电容屏Sensor基础知识新创力触控.pptx

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1、电容屏Sensor基础知识新创力触控1Sensor基本常识简介2Glass Sensor与Film Sensor得比较3电容屏ITO制程工艺简介4电容屏Sensor常见不良简介目录目录一、一、Sensor基本常识简介基本常识简介 Sensor:就是电容屏得电信号功能层,其可以就是单层材料构成,也可以就是多层材料形成复合结构,俗称功能片 种类及其特点种类及其特点:Film做做ITO载体得载体得Sensor:厚度优势,未来Film电容屏将越来越薄Glass做做ITO载体得载体得Sensor:可全ITO工艺,OGS结构等Glass ITOFilm ITOSensor基本常识基本常识Film做做ITO

2、载体得工艺载体得工艺:v单层单层:一层ITO层,无屏蔽层,主要用于中小尺寸Film,成本低;v双层双层:两层ITO层,无屏蔽层,大尺寸都倾向于Film,成本低;v三层三层:两层ITO层,一层屏蔽层,工艺步骤多且良率不好控制,Film只能承载单层ITO。Glass做做ITO载体得工艺载体得工艺:v单层搭桥单层搭桥:只需要一片玻璃,一面搭桥做ITO层一面做屏蔽层,主要用于小尺寸得屏,工艺少、成本低、良率好控制;v双层双层:一块玻璃得两面都铺有ITO,由于自电容抗干扰能力弱必须再加一层屏蔽层,导致成本增加但实现工艺比单层容易,通常把一层ITO做到LENS上面,另一块玻璃做ITO层与屏蔽层。二、二、G

3、lass Sensor与与Film Sensor得比较得比较vITO Film(菲林)分为亮面材料与雾面材料。均有不防划伤、防划伤、防牛顿环、防 反射(高透处理)等材质;vITO Glass(导电玻璃)分为普通玻璃与强化玻璃。其中强化玻璃有表面镀膜与离子置换工艺。厚度有2、0mm、1、1mm、0、7mm、0、55mm、0、4mm、0、3mm等规格。结构及其主要材料比较结构及其主要材料比较v ITO 就是一种N型氧化物半导体-氧化铟锡,ITO薄膜即铟锡氧化物半导体透明导电膜,通常有两个性能指标:电阻率与透光率。在氧化物导电膜中,以掺Sn得In2O3(ITO)膜得透过率最高与导电性能最好,而且容易

4、在酸液中蚀刻出细微得图形、其中透光率达90%以上,ITO中其透光率与阻值分别由In2O3与Sn2O3之比例来控制,通常Sn2O3:In2O3=1:9,多用于触控面板、触摸屏、冷光片等。vITO 就是所有电阻技术触屏及电容技术触摸屏都用到得主要材料,实际上电阻与电容技术触摸屏得工作面就就是ITO 涂层。ITO:OCA就是将光学亚克力胶做成无基材,然后在上下底层各贴合一层离型薄膜,就是一种无基体材料得双面贴合胶带。特性特性:高透光率、雾度低、耐紫外线、高粘着力、耐高温、长时间不使用不发黄OCA:Glass Sensor与与Film Sensor得比较得比较市场比较市场比较1、苹果采用得就是Doub

5、le-ITO玻璃电容屏,Sumsung采用得就是Film电容屏;2、目前,HTC、ZTE、MEIZU等都有玻璃电容屏与Film电容屏产品;3、目前市面上得芯片都能支持玻璃电容屏与Film电容屏,因此,客户选择 玻璃电容屏还就是Film电容屏将不限制电容屏芯片与平台之间调制得限制;4、Film电容屏采用印刷工艺制程,设备不需要采用曝光、显影等高端制程,因此相对玻璃电容屏而言,成本较低;5、Film电容屏就是柔性得Film与面板玻璃贴合,贴合容易,而玻璃电容屏就是刚性得玻璃与玻璃贴合,贴合难;6、Film电容屏打样周期短,目前,国内供应商还就是以Film电容屏为主。注注:曝光、显影制程就是一种高端

6、制程、在芯片封装与LCD电极设备中常用,相对印刷而言,其精度高、成本高,但就是电容屏芯片在计算坐标时就是一种权重计算,分辨率低,因此精度高对触摸屏得实际坐标精度提高不明显。最大得优势就是可以使玻璃电容屏得边框能设计很窄。三、电容屏三、电容屏ITO制程工艺简介制程工艺简介丝印工艺丝印工艺(即化学蚀刻法即化学蚀刻法):在绝大多数得场合中,化学蚀刻法就是ITO 图形制备最成熟与可行得技术,它可以根据您得需要,生成目前足够精细得图案与相对比较少得前期投资。随着深紫外线技术在曝光设备上得应用,微米得精度,早已被大多数厂家所实现。它具有高效率、批次稳定性与重复性好、设备投资额低、配套技术完善等诸多优点,目

7、前仍就是大规模生产得主要方向,使用得原料有蚀刻膏、耐酸油墨、光刻胶。v蚀刻膏制程蚀刻膏制程(简称干蚀刻简称干蚀刻):就是直接在产品电极图形区域外印制蚀刻膏,等反应完全后,用蚀刻膏溶剂,一般就是水清洗干净,留下所需得电极图形。因为不用耗费大量得化学物品,对环境污染影响更小,节省大量水、电费、场地费用,前期投资费用低廉,一般得中小型企业都可以掌握大部分技术。该工艺得线宽线距一般要求在0、2mm以上,对丝印网版感光胶要求高。控制要点:温度、蚀刻速度、边缘效应v耐酸油墨制程耐酸油墨制程(简称湿蚀刻简称湿蚀刻):分为UV 型与热固型。它就是在产品电极图形区域内印制阻蚀油墨保护起来,然后把产品浸入化学蚀刻

