国际会议论文讲义模板省公共课一等奖全国赛课获奖课件.pptx
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1、Group MeetingDong-Ming Fang April 18,第1页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two weeksCompleted 1Read 2Read 3Read 4Downloaded 5Conceiving 6第2页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实
2、验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two weeksv Completed PPT file for oral speechIn EnglishProper ContentsAbout 35 Pages第3页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeti
3、ng Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two weeksv Thesis draft written by Design 1.Fabrication 2.Measured 3.第4页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two weeksv Processes Informa
4、tion StoragePECVD:SiO2,Si3N4,SiC Sputter:Ti,Au,Pt,Al,Cr,W,PbLPCVD:PolySi,SiO2,Si3N4Si Oxidation:HO,O2,H2OMembraneIon Injection:As+,P+,B+,BF2+Diffusion:P+,B+AdjustingICP:Si,Ti/Al,Cr/Cu,Cr/Pt,Ti/Pt/Au,Pyrex,SiO2RIE:Si,SiO2,Si3N4,SiO2,Solutions:KOH,BHF,HF,H3PO4EtchingAnode(electrostatic),Au-Si,hotBondi
5、ng第5页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two weeks 1.Silicon Microfabrication:.2.MEMS Reliability:.3.NSFC Requisition:.4.Other:Published papers of IMEv References and PPT files 第6页微电子学
6、研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two weeksv Safety and Operation HandbookSafetyExit,Fire extinguisher,Shower equipment,Eye bath systemMSDSHealth hazard,Fire hazard,Specific hazard,React
7、ivityEtching Room600m2,Etching platform,Shelf,Reagent chemicals第7页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Future work in the next weekSimulate.Read Learn 第8页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳
8、米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last weekPassed the 1 Read references 2Simulated and analyzed 3 Design the fabrication 4第9页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Don
9、g-Ming Fang April 18,2008Work in the last weekThe main performance figures.第10页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last month 2.学学习.仿仿真真 1.查阅文件文件 4.进试验室室.3.工工艺制作流程制作流程第11页微电子学研究院微电子学研究院微电子学
10、研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last month试验相相关关 曝光曝光显影影 电镀 甩胶甩胶烘烘胶胶 正胶正胶AZ P4903第12页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming F
11、ang April 18,2008Work in the last month.4.22用用.4.25.大约大约15um第13页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two weeks电镀项目申目申请申申请准准备3.会会议投稿投稿124第14页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室
12、微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two weeks稀释稀释HF溶液溶液HF 0.4mol/L,腐蚀速率:腐蚀速率:室温室温100nm/s,32度时度时200nm/sHF 2.6mol/LHNO3 2.2mol/L32度时度时300nm/sTi湿湿法腐法腐蚀50:1:1 H2O:HF:HNO320:1:1H2O:HF:H2O21:1:20HF:H2O2:HNO3第15页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子
13、学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two weeksI2 0.09mol/LKI 0.6mol/L腐蚀速率:腐蚀速率:室温室温8-15nm/sAu湿湿法腐法腐蚀1:2:1 0I2:KI:H2O25g:7g:100mlBr2:KI:H2O 1:2:3HF:HAc:HNO3第16页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加
14、工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two weeks国家基金对项目要求越来越高基础性基础性前瞻性前瞻性战略性战略性强强调原原创性性提高交叉项目强度和比例强强调学学科交叉科交叉第17页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang Ap
15、ril 18,2008Work in the last two weeks研究实力研究实力写作技巧写作技巧创新思想创新思想一新遮百丑一新遮百丑基金有各种基金有各种伎俩保护伎俩保护创新思想创新思想以往以往研究积累研究积累和研究水平和研究水平准确、清楚、准确、清楚、详细、可行详细、可行研究计划研究计划申请基金三要素申请基金三要素第18页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,20
16、08Work in the last two weeks申请书关键问题申请书关键问题创新性新性主要性主要性实用性用性连续性性可行性可行性科学选题科学选题科学选题科学选题做什做什么么(What)-问题提出提出为何(何(Why)-意意义分析分析怎么怎么做(做(How)-技技术路路线立项依据立项依据立项依据立项依据工作工作积累累试验条条件件人才梯人才梯队支持条件支持条件支持条件支持条件第19页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meetin
17、g Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two weeks立项依据立项依据阐述项目对社会或经济意义阐述项目对社会或经济意义1本本本本项目项目国内外进展情况国内外进展情况国内外进展情况国内外进展情况2提出本项目处理提出本项目处理提出本项目处理提出本项目处理目标目标3强调项目必要性和重要性4第20页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang Apr
18、il 18,2008Work in the last two weeks 研究目标研究目标1 研究内容研究内容2 拟处理关键问题拟处理关键问题3 充分反应特色和创新点充分反应特色和创新点4 预期结果预期结果5研究方案研究方案第21页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two weeks支持条件支持条件以往研究积累以往研究积累1研究
19、者水平和专长研究者水平和专长2研究所需设施和设备研究所需设施和设备3合作研究合作研究4第22页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two weeks题目、内容摘要、主题词题目、内容摘要、主题词研究组组成研究组组成年度计划及预期进展年度计划及预期进展申请经费额度和预算申请经费额度和预算教授和单位推荐意见教授和单位推荐意见其它内容其它
20、内容第23页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Work in the last two monthsPECVD:SiO2,Si3N4,SiC Sputter:Ti,Au,Pt,Al,Cr,W,PbLPCVD:PolySi,SiO2,Si3N4Si Oxidation:HO,O2,H2O薄膜工艺Ion Injection:As+,P+,B+,BF2+Diffusi
21、on:P+,B+调整参数ICP:Si,Ti/Al,Cr/Cu,Cr/Pt,Ti/Pt/Au,Pyrex,SiO2RIE:Si,SiO2,Si3N4,SiO2,Solutions:KOH,BHF,HF,H3PO4刻蚀工艺Anode(electrostatic),Au-Si,hot键合工艺微微电子所工子所工艺信息信息库第24页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-Ming Fang April 18,2008Wor
22、k in the last two monthsMEMS和和IC关键性关键性差异差异IC无可动部件,而无可动部件,而MEMS 器器件能够产生某种运动件能够产生某种运动IC依靠其表面之下各种效应依靠其表面之下各种效应来工作,而来工作,而MEMS 基本上是基本上是靠表面效应工作器件靠表面效应工作器件IC本质上是平面化,本质上是平面化,MEMS普通来说却不是普通来说却不是第25页微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院微电子学研究院 微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室微米纳米加工技术国家级重点实验室Group Meeting Dong-
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