第8章数字集成电路晶体管级设计课件.ppt
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1、集成电路设计技术与工具集成电路设计技术与工具 第八章第八章 数字集成电路晶体管级设计数字集成电路晶体管级设计 基本要求基本要求v掌握数字集成电路晶体管级设计的设计流程掌握数字集成电路晶体管级设计的设计流程和电路仿真类型;和电路仿真类型;v掌握数字标准单元库的原理和库单元的设计;掌握数字标准单元库的原理和库单元的设计;v掌握焊盘输入单元、输出单元和双向三态单掌握焊盘输入单元、输出单元和双向三态单元的设计。元的设计。内容提要内容提要v8.1 引言引言v8.2 设计流程设计流程v8.3 电路仿真电路仿真v8.4 版图设计版图设计v8.5 设计举例设计举例v8.6 数字电路标准单元库简介数字电路标准单
2、元库简介v8.7 焊焊盘输入输出单元盘输入输出单元8.1 引言引言v数字集成电路数字集成电路是处理数字信号的集成电路。(是处理数字信号的集成电路。(数字信号数字信号:时:时间及幅度离散。幅度,通常取两电平。)间及幅度离散。幅度,通常取两电平。)v数字集成电路设计主要考虑:数字集成电路设计主要考虑:电路的信号传输电路的信号传输速度速度、信号的、信号的延迟延迟、信号的、信号的同步处理同步处理和和异步处理异步处理、信、信号的号的冲突冲突等问题。等问题。v与模拟集成电路相比,由于数字集成电路设计更侧重于电路与模拟集成电路相比,由于数字集成电路设计更侧重于电路的的集成度、工作速度、功耗和噪声容限集成度、
3、工作速度、功耗和噪声容限等性能指标。等性能指标。v数字集成电路晶体管级设计数字集成电路晶体管级设计主要就是设计数字集成电路中的主要就是设计数字集成电路中的非门非门、与非门与非门和和或非门或非门等基本单元。等基本单元。vVLSI vs.小规模小规模 vs.超高速超高速v数字集成电路的基本电路按数字集成电路的基本电路按有源器件有源器件来分类,可来分类,可分为分为双极型晶体管(双极型晶体管(Bipolar Transistor)和和场场效应晶体管效应晶体管(FET)两大类。两大类。v由由双极型晶体管双极型晶体管构成的电路类型包括构成的电路类型包括晶体管逻辑晶体管逻辑(TTL:Transistor-T
4、ransistor-Logic)和)和射极射极耦合逻辑耦合逻辑(ECL:Emitter-Coupled-Logic)。)。v由由场效应晶体管场效应晶体管构成的电路类型分为构成的电路类型分为增强增强/耗尽耗尽(E/D)型)型NMOS、CMOS以及由以及由砷化镓的金属砷化镓的金属半导体半导体FET(MESFET)和和高电子迁移率晶体管高电子迁移率晶体管(HEMT)等构成的逻辑电路。等构成的逻辑电路。8.2 设计流程设计流程 图图8.1给出了给出了数字集成电路晶数字集成电路晶体管级设计的一般流程体管级设计的一般流程,图中各,图中各框图内容分别如下。框图内容分别如下。与模拟设计流程比较:基本设与模拟设
5、计流程比较:基本设计流程相似。不需要进行过于繁计流程相似。不需要进行过于繁琐的参数值估算;琐的参数值估算;通常取最小柵通常取最小柵长长。图8.1 数字集成电路设计流程图数字集成电路设计流程图8.2 设计流程设计流程1)给定逻辑功能及指标)给定逻辑功能及指标 电路逻辑功能电路逻辑功能指的是电路最终要达到的用户需求指的是电路最终要达到的用户需求目标。目标。指标指标指的是电路要达到的性能,包括指的是电路要达到的性能,包括速度速度、功功耗耗和和芯片面积芯片面积。其中速度是指电路能够可靠工作时的。其中速度是指电路能够可靠工作时的最高数据比特率。电路功耗有两种,一种是最高数据比特率。电路功耗有两种,一种是
