[精选]电镀铜(锡)工艺9792.pptx
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1、 希普励(东莞)化工有限公司 朱俊杰 产品项目经理地址:东莞市附城同沙管理区古二村电话:0769-2290483 传真:0769-2290480手机:013926830569 邮编:523127Email:JJZ Shipley 电 镀 铜/锡 工 艺-苏州金像电子有限公司培训专用 希普励(东莞)化工有限公司 Nov.2001 大多数化学品具有 某些化学品具有 当混合某些化学品时 当干燥或混合某些化学品时“如有疑问需查证”工业安全通孔横截面模型盲孔横截面模型电镀铜工艺n 铜的特性 铜,元素符号Cu,原子量63.5,密度8.89克/立方厘米,Cu2+的电化当量1.186克/安时.铜具有良好的导电
2、性和良好的机械性能.铜容易活化,能够与其他金属镀层形成良好的金属-金属间键合,从而获得镀层间的良好结合力.电镀铜工艺的功能n 电镀铜工艺 在化学沉铜层上通过电解方法沉积金属铜,以提供足够的导电性/厚度及防止导电电路出现热和机械缺陷.电镀铜工艺的功能n 电镀铜层的作用 作为孔的化学沉铜层的加厚层,通过全板镀铜达到厚度5-8微米,称为加厚铜.作为图形电镀锡或镍的底层,其厚度可达20-25微米,称为图形镀铜.(1)鍍層均勻、細致、平整、無麻點、無針孔,有良好外 觀的光亮或半光亮鍍層。(2)鍍層厚度均勻,板面鍍層厚度與孔壁鍍層厚度之比接 近1:1。(3)鍍層與銅基體結合牢固,在鍍後和後續工序的加工過程
3、 中,不會出現起泡、起皮等現象。(4)鍍層導電性好(5)鍍層柔軟性好,延伸率不低于10%,抗張強度20-50Kg/mm2,以保證在後工序波峰焊和熱風整平時,不至于固環氧樹脂 基材上銅鍍層的膨脹系數不同導致鍍銅層産生縱向斷裂(環氧樹脂膨脹系數12.810-5/,銅的膨脹系數0.68 10-5/)对铜镀层的基本要求(1)有良好的分散能力和深鍍能力,即使在很低的電流 密度下,也能得到均勻細致的鍍層,以保證在印制 板的板厚孔徑比較大時,仍能達Ts:Th接近1:1。(2)電流密度範圍寬,如在赫爾槽2A下,全板鍍層均勻 一致。(3)鍍液穩定,便于維護,對雜質的容忍性高,對溫度 的容忍性高。(4)鍍液對覆銅
4、箔板無傷害对镀铜液的基本要求电镀铜的原理电镀液组成(H2O+CuSO4.5H2O+H2SO4+Cl-+添加剂)+-离子交换直流整流器ne-ne-电镀上铜层阴极(受镀物件)镀槽阳极Cu Cu2+2e-Cu2+2e-Cu 硫酸鹽酸性鍍銅的機理電極反應標准電極電位陰極:Cu2+2e Cu。Cu2+/Cu=+0.34V副反應 Cu2+e Cu。Cu2+/Cu=+0.15V Cu+e Cu。Cu+/Cu=+0.51V陽極:Cu-2e Cu2+Cu-e Cu+2Cu+1/2O2+2H+2Cu2+H2O 2Cu+2 H2O 2CuOH+2H+2Cu+Cu2+Cu Cu2O+H2O副反應酸性鍍銅液各成分及特性
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