第04章场效应管放大电路34页优秀课件.ppt
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1、第第0404章场效应管放大电路章场效应管放大电路3434页页第1页,本讲稿共38页场效应管结型场效应管结型场效应管 场效应晶体管是由场效应晶体管是由一种一种载流子导载流子导电的、电的、用输入电压控用输入电压控制输出电流的半导制输出电流的半导体器件。体器件。从参与导电的载流子来划分,从参与导电的载流子来划分,它有自由电子导电的它有自由电子导电的N N沟道器件沟道器件和和空空穴导电的穴导电的P P沟道器件沟道器件。(简记为。(简记为FETFET)按照场效应管的结构划分,有结型场效应管和绝缘栅型场效应管两大类。1.结构结构与双极型晶体管的比较:与双极型晶体管的比较:1、均有三个引脚(极);2、形状类
2、似;3、都可以实现信号的放大;4、导电原理不同;5、形成电路的特点不同;6、应用场合不同。第2页,本讲稿共38页2.2.工作原理工作原理 N 沟道PN结N沟道场效应管工作时,在栅极栅极与源极源极之间加负电压,栅极与沟道之间的PN结为反偏。在漏极漏极、源极之间加一定正电压,使N沟道中的多数载流子(电子)由源极向漏极漂移,形成iD。iD的大小受VGS的控制。P沟道场效应管工作时,极性相反,沟道中的多子为空穴。注意:N沟道、P沟道的区别类似于三极管中的NPN管和PNP管,我们讨论较多的是N沟道型的FET第3页,本讲稿共38页栅源电压栅源电压V VGSGS对对i iD D的控制作用的控制作用 当当V
3、VGSGS0 0时,时,PNPN结反结反偏,耗尽层变厚,沟道偏,耗尽层变厚,沟道变窄,沟道电阻变大,变窄,沟道电阻变大,I ID D减小;减小;VGS更负,沟道更窄,ID更小;直至沟道被耗尽层全部覆盖,沟道被夹断,ID0。这时所对应的栅源电压VGS称为夹夹断电压断电压VP。(D、S)第4页,本讲稿共38页漏源电压漏源电压V VDSDS对对i iD D的影响的影响 当VDS增加到多少时最上面的一点会合在一起呢?VDS=VP 时,在紧靠漏极处出现预夹断点 首先设VGS=0,VDS逐渐增加:刚开始时随着VDS的增加,电流也基本线性增加;随VDS增大,电压的不均匀性开始显现,而且这种不均匀性会越来越明
4、显。为什么会这样呢?随着VDS的继续增加,夹断区略有增加。为什么?VP当VDS继续增加时,预夹断点向源极方向伸长为预夹断区。由于预夹断区电阻很大,使主要VDS降落在该区,由此产生的强电场力能把未夹断区漂移到其边界上的载流子都吸至漏极,形成漏极饱和电流。(称为饱和电流的原因)第5页,本讲稿共38页(3)(3)伏安特性曲线输出特性曲线恒流恒流区:(又称饱和区或放大区)又称饱和区或放大区)特点:(1)受控性:输入电压vGS控制输出电流(2)恒流性:输出电流iD 基本上不受输出电压vDS的影响。用途:可做放大器和恒流源。条件:(1)栅源沟道未夹断 (2)漏源沟道予夹断 第7页,本讲稿共38页可变电阻区
5、可变电阻区特点特点:(1)(1)当vGS 为定值时,iD 是 vDS 的(近似)线性函数,管子的漏源间呈现为线性电阻,且其阻值受 vGS 控制。(2)管压降vDS 很小。用途:用途:做压控线性电阻和无触点的、闭合状态的电子开关。条件:源端与漏端沟道都不夹断 第8页,本讲稿共38页夹断区夹断区 用途:做无触点的、接通状态的电子开关。条件:整个沟道都夹断 击穿区击穿区 当漏源电压增大到 时,漏端PN结发生雪崩击穿,使iD 剧增的区域。其值一般为(20 50)V之间。管子不能在击穿区工作。特点:第9页,本讲稿共38页总结总结:场效应管在不同的场效应管在不同的v vGSGS 、v vDSDS电压下处在
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- 04 场效应 放大 电路 34 优秀 课件
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