6、静态功耗静态功耗,另一种是另一种是动态功耗动态功耗。对于集成度大的电路,电路中每。对于集成度大的电路,电路中每一器件的功耗设计得越小越好。电路的物理版图尺寸一器件的功耗设计得越小越好。电路的物理版图尺寸决定芯片的面积大小,因此尽可能决定芯片的面积大小,因此尽可能采用最小的工艺尺采用最小的工艺尺寸来减小芯片面积寸来减小芯片面积。2)晶体管级门电路晶体管级门电路实现实现 明确了要求实现的逻辑功能后,就可以用晶体明确了要求实现的逻辑功能后,就可以用晶体管来实现具有管来实现具有CMOS互补逻辑结构的互补逻辑结构的非门、与非门非门、与非门和或非门和或非门等基本逻辑单元,实现要求的逻辑功能。等基本逻辑单元
7、,实现要求的逻辑功能。3)电路仿真)电路仿真 对于构造好的晶体级电路,可以通过对于构造好的晶体级电路,可以通过Hspice等等软件工具进行电路级仿真,以验证设计的晶体管级软件工具进行电路级仿真,以验证设计的晶体管级电路结构是否满足要求的逻辑功能。电路结构是否满足要求的逻辑功能。4)版图设计与验证)版图设计与验证 完成电路仿真后,就可以根据选用工艺的版图设计规则完成电路仿真后,就可以根据选用工艺的版图设计规则按晶体管级的电路连接关系进行按晶体管级的电路连接关系进行版图设计版图设计和和DRC、LVS等版等版图验证图验证。5)流片和封装测试)流片和封装测试 版图验证通过后,就可以根据最后的版图形成版
8、图验证通过后,就可以根据最后的版图形成GDS-II文文件件送到晶圆制造公司进行送到晶圆制造公司进行流片流片。流片之后的各基本逻辑单元经过在流片之后的各基本逻辑单元经过在晶圆测试晶圆测试,满足性能,满足性能指标后,可以作为指标后,可以作为标准单元标准单元为更高层次的数字集成电路设计为更高层次的数字集成电路设计服务;也可以进行封装测试,作为独立的模块使用。服务;也可以进行封装测试,作为独立的模块使用。8.3 电路仿真电路仿真 数字电路是大信号、高度非线性的电路,数字电路是大信号、高度非线性的电路,因此其仿真内容主要涉及因此其仿真内容主要涉及直流分析(直流分析(.DC)、瞬态分析(瞬态分析(.TRA
9、N)和和温度扫描分析温度扫描分析(.TEMP)等少数几项功能,分别介绍如下。等少数几项功能,分别介绍如下。1)直流特性分析)直流特性分析 用来检验电路的用来检验电路的静态逻辑功能是否正确静态逻辑功能是否正确,由电路漏电流引由电路漏电流引起的静态功耗有多大起的静态功耗有多大,或者是,或者是通过直流扫描分析输出电压通过直流扫描分析输出电压与输入电压关系曲线与输入电压关系曲线等。(与模拟等。(与模拟IC设计的区别)设计的区别)2)瞬态特性分析)瞬态特性分析 瞬态特性分析主要是指瞬态特性分析主要是指时域波形分析时域波形分析。数字集成电路。数字集成电路通过在输入端加通过在输入端加阶跃信号或脉冲信号阶跃信
10、号或脉冲信号,根据瞬态仿真结果,根据瞬态仿真结果得到电路的得到电路的信号波形的逻辑关系信号波形的逻辑关系、延迟时间延迟时间、上升时间上升时间、下降时间下降时间等性能指标,它是一种非线性时域分析。等性能指标,它是一种非线性时域分析。3)温度扫描分析)温度扫描分析 温度扫描分析温度扫描分析是指在进行直流和瞬态分析等是指在进行直流和瞬态分析等电路分析时,设置不同的工作温度,检验温度变电路分析时,设置不同的工作温度,检验温度变化引起器件参数变化后对电路性能的影响。化引起器件参数变化后对电路性能的影响。此外,与模拟集成电路晶体管级仿真一样,此外,与模拟集成电路晶体管级仿真一样,数字集成电路晶体管级仿真也
