《MEMS加工工艺》课件.pptx
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1、MEMS加工工艺PPT课件目录contentsMEMS加工工艺概述MEMS加工工艺流程MEMS加工工艺技术MEMS加工工艺应用MEMS加工工艺挑战与展望MEMS加工工艺案例分析01MEMS加工工艺概述0102MEMS加工工艺定义它涉及使用微细加工技术,如光刻、刻蚀、薄膜沉积等,来制造具有特定功能和结构的微型器件。微电子机械系统(MEMS)加工工艺是一种用于制造微小尺寸(微米或纳米级别)的精密机械和电子系统的技术。随着科技的发展,MEMS技术在许多领域中发挥着越来越重要的作用,如医疗、通信、航空航天等。MEMS加工工艺是实现这些应用的关键技术之一,因为它能够制造出具有优异性能和可靠性的微型器件。
2、MEMS加工工艺重要性自20世纪80年代初以来,MEMS加工工艺经历了多个发展阶段。随后,表面微机械加工技术的出现使得MEMS器件的制造更加灵活和多样化,可以制造出更复杂的结构和功能。MEMS加工工艺发展历程最早的MEMS器件主要采用硅材料和体微机械加工技术,制造出简单的机械结构和传感器。如今,随着新材料和新型制造技术的不断涌现,MEMS加工工艺正朝着更小尺寸、更高精度和更低成本的方向发展。02MEMS加工工艺流程根据生产需求选择合适的单晶硅晶圆,确保晶圆表面平整、无划痕、无杂质。使用特定的清洗剂和工艺去除晶圆表面的杂质和污染,保证后续工艺的顺利进行。原材料准备清洗晶圆选择通过热氧化法在晶圆表
3、面形成一层二氧化硅,作为薄膜沉积的底层。氧化在晶圆表面涂覆一层光敏胶,用于保护不需要进行图形转移的区域。涂胶表面处理物理气相沉积利用物理方法将材料蒸发并沉积在晶圆表面,形成所需的薄膜结构。化学气相沉积通过化学反应将气态前驱体转化为固态薄膜,实现均匀、连续的薄膜生长。薄膜沉积曝光利用紫外光对涂有光敏胶的晶圆进行照射,使光敏胶发生化学反应。显影与去胶将晶圆浸泡在显影液中,使未曝光区域的光敏胶溶解,然后去除多余的光敏胶。图形化处理刻蚀与释放选择性刻蚀利用化学刻蚀剂对暴露的晶圆表面进行刻蚀,形成所需的微结构。去除残胶刻蚀完成后,彻底清洗晶圆表面,去除残余的光敏胶和其他杂质。03MEMS加工工艺技术 表
4、面微加工技术定义表面微加工技术是一种在半导体材料表面进行微细加工的工艺,通过光刻、刻蚀、薄膜沉积等手段在材料表面形成微结构。应用广泛应用于制造各种MEMS传感器和执行器,如加速度计、陀螺仪、压力传感器等。优点工艺成熟、成本低、易于批量生产。03优点可加工大面积、高深宽比的结构,且材料利用率高。01定义体微加工技术是一种对半导体材料进行整体或大面积的加工工艺,通过刻蚀和切割等手段实现材料的整体微细加工。02应用适用于制造结构较复杂、尺寸较大的MEMS器件,如微泵、微阀等。体微加工技术定义01键合与封装技术是MEMS制造过程中的重要环节,通过将多个芯片或器件进行键合集成,并进行密封封装,实现MEM
5、S产品的集成化和模块化。应用02用于将MEMS传感器、执行器等与其他电子器件集成在一起,形成完整的MEMS系统。优点03提高MEMS产品的可靠性和稳定性,保护内部器件免受外界环境的影响。键合与封装技术04MEMS加工工艺应用微传感器应用用于监测空气质量、水质、土壤成分等环境参数,为环境保护和治理提供科学依据。微传感器在环境监测中应用用于监测汽车发动机、排放控制系统、安全气囊等关键部位的温度、压力、流量和气体浓度等参数,提高汽车性能和安全性。微传感器在汽车工业中应用用于监测人体生理参数,如血压、血糖、血氧饱和度等,以及用于药物释放、疾病诊断和治疗等方面。微传感器在医疗领域应用微执行器在机器人领域
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