图解芯片制作工艺流程.ppt
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1、12INTEL 图解芯片制作工艺流程图解芯片制作工艺流程共九个步骤共九个步骤34沙子沙子:硅是地壳内第二丰富的元素,而脱氧后的沙子脱氧后的沙子(尤尤其是石英其是石英)最多包含最多包含25的硅元素的硅元素,以二氧化硅二氧化硅(SiO2)的形式存在,这也是半导体制造产业的基础。56硅熔炼硅熔炼:12英寸/300毫米晶圆级,下同。通过多步净化得到可用于半导体制造质量的硅,学名电电子级硅子级硅(EGS),平均每一百平均每一百万个硅原子中万个硅原子中最多只有一个最多只有一个杂质原子杂质原子。此图展示了是如何通过硅净化熔炼得到大晶体的,最后得到的就是硅锭(Ingot)。7单晶硅锭单晶硅锭:整体基本呈圆柱形
2、,重重约约100千克千克,硅纯度硅纯度99.9999。89 处处理理晶晶圆圆的的机机器器10硅锭切割硅锭切割:横向切割成圆形的单个硅片,也就是我们常说的晶圆(Wafer)。顺便说,这下知道为什么晶圆都是圆形的了吧?11晶圆晶圆:切割出的晶圆经过抛光后变得几乎完美无瑕,表面甚至可以当镜子。事实上,事实上,Intel自己并不生产这种晶圆,而是从第三方半导体企自己并不生产这种晶圆,而是从第三方半导体企业那里直接购买成品,然后利用自己的生产线进一步加工业那里直接购买成品,然后利用自己的生产线进一步加工,比如现在主流的45nm HKMG(高K金属栅极)。值得一提的是,Intel公司创立之初使用的晶圆尺寸
3、只有2英寸/50毫米。12芯芯片片加加工工无无尘尘车车间间1314光刻胶光刻胶(Photo Resist):图中蓝色部分就是在晶圆旋转过程中浇上去的光刻胶液体,类似制作传统胶片的那种。晶圆旋转可以让光刻胶铺的非常薄、非常平。1516光刻光刻:光刻胶层随后透过掩模光刻胶层随后透过掩模(Mask)被曝光在紫外线被曝光在紫外线(UV)之下之下,变得可溶,期间发生的化学反应类似按下机械相机快门那一刻胶片的变化。掩模上印着预先设计好的电路图案,紫外线透过它照在光刻胶层上,就会形成微处理器的每一层电路图案。一般来说,在晶圆上得到的电路图案是掩模上图案的四分之一。17光刻光刻:由此进入50-200纳米尺寸的
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