11、要做数字集成电路晶体管级仿真也要做工艺角仿真工艺角仿真,以检验工艺制造过程中引起的器件参数变化对逻以检验工艺制造过程中引起的器件参数变化对逻辑单元性能的影响。辑单元性能的影响。8.4 版图设计版图设计 与模拟集成电路晶体管级设计一样,版图设计也是数与模拟集成电路晶体管级设计一样,版图设计也是数字集成电路晶体管级设计流程中的一个关键环节。字集成电路晶体管级设计流程中的一个关键环节。在数字集成电路版图布局和布线设计中,则注重其单在数字集成电路版图布局和布线设计中,则注重其单元版图设计的元版图设计的规整性规整性,通常,通常将各单元版图设计成等高不等将各单元版图设计成等高不等宽的结构宽的结构,并且,并
12、且其电源和地线保持等高度和等宽度其电源和地线保持等高度和等宽度,以便,以便于其作为于其作为标准单元库标准单元库在更高层次进行数字集成电路设计时在更高层次进行数字集成电路设计时的自动布线。的自动布线。与模拟版图设计关注点的不同与模拟版图设计关注点的不同 版图寄生器件引起版图寄生器件引起闩锁效闩锁效应(应(Latch-up)是设计是设计CMOS电路版图必须重视的一个问题。电路版图必须重视的一个问题。以左图(以左图(a)所示的)所示的CMOS反相反相器为例讨论这一问题。图(器为例讨论这一问题。图(b)所示的是该反相器版图的剖面所示的是该反相器版图的剖面示意图,其等效电路如图(示意图,其等效电路如图(
13、c)所示,图中的所示,图中的RS、Rw为衬底和为衬底和P阱的体电阻。这两个寄生三极阱的体电阻。这两个寄生三极管构成了一种管构成了一种PNPN的四层可控的四层可控硅(硅(silicon-controlled rectifier,SCR)结构。结构。8.4.1 CMOS电路版图中的闩锁效应电路版图中的闩锁效应CMOS电路中的电路中的寄生寄生PNPN结构结构 8.4.1 CMOS电路版图中的闩锁效应SCR结构结构伏伏-安特性曲线安特性曲线 在正常工作状态下,在正常工作状态下,PNPN四层四层结构之间的电压不会超过结构之间的电压不会超过Vtg,因此,因此它处于它处于截止状态截止状态。在一定的外界因素触
14、发下,例如在一定的外界因素触发下,例如由由电源端或输出端引入一个大的脉冲电源端或输出端引入一个大的脉冲干扰,或者受干扰,或者受射线的瞬时辐照射线的瞬时辐照,使,使PNPN四层结构之间的电压瞬间超过四层结构之间的电压瞬间超过Vtg,这时,该寄生结构中就会出现,这时,该寄生结构中就会出现很大的导通电流。很大的导通电流。只要外部信号源或者只要外部信号源或者VDD和和VSS能够提供能够提供大于维持电流大于维持电流IH的输出的输出,即,即使外界干扰信号已经消失,在使外界干扰信号已经消失,在PNPN四层结构之间的导通电流仍然会维持,四层结构之间的导通电流仍然会维持,这就是所谓的这就是所谓的“闩锁闩锁”现象
15、现象。产生闩锁的基本条件产生闩锁的基本条件有三个:有三个:(1)外界因素使两个寄生三极)外界因素使两个寄生三极管的管的EB结处于结处于正向偏置正向偏置;(2)两个寄生三极管的)两个寄生三极管的电流放电流放大倍数乘积大倍数乘积 ;(具体;(具体推倒过程见课本推倒过程见课本183-184)(3)电源所提供的最大电流大)电源所提供的最大电流大于寄生可控硅导通所需要的于寄生可控硅导通所需要的维维持电流持电流IH。b1b21 v抑制闩锁效应有多项技术,其中最有抑制闩锁效应有多项技术,其中最有效的办法就是效的办法就是减小寄生电阻减小寄生电阻RS和和RW。v 如果这两个电阻为零,则寄生三极如果这两个电阻为零
