作峰值电压反向工作峰值电压V VBWMBWM保证二极管不被击穿时的反向峰值电压。保证二极管不被击穿时的反向峰值电压。4.4.反向电流反向电流 I IR R指二极管加反向峰值工作电压时的反向电流。指二极管加反向峰值工作电压时的反向电流。反向电流大,说明管子的单向导电性差,因反向电流大,说明管子的单向导电性差,因此反向电流越小越好。反向电流受温度的影此反向电流越小越好。反向电流受温度的影
22、响,温度越高反向电流越大。硅管的反向电响,温度越高反向电流越大。硅管的反向电流较小,锗管的反向电流要比硅管大几十到流较小,锗管的反向电流要比硅管大几十到几百倍。几百倍。5.微变电阻微变电阻 rDiDv vDIDVDQ iD v vDrD 是二极管特性曲线上工是二极管特性曲线上工作点作点Q 附近电压的变化量附近电压的变化量与电流的变化量之比:与电流的变化量之比:显然,显然,rD是对是对Q附近的微小附近的微小变化区域内的电阻。变化区域内的电阻。6.二极管的极间电容二极管的极间电容(结电容)(结电容)*二极管的两极间存在电容效应,对应的等效电容二极管的两极间存在电容效应,对应的等效电容由两局部组成:
23、势垒电容由两局部组成:势垒电容CB和扩散电容和扩散电容CD。*势垒电容:势垒区是积累空间电荷的区域,当电压变化势垒电容:势垒区是积累空间电荷的区域,当电压变化时,就会引起积累在势垒区的空间电荷的变化,这样所表时,就会引起积累在势垒区的空间电荷的变化,这样所表现出的电容是势垒电容。现出的电容是势垒电容。电容效应:当外加电压发生变化时,耗尽层电容效应:当外加电压发生变化时,耗尽层的宽度将随之改变,即的宽度将随之改变,即PNPN结中存储的电荷量结中存储的电荷量要随之变化,就像电容充放电一样。要随之变化,就像电容充放电一样。当外加正向电压不当外加正向电压不同时,同时,PNPN结两侧堆积结两侧堆积的少子
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