8、液中,让产品电极图形区域外部分与化学蚀刻液完全反应后,再把阻蚀油墨从产品电极图形表面剥离下来,形成产品电极图形。它得线宽与线距做到0、08mm,仍可以达到95%以上得蚀刻良率 阻蚀油墨得控制要点:针孔度、粘度v保护胶制程保护胶制程:热固型,过酸不过减蚀刻良率较高,成本较高丝印丝印工艺流程工艺流程12大家应该也有点累了，稍作休息大家有疑问的，可以询问和交流大家有疑问的，可以询问和交流大家有疑问的，可以询问和交流大家有疑问的，可以询问和交流激光工艺激光工艺:v ITO 具有反射红外线,吸收紫外线能量得特性。人们利用这两个特性制作了1055nm 与355nm 得激光器,进行ITO 膜图形制备加工。红

9、外线激光加工就是使 ITO 层在高温下汽化挥发,把ITO 去除掉。紫外线激光加工让ITO 层里得原子吸收紫外线能量后自己激化成离子,从ITO 层表面不断逃逸,把ITO 去除掉。v 激光蚀刻法制作 ITO 层有比较严格得线距限制,在图形制备工艺中有相当大得局限性,对那些图形简单得产品如触摸屏、硅片光伏电池、薄膜开关等比较实用。当然,在其它使用ITO 膜得产品中,也经常用来做为ITO 线路短、断路修补使用。v 在激光加工方式中,大尺寸得ITO 膜一般采用矢量图形激光切割ITO 层得方式加工,小尺寸得除了采用矢量切割方式外,也有人使用振镜式图形点阵激光扫描雕刻方式进行快速加工。v 激光加工就是一种非

10、接触性加工,对产品表面处理要求不高,产品表面更容易得到保护,产品品质更能得到保证。由于不用使用化学原料与消耗水资源,更符合环境保护要求,在包含电子信息业得各个产业中,得到迅速得发展与应用,慢慢在往主流加工方式靠拢。目前我司Film Sensor供应商主要采用激光镭雕配合丝印得工艺外围线路采用镭雕工艺、ITO用丝印工艺激光蚀刻工艺流程激光蚀刻工艺流程黄光工艺黄光工艺:v 单面单面ITO:在玻璃基板得同一面上完成X轴与Y轴导线得光刻,X与Y中间镀SiO2等做绝缘。具体流程如下图:v 双面双面ITO:在玻璃基板得金属面与非金属面上分别完成X轴与Y轴导线得光刻。具体流程如下图:黄光工艺黄光工艺:最突出

11、得特点就就是走线间距、线宽很小,可以在有限得空间里实现更复杂得排线克服大尺寸中排线复杂问题,也能满足目前市场上追求得超窄边框得需求;它得电极间距也极小,这显著提高了触摸屏触控时得识别率与感应性能,精细化得蚀刻技术也能显著减少触摸屏得耗电量。该工艺一致性好,良率高,对于比较窄边框得方案以及一些相对高端得案子一般都就是使用该制程,该走线一般走0、03-0、05mm甚至更细。但就是价格会高些,以及对设备要求也高。光罩光罩(Mask)又称铬版、掩膜版、掩光版、光刻版等又称铬版、掩膜版、掩光版、光刻版等,一般为玻璃基材以铬、氧化一般为玻璃基材以铬、氧化铬为掩膜得硬掩膜版铬为掩膜得硬掩膜版,为了防止其变形

12、为了防止其变形,需要竖直存放需要竖直存放,为了保证掩膜版表面得洁为了保证掩膜版表面得洁净度净度,一般要保存在一般要保存在1,000级以上得无尘室内级以上得无尘室内,湿度要维持在湿度要维持在40-60%RH左右得干左右得干燥环境里燥环境里,以防止玻璃出现发霉现象影响光学性能。湿度太高湿会发霉以防止玻璃出现发霉现象影响光学性能。湿度太高湿会发霉,湿度太湿度太干燥会有静电干燥会有静电,容易使光罩吸附异物容易使光罩吸附异物,异物异物容易造成刮伤影响图案得完整性。容易造成刮伤影响图案得完整性。四、电容屏四、电容屏Sensor常见不良简介常见不良简介ITO短路短路不良原因:POSI制作过程中,涂POSI前玻璃基板上有纤维,显影后纤维类异物掉到玻璃上或MASK被污染造成蚀刻后ITO走线短路控制点:显影后外观检查ITO针孔针孔不良原因:1、光刻掩模版质量不好,本身有针孔;2、涂光刻胶时,操作环境被灰尘沾污;3、光刻胶涂得太薄,或光刻胶本身抗蚀性能太差;4、曝光时间控制不好;蚀刻液配比不当;5、玻璃表面本身缺陷也可能造成针孔。ITO划伤划伤不良原因:清洗或制作过程中,玻璃表面受到污染,造成蚀刻后ITO走线断线或缺口控制点:ITO蚀刻后外观检查