16、,则寄生三极管管Q1和和Q2永远不会打开。由右图可永远不会打开。由右图可知,这两个电阻的阻值依赖于知,这两个电阻的阻值依赖于阱连接阱连接和衬底连接之间的距离和衬底连接之间的距离。v阱连接和衬底连接之间的距离不但要阱连接和衬底连接之间的距离不但要近,而且接触孔的数目要多近,而且接触孔的数目要多。在。在PMOS管和管和NMOS管之间放置尽可能管之间放置尽可能多的衬底连接和阱连接,能大大减小多的衬底连接和阱连接,能大大减小寄生电阻的阻值,有效抑制闩锁寄生电阻的阻值,有效抑制闩锁。抑制闩锁效应的技术抑制闩锁效应的技术 8.4.2 CMOS数字集成电路版图设计数字集成电路版图设计 下面将以下面将以CMO
17、S反相器反相器为例,讨论一般意义上为例,讨论一般意义上CMOS基本逻辑基本逻辑门的物理版图,以研究物理结构对电路性能的影响。在下图所示门的物理版图,以研究物理结构对电路性能的影响。在下图所示的的CMOS反相器的电路图中,各器件端点间所画的线表示连线。反相器的电路图中,各器件端点间所画的线表示连线。在物理版图中,必须关心不同连线层之间物理上的相互关系。根据在物理版图中,必须关心不同连线层之间物理上的相互关系。根据制造工艺,知道制造工艺,知道N型型MOS管的源区和漏区是管的源区和漏区是N型扩散区;而型扩散区;而P型型MOS管的源区和漏区是管的源区和漏区是P型扩散区。因此,在物理结构上必须有型扩散区
18、。因此,在物理结构上必须有一种实现两种不同类型漏极之间连接的简单方法一种实现两种不同类型漏极之间连接的简单方法。假如工艺上不。假如工艺上不能做隐埋孔接触,能做隐埋孔接触,边条连线就必须采用金属线边条连线就必须采用金属线。用版图符号表示为图用版图符号表示为图8.4(b)所示的反相器的局部符)所示的反相器的局部符号电路版图。按同样的道理,可以用号电路版图。按同样的道理,可以用金属线和接触孔金属线和接触孔制作制作接到电源接到电源VDD和地(和地(VSS)的简单连线,如图)的简单连线,如图8.4(c)所示。)所示。图图8.4(d)画出了最后的符号电路版图。)画出了最后的符号电路版图。(polysili
19、con?)图图8.4反相器电路图到符号电路版图的转换:反相器电路图到符号电路版图的转换:(a)电路图,()电路图,(b)漏极连线,()漏极连线,(c)电源与地线连线,()电源与地线连线,(d)输入与输出连线)输入与输出连线 图图8.4(d)所示的符号电路版图转换成物理版图,如图)所示的符号电路版图转换成物理版图,如图8.5(a)所示。该符号电路版图还可以转换成图)所示。该符号电路版图还可以转换成图8.5(b)所示的另一种物理版图。所示的另一种物理版图。8.4.2 CMOS数字集成电路版图设计图图8.5 反相器版图的两种基本结构:反相器版图的两种基本结构:垂直走向垂直走向(a)和)和水平走向水平
20、走向(b)MOS管结构管结构 8.4.2 CMOS数字集成电路版图设计数字集成电路版图设计(a)金属线从管子中间穿过的水平走向金属线从管子中间穿过的水平走向MOS管结构管结构(b)金属线从金属线从管子上下穿过的走向管子上下穿过的走向MOS管结构管结构(c)有多晶硅线穿过的垂直水平走有多晶硅线穿过的垂直水平走向向MOS管结构管结构图图8.6 有互连线穿过反相器版图的三种结构有互连线穿过反相器版图的三种结构 在版图设计过程中,在版图设计过程中,CMOS反相器还可以有其他不同的反相器还可以有其他不同的版图拓扑结构。如图版图拓扑结构。如图8.6(a)、)、8.6(b)、)、8.6(c)所示。)所示。p
21、olysilicon?几层?几层?大尺寸的反相器通常大尺寸的反相器通常由许多个较小的反相器并联组成由许多个较小的反相器并联组成,各个源区和漏区用一些接触孔和金属线连接在一起各个源区和漏区用一些接触孔和金属线连接在一起,以减小,以减小大大MOS管的源管的源-漏电阻,如图漏电阻,如图8.7(a)所示。另外,如图)所示。另外,如图8.7(b)所示,)所示,背靠背地放置背靠背地放置MOS管,合并邻近的扩散区,管,合并邻近的扩散区,可得到更小的漏区电容可得到更小的漏区电容。采用图。采用图8.7(c)所示的)所示的“星状星状”连连接,可使接,可使漏区电容漏区电容进一步减小进一步减小图图8.7 并联反相器版
22、图:(并联反相器版图:(a)直接并联直接并联,(,(b)共用漏区共用漏区,(,(c)星状连接星状连接 8.4.2 CMOS数字集成电路版图设计边沿边沿D触发器触发器的晶体管级电路图及版图的晶体管级电路图及版图 8.4.2 CMOS数字集成电路版图设计数字集成电路版图设计ACCBAB与非门和或非门电路1)工作原理工作原理 二输入与非门二输入与非门和和二输入或非门二输入或非门晶体管级电路原理图如晶体管级电路原理图如图图8.12所示。所示。(a)(b)图图8.12 二输入与非门二输入与非门(a)和)和二输入或非门二输入或非门(b)CMOS晶体管级电路晶体管级电路2)与非门和或非门电路的设计)与非门和
23、或非门电路的设计 大多数的逻辑门电路均可通过大多数的逻辑门电路均可通过等效反等效反相器相器进行设计,所谓进行设计,所谓等效反相器设计等效反相器设计,实,实际上就是根据晶体管的串并联关系,再根际上就是根据晶体管的串并联关系,再根据等效反相器中相应晶体管的尺寸,直接据等效反相器中相应晶体管的尺寸,直接获得与非门中各晶体管的尺寸的设计方法。获得与非门中各晶体管的尺寸的设计方法。8.5.2 与非门和或非门电路 归归结结起起来来,对对具具有有n个个输输入入端端的的与与非非门门 电电路,其中各路,其中各MOS管的尺寸计算方法为:管的尺寸计算方法为:(1)将将与与非非门门中中的的n个个串串联联NMOS管管等
24、等效效为为反反相相器器中中的的NMOS管管,将将n个个并并联联的的PMOS管管等效为反相器中的等效为反相器中的PMOS管;管;(2)根根据据开开关关时时间间和和有有关关参参数数的的要要求求计计算算出出等等效效反反相相器器中中的的NMOS管管与与PMOS管管的的宽宽长长比;比;(3)考虑到)考虑到NMOS管是串联结构,为保持管是串联结构,为保持下降下降时间不变时间不变,各,各NMOS管的管的等效电阻必须缩小等效电阻必须缩小n倍,亦即它们的宽长比必须是反相器中的倍,亦即它们的宽长比必须是反相器中的NMOS管的宽长比的管的宽长比的n倍倍;(4)为保证在只有一个)为保证在只有一个PMOS晶体管导通的情
25、晶体管导通的情况下,仍能获得所需的况下,仍能获得所需的上升时间上升时间,要求各,要求各PMOS管的宽长比与反相器中管的宽长比与反相器中PMOS管相同管相同。同理,对或非门也可以采用类似的方法计算各同理,对或非门也可以采用类似的方法计算各MOS管尺寸。管尺寸。3)版图实现 根据根据CMOS数字集成电路版图设计基本方法,可以将数字集成电路版图设计基本方法,可以将图图8.12(a)所示的两输入端与非门晶体管级电路图直接)所示的两输入端与非门晶体管级电路图直接转换成图转换成图8.13(a)所示的版图结构。如果将)所示的版图结构。如果将MOS管设计管设计成水平走向,便可得到图成水平走向,便可得到图8.1
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- 关 键 词:
- 数字集成电路 晶体管 设计 课件
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